电离层F2层剖面参数的统计分析研究

摘要	第1-8页
ABSTRACT	第8-10页
第一节: 引言	第10-18页
·研究的目的和意义	第10-12页
·研究的历史和现状	第12-16页
·国外剖面参数B0、B1的研究历史和现状	第12-16页
·国内剖面参数B0、B1的研究历史和现状	第16页
·本文内容概要	第16-18页
第二节 电离层F2层剖面参数的获取	第18-30页
·F2层剖面的观测原理和仪器	第18-23页
·电离层垂直探测的基本原理	第18-22页
·电离层测高仪的发展与现状	第22-23页
·F2层剖面反演	第23-28页
·Chebyshev多项式	第24页
·抛物线函数	第24-25页
·Chapman函数	第25-26页
·IRI模式	第26-28页
·SAO-Explorer软件	第28-30页
第三节 中国武汉B0、B1的相关统计分析	第30-47页
·前言	第30页
·数据选取与分析方法	第30-34页
·结果分析	第34-45页
·观测结果分析	第34-40页
·与IRI的比较分析	第40-45页
·总结	第45-47页
第四节 全球B0、B1的相关统计分析	第47-68页
·背景介绍	第47-49页
·数据选取及分析方法	第49-50页
·结果分析	第50-67页
·观测结果分析	第51-57页
·与IRI的比较分析	第57-67页
·总结	第67-68页
第五节 总结与展望	第68-70页
·本文工作总结	第68-69页
·展望	第69-70页
参考文献	第70-73页
附录:完成的学术论文	第73-74页
致谢	第74页