| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-11页 |
| 第一章概述 | 第11-27页 |
| ·ZnS粉末的制备 | 第11-14页 |
| ·ZnS块材的制备 | 第14页 |
| ·ZnS薄膜的制备 | 第14-20页 |
| ·ZnS薄膜在CuIn_xGa_(1-x)Se_2太阳能电池中的应用 | 第20-21页 |
| ·存在的主要问题 | 第21-22页 |
| ·本论文研究内容与两点创新 | 第22页 |
| 参考文献 | 第22-27页 |
| 第二章 实验方法 | 第27-32页 |
| ·实验路线 | 第27页 |
| ·实验原料 | 第27-28页 |
| ·实验过程 | 第28页 |
| ·实验设备 | 第28-31页 |
| 参考文献 | 第31-32页 |
| 第三章 联氨体系的反应过程及组分计算 | 第32-40页 |
| ·反应过程 | 第32页 |
| ·试剂的作用 | 第32-33页 |
| ·络合的形式 | 第33-34页 |
| ·溶液组分配方的计算 | 第34-39页 |
| 参考文献 | 第39-40页 |
| 第四章 组分浓度对薄膜沉积的影响 | 第40-60页 |
| ·氨浓度对薄膜的影响 | 第40-49页 |
| ·组分配方 | 第40页 |
| ·薄膜的外观 | 第40页 |
| ·PH值对薄膜的影响 | 第40-42页 |
| ·薄膜的显微观察(SEM)及成分分析(EDS) | 第42-44页 |
| ·薄膜XRD分析 | 第44-45页 |
| ·薄膜的透过率 | 第45-46页 |
| ·薄膜的消光系数 | 第46-47页 |
| ·薄膜的禁带宽度 | 第47-48页 |
| ·薄膜折射率 | 第48-49页 |
| ·ZnSO_4·7H_2O浓度的影响 | 第49-51页 |
| ·组分配方 | 第49页 |
| ·薄膜表面的宏观观察 | 第49-50页 |
| ·薄膜的透过率 | 第50-51页 |
| ·硫脲浓度的影响 | 第51-55页 |
| ·组分配方 | 第51页 |
| ·硫脲浓度对溶液PH值变化的影响 | 第51-52页 |
| ·薄膜成分分析 | 第52-53页 |
| ·薄膜的透过率 | 第53-54页 |
| ·薄膜的禁带宽度 | 第54-55页 |
| ·联氨浓度的影响 | 第55-57页 |
| ·组分配方 | 第55页 |
| ·联氨浓度对透过率的影响 | 第55-56页 |
| ·联氨浓度对反射率的影响 | 第56-57页 |
| ·小结 | 第57-58页 |
| 参考文献 | 第58-60页 |
| 第五章 温度对制备硫化锌的影响 | 第60-68页 |
| ·组分配方 | 第61页 |
| ·薄膜外观 | 第61页 |
| ·薄膜的SEM图和EDS成分分析 | 第61-63页 |
| ·温度对薄膜沉积速率的影响 | 第63-64页 |
| ·薄膜的透过率与反射率 | 第64-65页 |
| ·薄膜的XRD分析 | 第65-66页 |
| ·薄膜的禁带宽度 | 第66-67页 |
| ·小结 | 第67页 |
| 参考文献 | 第67-68页 |
| 第六章 成膜机理探讨 | 第68-75页 |
| ·成膜机理 | 第68-70页 |
| ·联氨成膜作用的机理初步探讨 | 第70-72页 |
| ·氨体系制备机理 | 第72-73页 |
| ·小结 | 第73-74页 |
| 参考文献 | 第74-75页 |
| 第七章 ZnS薄膜沉积条件的优化 | 第75-81页 |
| ·组分配方 | 第75页 |
| ·薄膜厚度 | 第75-76页 |
| ·薄膜的透过率 | 第76-77页 |
| ·薄膜的消光系数 | 第77-78页 |
| ·薄膜的禁带宽度 | 第78-79页 |
| ·薄膜的折射率 | 第79页 |
| ·小结 | 第79页 |
| 参考文献 | 第79-81页 |
| 第八章 总结 | 第81-84页 |
| 致谢 | 第84页 |