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基于LTCC的3DMIC中内埋无源元件的设计与分析

第一章 绪论第1-16页
 1.1 三维微波集成电路概述第12页
 1.2 低温共烧陶瓷技术第12-14页
 1.3 本课题的来源及意义第14页
 1.4 本论文的主要内容及结构第14-16页
第二章 三维微波集成电路第16-25页
 2.1 微波电路的发展及分类第16-17页
 2.2 三维微波集成电路第17-23页
  2.2.1 三维微波集成电路的发展背景第17-19页
  2.2.2 三维微波集成电路的分类第19-23页
 2.3 三维微波集成电路的技术进展第23-24页
 2.4 结束语第24-25页
第三章 LTCC技术第25-45页
 3.1 引言第25页
 3.2 LTCC技术第25-33页
  3.2.1 LTCC的物理性能第25-26页
  3.2.2 LTCC生瓷带的形成过程第26-27页
  3.2.3 LTCC技术的工艺流程及分析第27-33页
 3.3 LTCC技术的特点及存在的问题第33-39页
  3.3.1 LTCC技术的特点第33-37页
  3.3.2 LTCC技术存在的问题第37-39页
 3.4 LTCC技术的发展现状及其应用领域第39-43页
  3.4.1 LTCC技术的发展现状第39-40页
  3.4.2 LTCC技术的应用领域第40-42页
  3.4.3 LTCC未来技术的展望第42-43页
 3.5 结束语第43-45页
第四章 基于LTCC的内埋无源元件技术第45-51页
 4.1 引言第45-47页
 4.2 内埋电阻第47-48页
 4.3 内埋电容第48-49页
 4.4 内埋电感第49-50页
 4.5 结束语第50-51页
第五章 基于LTCC的内埋电感的设计及分析第51-57页
 5.1 引言第51页
 5.2 基于LTCC的多层螺旋电感的设计第51-53页
  5.2.1 所选工艺参数第51-52页
  5.2.2 多层螺旋电感的结构设计第52-53页
 5.3 关于多层螺旋电感的仿真第53-54页
 5.4 多层螺旋电感测试结构的设计及测试中所需注意的问题第54-55页
  5.4.1 多层螺旋电感测试结构的设计第54-55页
  5.4.2 电感芯片测试中所需注意的问题第55页
 5.5 结束语第55-57页
第六章 总结与展望第57-59页
 6.1 所完成的工作第57页
 6.2 对后续研究的若干建议第57-58页
 6.3 结束语第58-59页
参考文献第59-61页

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