| 摘要 | 第1-7页 |
| Abstract | 第7-9页 |
| 第一章 绪论 | 第9-14页 |
| 1．1 研究背景 | 第9页 |
| 1．2 Zno简介 | 第9-10页 |
| 1．3 研究意义 | 第10页 |
| 1．4 国内外研究现状 | 第10-14页 |
| 第二章 实验设备及检测仪器 | 第14-17页 |
| 2．1 实验设备 | 第14-15页 |
| 2．1．1 衬底清洗设备及制造单位 | 第14页 |
| 2．1．2 磁控溅射镀膜机及其它附属设备及制造单位 | 第14-15页 |
| 2．1．3 主要试剂及制造单位 | 第15页 |
| 2．1．4 衬底及制造单位 | 第15页 |
| 2．2 检测仪器 | 第15-17页 |
| 2．2．1 X射线衍射 | 第15页 |
| 2．2．2 原子力显微镜 | 第15页 |
| 2．2．3 拉曼光谱 | 第15-16页 |
| 2．2．4 紫外-可见吸收谱 | 第16-17页 |
| 第三章 射频磁控溅射制备 ZnO薄膜 | 第17-25页 |
| 3．1 射频磁控溅射靶的制备 | 第17页 |
| 3．1．1 粉末研磨 | 第17页 |
| 3．1．2 压靶 | 第17页 |
| 3．1．3 烧结 | 第17页 |
| 3．2 清洗基片 | 第17-19页 |
| 3．2．1 石英片的清洗 | 第18-19页 |
| 3．2．2 载波片的的清洗 | 第19页 |
| 3．3 纳米 ZnO薄膜的制备 | 第19-23页 |
| 3．3．1 射频磁控溅射原理概述 | 第19-20页 |
| 3．3．2 射频磁控溅射 ZnO薄膜流程 | 第20-23页 |
| 3．4 真空室的操作 | 第23-24页 |
| 3．4．1 真空室的检漏 | 第23页 |
| 3．4．2 真空室及其配件的清洗 | 第23-24页 |
| 3．5 ZnO薄膜的退火处理 | 第24-25页 |
| 第四章 ZnO薄膜的表征 | 第25-33页 |
| 4．1 ZnO薄膜的XRD分析 | 第25-26页 |
| 4．2 ZnO薄膜的AFM分析 | 第26-27页 |
| 4．3 ZnO薄膜的RAMAN分析 | 第27-31页 |
| 4．3．1 拉曼光谱原理 | 第27-28页 |
| 4．3．2 拉曼光谱分析 | 第28-31页 |
| 4．4 ZnO薄膜的UV-Vis分析 | 第31-33页 |
| 第五章 ZnO薄膜光催化性能研究 | 第33-42页 |
| 5．1 光催化原理概述 | 第33-34页 |
| 5．2 光催化降解苯酚实验 | 第34-36页 |
| 5．2．1 测量溶液中苯酚浓度的方法选择 | 第35页 |
| 5．2．2 苯酚被氧化分解后的可能中间产物 | 第35页 |
| 5．2．3 苯酚的性能 | 第35页 |
| 5．2．4 测量的方法选择 | 第35-36页 |
| 5．2．54 一氨基安替比林直接光度法原理 | 第36页 |
| 5．3 薄膜光催化降解苯酚的前期准备 | 第36-38页 |
| 5．3．1 化学试剂配制 | 第36-37页 |
| 5．3．2 苯酚降解溶液的蒸馏分离步骤 | 第37页 |
| 5．3．3 绘制标准曲线 | 第37-38页 |
| 5．4 ZnO薄膜光催化降解苯酚操作 | 第38-40页 |
| 5．4．1 实验装置 | 第38页 |
| 5．4．2 光催化降解苯酚实验固定条件及实验参数 | 第38-39页 |
| 5．4．3 样品测试 | 第39-40页 |
| 5．5 ZnO薄膜光催化降解苯酚讨论与分析 | 第40-42页 |
| 第六章 ZnO薄膜的改性处理及改性后的光催化性能研究 | 第42-61页 |
| 6．1 离子注入 | 第42-44页 |
| 6．1．1 离子注入原理 | 第42页 |
| 6．1．2 离子注入特点 | 第42-43页 |
| 6．1．3 注入 V离子、Ti离子 | 第43-44页 |
| 6．2 制备复合型氧化物薄膜 | 第44页 |
| 6．2．1 制备ZnO-TiO_2、ZnO-SnO_2复合型氧化物薄膜 | 第44页 |
| 6．3 对 ZnO薄膜表面进行贵金属修饰 | 第44-46页 |
| 6．3．1 真空蒸发镀膜法 | 第45-46页 |
| 6．4 改性后薄膜的紫外-可见光吸收图谱 | 第46-52页 |
| 6．5 改性后薄膜的光催化降解苯酚讨论与分析 | 第52-61页 |
| 第七章 论文总结 | 第61-64页 |
| 7．1 结论 | 第61-62页 |
| 7．2 将来有待进行的工作 | 第62-64页 |
| 参考文献 | 第64-69页 |
| 攻读硕士期间发表的论文 | 第69-70页 |
| 致谢 | 第70页 |
