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InGaAsP/InP多量子阱激光器的研究

摘要第1-5页
ABSTRACT第5-9页
第一章 绪论第9-13页
   ·选题背景和研究意义第9-12页
     ·半导体激光器的发展第9-10页
     ·多量子半导体阱激光器的发展第10-11页
     ·半导体激光器的应用第11-12页
   ·论文结构安排第12-13页
第二章 半导体激光器工作原理和FP腔半导体激光器的特性第13-26页
   ·半导体激光器分类第13-14页
   ·半导体激光器的工作原理第14-18页
     ·粒子数反转分布第14页
     ·增益闽值条件第14-16页
     ·增益谱第16页
     ·名义电流密度第16-18页
   ·FP腔激光器的特性第18-25页
     ·光谱特性第18-20页
     ·远场特性第20页
     ·阈值电流密度第20-23页
     ·量子效率第23-25页
   ·本章小结第25-26页
第三章 量子阱激光器的结构和原理第26-40页
   ·量子阱原理第26-28页
     ·掺杂的超晶格第26-27页
     ·量子阱激光器中载流子的能最分布第27-28页
   ·最子阱激光器的工作原理第28-31页
     ·量子阱内载流子的复合第28页
     ·量子阱激光器注入电流与增益第28-30页
     ·增益与量子阱厚度的关系第30-31页
   ·量子阱激光器的结构第31-32页
   ·量子阱激光器的特性第32-38页
     ·量子阱厚度与发射波长的关系第32-33页
     ·阈值电流特性第33-34页
     ·光谱线宽第34页
     ·温度特性第34-35页
     ·量子效率第35-37页
     ·光增益的偏振方向选择性第37页
     ·调制与噪声的关系第37-38页
   ·本章小结第38-40页
第四章 1550 nm InGaAsP/InP FP腔多量子阱激光器的研制第40-57页
   ·材料的选择第40-42页
     ·组分的计算第40-42页
   ·FP腔的结构原理第42页
   ·MOCVD生长调试第42-48页
     ·MOCVD生长第42-44页
     ·MOCVD生长调试过程第44-48页
   ·晶体测试及分析第48-51页
     ·XRD第48-49页
     ·光荧光PL测试第49-51页
   ·研制全结构的多量子阱激光器第51-56页
     ·生长全结构1550nm FP腔量子阱激光器第51-52页
     ·激光器的工艺第52页
     ·制备的激光器第52-54页
     ·激光器测试结果及分析第54-56页
   ·本章小结第56-57页
第五章 Crosslight仿真InP/InGaAsP多量子阱激光器第57-70页
   ·crosslight介绍第57-58页
   ·LASTIP仿真过程第58-62页
     ·输入/输出文件第58-59页
     ·用户界面第59-62页
   ·1550nm InP/InGaAsP多量子阱激光器的仿真及其结果分析第62-69页
     ·仿真条件第62-63页
     ·仿真结果第63-66页
     ·量子阱厚度对激光器阈值电流特性的影响第66-68页
     ·仿真难点分析第68-69页
   ·本章小结第69-70页
参考文献第70-71页
致谢第71页

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