摘要 | 第1-5页 |
ABSTRACT | 第5-9页 |
第一章 绪论 | 第9-13页 |
·选题背景和研究意义 | 第9-12页 |
·半导体激光器的发展 | 第9-10页 |
·多量子半导体阱激光器的发展 | 第10-11页 |
·半导体激光器的应用 | 第11-12页 |
·论文结构安排 | 第12-13页 |
第二章 半导体激光器工作原理和FP腔半导体激光器的特性 | 第13-26页 |
·半导体激光器分类 | 第13-14页 |
·半导体激光器的工作原理 | 第14-18页 |
·粒子数反转分布 | 第14页 |
·增益闽值条件 | 第14-16页 |
·增益谱 | 第16页 |
·名义电流密度 | 第16-18页 |
·FP腔激光器的特性 | 第18-25页 |
·光谱特性 | 第18-20页 |
·远场特性 | 第20页 |
·阈值电流密度 | 第20-23页 |
·量子效率 | 第23-25页 |
·本章小结 | 第25-26页 |
第三章 量子阱激光器的结构和原理 | 第26-40页 |
·量子阱原理 | 第26-28页 |
·掺杂的超晶格 | 第26-27页 |
·量子阱激光器中载流子的能最分布 | 第27-28页 |
·最子阱激光器的工作原理 | 第28-31页 |
·量子阱内载流子的复合 | 第28页 |
·量子阱激光器注入电流与增益 | 第28-30页 |
·增益与量子阱厚度的关系 | 第30-31页 |
·量子阱激光器的结构 | 第31-32页 |
·量子阱激光器的特性 | 第32-38页 |
·量子阱厚度与发射波长的关系 | 第32-33页 |
·阈值电流特性 | 第33-34页 |
·光谱线宽 | 第34页 |
·温度特性 | 第34-35页 |
·量子效率 | 第35-37页 |
·光增益的偏振方向选择性 | 第37页 |
·调制与噪声的关系 | 第37-38页 |
·本章小结 | 第38-40页 |
第四章 1550 nm InGaAsP/InP FP腔多量子阱激光器的研制 | 第40-57页 |
·材料的选择 | 第40-42页 |
·组分的计算 | 第40-42页 |
·FP腔的结构原理 | 第42页 |
·MOCVD生长调试 | 第42-48页 |
·MOCVD生长 | 第42-44页 |
·MOCVD生长调试过程 | 第44-48页 |
·晶体测试及分析 | 第48-51页 |
·XRD | 第48-49页 |
·光荧光PL测试 | 第49-51页 |
·研制全结构的多量子阱激光器 | 第51-56页 |
·生长全结构1550nm FP腔量子阱激光器 | 第51-52页 |
·激光器的工艺 | 第52页 |
·制备的激光器 | 第52-54页 |
·激光器测试结果及分析 | 第54-56页 |
·本章小结 | 第56-57页 |
第五章 Crosslight仿真InP/InGaAsP多量子阱激光器 | 第57-70页 |
·crosslight介绍 | 第57-58页 |
·LASTIP仿真过程 | 第58-62页 |
·输入/输出文件 | 第58-59页 |
·用户界面 | 第59-62页 |
·1550nm InP/InGaAsP多量子阱激光器的仿真及其结果分析 | 第62-69页 |
·仿真条件 | 第62-63页 |
·仿真结果 | 第63-66页 |
·量子阱厚度对激光器阈值电流特性的影响 | 第66-68页 |
·仿真难点分析 | 第68-69页 |
·本章小结 | 第69-70页 |
参考文献 | 第70-71页 |
致谢 | 第71页 |