| 第1章 超硬薄膜概述 | 第1-18页 |
| 1．1 超硬薄膜的分类 | 第10-13页 |
| 1．1．1 单层超硬膜 | 第10-12页 |
| 1．1．2 纳米多层超硬膜 | 第12-13页 |
| 1．1．3 Ti-B-C-N系涂层 | 第13页 |
| 1．2 超硬薄膜的制备 | 第13-16页 |
| 1．2．1 化学气相沉积（CVD）法 | 第14-15页 |
| 1．2．2 物理气相沉积（PVD）法 | 第15-16页 |
| 1．3 超硬薄膜的应用 | 第16-17页 |
| 1．3．1 在摩擦学领域的应用 | 第16页 |
| 1．3．2 在红外光学和激光中的应用 | 第16页 |
| 1．3．3 纳米多层超硬薄膜应用 | 第16-17页 |
| 1．4 超硬薄膜研究现状 | 第17页 |
| 1．5 本章小结 | 第17-18页 |
| 第2章 C_3N_4超硬薄膜 | 第18-25页 |
| 2．1 C_3N_4超硬薄膜的提出 | 第18-19页 |
| 2．2 C_3N_4超硬薄膜理论研究 | 第19-20页 |
| 2．3 CN_x超硬薄膜制备方法 | 第20-22页 |
| 2．3．1 反应溅射 | 第20-21页 |
| 2．3．2 化学气相沉积（CVD） | 第21-22页 |
| 2．3．3 离子注入法 | 第22页 |
| 2．4 CN_x超硬薄膜的测试分析方法 | 第22-23页 |
| 2．5 CN_x超硬薄膜研究现状 | 第23-24页 |
| 2．6 CN_x超硬薄膜未来研究重点 | 第24-25页 |
| 第3章 TiN/CN_x纳米多层超硬薄膜 | 第25-32页 |
| 3．1 纳米多层膜的定义 | 第25页 |
| 3．2 纳米多层膜的超硬效应和超模量效应 | 第25-26页 |
| 3．3 氮化物纳米多层膜 | 第26-27页 |
| 3．4 纳米多层膜的制备 | 第27-32页 |
| 3．4．1 磁控溅射技术原理及特点 | 第28页 |
| 3．4．2 磁控溅射技术的发展现状 | 第28-32页 |
| 第4章 本选题意义和主要研究内容 | 第32-35页 |
| 4．1 选题目的和意义 | 第32-34页 |
| 4．2 主要研究内容 | 第34-35页 |
| 4．2．1 TiN/CN_x复合涂层横截面的显微组织特征研究 | 第34页 |
| 4．2．2 TiN/CN_x复合涂层的断口形态特征研究 | 第34页 |
| 4．2．3 薄膜制备工艺参数及其对性能的影响 | 第34页 |
| 4．2．4 纳米多层膜获得最大硬度周期模型 | 第34-35页 |
| 第5章 试验材料和方法 | 第35-37页 |
| 5．1 试验材料 | 第35页 |
| 5．2 SEM样品制备 | 第35页 |
| 5．3 TEM样品制备 | 第35-36页 |
| 5．4 断口分析样品制备 | 第36页 |
| 5．5 主要实验设备 | 第36-37页 |
| 第6章 TiN/CN_x复合涂层的显微组织特征研究 | 第37-43页 |
| 6．1 涂层横截面SEM组织特征 | 第37-39页 |
| 6．2 结果分析 | 第39-43页 |
| 第7章 TiN/CN_x复合涂层的断口形态特征研究 | 第43-52页 |
| 7．1 涂层断口特征 | 第43-47页 |
| 7．2 结果分析 | 第47-52页 |
| 第8章 工艺参数对TiN/CN_x超硬复合涂层显微结构及性能的影响 | 第52-63页 |
| 8．1 实验目的 | 第52页 |
| 8．2 主要工艺参数及性能的关系 | 第52-53页 |
| 8．3 三种样品的横截面典型显微组织及断口特征 | 第53-54页 |
| 8．4 讨论 | 第54-60页 |
| 8．4．1 TiN/CN_x超硬复合涂层的相结构分析 | 第54-56页 |
| 8．4．2 工艺参数对沉积速率（即膜厚）的影响 | 第56-57页 |
| 8．4．3 工艺参数对表面形貌的影响 | 第57页 |
| 8．4．4 工艺参数对涂层性能的影响 | 第57-60页 |
| 8．5 复合涂层生长机理探讨 | 第60-61页 |
| 8．6 本章小结 | 第61-63页 |
| 第9章 纳米多层膜获得最大硬度的周期模型 | 第63-68页 |
| 9．1 前言 | 第63页 |
| 9．2 获得最大硬度的调制周期模型 | 第63-65页 |
| 9．3 模型验证 | 第65-66页 |
| 9．4 讨论 | 第66页 |
| 9．5 结论 | 第66-68页 |
| 第10章 全文总结 | 第68-69页 |
| 参考文献 | 第69-75页 |
| 致谢 | 第75-76页 |
| 在读期间发表论文情况 | 第76页 |
