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飞秒激光烧蚀硅的分子动力学模拟

摘要第1-11页
ABSTRACT第11-13页
第一章 绪论第13-35页
   ·飞秒激光烧蚀的应用第13-16页
     ·军用第13-15页
     ·民用第15-16页
   ·飞秒激光的烧蚀机理第16-18页
   ·激光烧蚀的研究方法第18-20页
     ·实验研究第18页
     ·数值模拟第18-20页
   ·飞秒激光烧蚀硅的分子动力学研究进展第20-27页
     ·激光-硅相互作用模型第20-24页
     ·研究结果第24-27页
   ·本文的主要研究内容第27-28页
 参考文献第28-35页
第二章 分子动力学模拟技术第35-57页
   ·基本原理第35-37页
     ·适用范围第36页
     ·模拟步骤第36-37页
   ·硅的经验势第37-38页
   ·受力计算的优化方法第38-40页
     ·近邻列表算法第39-40页
     ·细分单元法第40页
   ·初始条件和边界条件第40-45页
     ·初始条件第40-43页
     ·边界条件第43-45页
   ·运动方程的差分方法第45-48页
     ·Verlet 算法第45-46页
     ·Adams 算法第46-48页
   ·感兴趣量的提取第48-49页
     ·能量第48页
     ·温度第48-49页
     ·压力第49页
   ·平衡过程的控制第49-51页
     ·NVT EMD 模拟第50页
     ·NVE EMD 模拟第50-51页
   ·程序的实现第51-54页
     ·并行方案第51-52页
     ·单位制第52页
     ·程序流程第52-54页
   ·本章小结第54-55页
 参考文献第55-57页
第三章 硅的经验势函数对比与平衡态分子动力学模拟第57-75页
   ·硅的经验势的对比研究第57-67页
     ·经验势的形式第57-61页
     ·经验势的对比研究第61-65页
     ·由SW 势导出的原子间相互作用力第65-67页
   ·平衡态分子动力学模拟第67-73页
     ·初始条件第67-68页
     ·FREE EMD 模拟第68-70页
     ·NVT EMD 模拟第70页
     ·NVE EMD 模拟第70-72页
     ·模拟时间第72-73页
   ·本章小结第73页
 参考文献第73-75页
第四章 飞秒激光烧蚀现象第75-98页
   ·物理模型第76-79页
     ·三维“x-分区”模型的具体实现第76-78页
     ·能量转化的具体实现第78页
     ·算例简介第78-79页
   ·烧蚀现象第79-86页
     ·光斑完全覆盖材料表面第79-83页
     ·光斑面积小于材料表面积第83-86页
   ·应力波现象第86-92页
     ·激光影响区的应力波第86-90页
     ·晶体区的应力波第90-92页
   ·SI(100)与SI(111)烧蚀现象的对比第92-96页
     ·烧蚀形貌第93-95页
     ·应力波速度第95-96页
   ·本章小结第96-97页
 参考文献第97-98页
第五章 激光参数对烧蚀现象的影响第98-116页
   ·脉宽和光强的影响第99-103页
     ·烧蚀现象第99-101页
     ·阈值效应第101-103页
   ·激光空间谱的影响第103-107页
     ·高斯激光第103页
     ·高斯激光的烧蚀现象第103-107页
   ·波长的影响第107-110页
   ·加载方式的影响第110-114页
   ·本章小结第114-115页
 参考文献第115-116页
第六章 全文总结第116-120页
   ·本文创新点第116页
   ·本文主要结论第116-118页
   ·研究展望第118-120页
致谢第120-121页
作者在学期间取得的学术成果第121-122页
附录A 基本物理常量第122-123页
附录B Maxwell-Boltzmann 速度分布第123-125页
附录C 算例列表第125页

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