| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-12页 |
| 第一章 前言 | 第12-14页 |
| 第二章 文献综述 | 第14-32页 |
| ·ZnO的基本性质 | 第14-18页 |
| ·ZnO的基本结构 | 第14-16页 |
| ·ZnO的光电性质 | 第16-17页 |
| ·ZnO的其它性质 | 第17-18页 |
| ·ZnO的本征缺陷与n型掺杂 | 第18-20页 |
| ·ZnO的本征缺陷 | 第18-19页 |
| ·ZnO的非故意掺杂 | 第19-20页 |
| ·ZnO的n型掺杂 | 第20页 |
| ·ZnO的p型掺杂 | 第20页 |
| ·ZnO透明导电薄膜的制备及研究进展 | 第20-24页 |
| ·ITO及SnO2透明导电薄膜的研究现状 | 第20-21页 |
| ·ZnO透明导电薄膜的前景及研究现状 | 第21-24页 |
| ·Zn_(1-x)Mg_xO薄膜的基本性质、用途及研究现状 | 第24-29页 |
| ·Zn_(1-x)Mg_xO三元合金薄膜结构 | 第25页 |
| ·Zn_(1-x)Mg_xO薄膜研究进展 | 第25-29页 |
| ·本文的选题依据和研究内容 | 第29-32页 |
| 第三章 实验设备及原理、薄膜制备过程及性能表征 | 第32-40页 |
| ·直流反应磁控溅射技术原理 | 第32-34页 |
| ·实验设备 | 第34-35页 |
| ·薄膜的制备过程 | 第35-37页 |
| ·靶材的制备 | 第35-36页 |
| ·衬底及其清洗 | 第36-37页 |
| ·直流反应磁控溅射技术制备ZnO薄膜的过程 | 第37页 |
| ·性能表征 | 第37-40页 |
| 第四章 ZnO:Ga薄膜的特性分析 | 第40-78页 |
| ·Ga掺杂对ZnO薄膜各方面性能的影响 | 第40-45页 |
| ·Ga掺杂对ZnO薄膜结构性能的影响 | 第40-41页 |
| ·Ga掺杂对ZnO表面形貌的影响 | 第41-45页 |
| ·小结 | 第45页 |
| ·氧分压对ZnO:Ga薄膜特性的影响 | 第45-53页 |
| ·氧分压对ZnO:Ga薄膜中Ga含量的影响 | 第46-47页 |
| ·氧分压对ZnO:Ga薄膜结构性能的影响 | 第47-49页 |
| ·薄膜厚度随氧分压的变化 | 第49页 |
| ·氧分压对ZnO:Ga薄膜电学性能的影响 | 第49-51页 |
| ·氧分压对ZnO:Ga薄膜光学性能的影响 | 第51-52页 |
| ·小结 | 第52-53页 |
| ·薄膜厚度对ZnO:Ga薄膜性能的影响 | 第53-62页 |
| ·薄膜厚度随溅射时间的变化关系 | 第54页 |
| ·薄膜厚度对ZnO:Ga薄膜结构性能的影响 | 第54-57页 |
| ·薄膜表面形貌与其厚度的关系 | 第57-60页 |
| ·薄膜电学性能与其厚度的关系 | 第60-61页 |
| ·薄膜光学性能与其厚度的关系 | 第61页 |
| ·小结 | 第61-62页 |
| ·退火气氛对ZnO:Ga薄膜特性的影响 | 第62-69页 |
| ·ZnO:Ga薄膜的制备及表征 | 第62-64页 |
| ·退火对ZnO:Ga薄膜各项性能的影响 | 第64-69页 |
| ·小结 | 第69页 |
| ·不同衬底对ZnO:Ga薄膜性能的影响 | 第69-72页 |
| ·结构性能 | 第69-71页 |
| ·表面形貌 | 第71页 |
| ·电学性能 | 第71-72页 |
| ·小结 | 第72页 |
| ·ZnO:Ga薄膜、Zn_(1-x)Mg_xO与能带调节 | 第72-78页 |
| ·载流子浓度可调的ZnO:Ga薄膜的制备 | 第73-75页 |
| ·Zn_(1-x)Mg_xO薄膜的制备 | 第75-76页 |
| ·两种使能带展宽的方法的比较 | 第76-78页 |
| 第五章 ZnO基透明电极及透明发热器件的制备 | 第78-90页 |
| ·ZnO基透明电极的制备及表征 | 第78-81页 |
| ·ZnO基透明电极的制备 | 第78-79页 |
| ·ZnO基透明电极的表征 | 第79-81页 |
| ·小结 | 第81页 |
| ·ZnO基透明发热薄膜的制备 | 第81-90页 |
| ·ZnO基发热器件的制备 | 第82-87页 |
| ·ZnO基发热器件的发热性能 | 第87-88页 |
| ·小结 | 第88-90页 |
| 第六章 Zn_(1-x)Mg_xO三元合金薄膜的制备与表征 | 第90-106页 |
| ·衬底温度对Zn_(1-x)Mg_xO薄膜性能的影响 | 第90-98页 |
| ·衬底温度对Zn_(1-x)Mg_xO薄膜中Mg含量的影响 | 第90-91页 |
| ·衬底温度对Zn_(1-x)Mg_xO薄膜结构性能的影响 | 第91-94页 |
| ·衬底温度对Zn_(1-x)Mg_xO薄膜表面形貌的影响 | 第94-97页 |
| ·衬底温度对Zn_(1-x)Mg_xO薄膜光学性能的影响 | 第97页 |
| ·小结 | 第97-98页 |
| ·生长气氛对Zn_(0.9)Mg_(0.1)O薄膜性能的影响 | 第98-106页 |
| ·生长气氛对Zn_(0.9)Mg_(0.1)O薄膜结构性能的影响 | 第98-99页 |
| ·Zn_(0.9)Mg_(0.1)O薄膜的XPS分析: | 第99-100页 |
| ·生长气氛对Zn_(0.9)Mg_(0.1)O薄膜光学性能的影响 | 第100-102页 |
| ·生长气氛对Zn_(1-x)Mg_xO薄膜光学性能的影响 | 第102-103页 |
| ·小结 | 第103-106页 |
| 第七章 结论 | 第106-108页 |
| 第八章 ZnO基透明导电材料及器件的应用前景及我们的思考 | 第108-110页 |
| 参考文献 | 第110-117页 |
| 致谢 | 第117-118页 |
| 附录Ⅰ 攻读硕士学位期间发表或录用的论文及专利 | 第118页 |
