摘要 | 第1-6页 |
ABSTRACT | 第6-8页 |
目录 | 第8-10页 |
第一章 绪论 | 第10-15页 |
·光电子集成器件的发展现状 | 第10-11页 |
·新材料的研究对光电子集成的意义 | 第11-12页 |
·论文结构安排 | 第12-14页 |
参考文献 | 第14-15页 |
第二章 第一性原理计算的理论基础和 CASTEP简介 | 第15-30页 |
·密度泛函理论(DFT) | 第15-22页 |
·HOHENBERG-KOHN定理与KOHN-SHAM方程 | 第16-19页 |
·局域密度近似(LDA)与广义梯度近似(GGA) | 第19-21页 |
·Kohn-Sham方程平面波表达 | 第21-22页 |
·电子与离子相互作用膺势近似 | 第22-24页 |
·第一性原理的算法及 CASTEP软件特点 | 第24-27页 |
·本章小结 | 第27-28页 |
参考文献 | 第28-30页 |
第三章 三元系材料 GaAs_(1-x)N_x、B_xGa_(1-x)Sb合金能隙及形成焓的理论研究 | 第30-55页 |
·理论基础 | 第30-37页 |
·晶胞组成介绍 | 第30-32页 |
·Vegard的定理 | 第32页 |
·建模方法和团簇近似 | 第32-35页 |
·半导体材料的能带结构和形成焓 | 第35-37页 |
·III-V化合物半导体的基本特征 | 第37-43页 |
·二元系的晶格结构 | 第37-38页 |
·GaAs,GaN,GaSb和 BSb的电子性质 | 第38-43页 |
·GaAsN材料的第一性原理计算 | 第43-47页 |
·GaAsN的晶格常数 | 第43-44页 |
·GaAsN的能带结构 | 第44-46页 |
·GaAsN的形成焓和总能量的计算 | 第46-47页 |
·BGaSb材料的第一性原理计算 | 第47-51页 |
·BGaSb的晶格常数 | 第47-48页 |
·BGaSb的能带结构 | 第48-50页 |
·BGaSb形成焓和总能量的计算 | 第50-51页 |
·本章小结 | 第51-52页 |
参考文献 | 第52-55页 |
第四章 含硼光电子材料的实验生长和测试 | 第55-66页 |
·BAlAs的外延生长和测试 | 第55-59页 |
·BAlAs/GaAs(001)生长的实验方案 | 第55-57页 |
·BAlAs/GaAs(001)的DCXRD测量结果分析 | 第57-59页 |
·BGaInAs的外延生长和测试 | 第59-62页 |
·BGaInAs/GaAs(001)的外延生长实验方案 | 第59-60页 |
·BGaInAs/GaAs(001)的DCXRD测量结果分析 | 第60-61页 |
·BGaInAs/GaAs(001)的SIMS测量结果分析 | 第61-62页 |
·BGaAs/GaAs和BGaInAs/GaAs多量子阱 | 第62-64页 |
·BGaAs/GaAs和BGaInAs/GaAs多量子阱生长的实验方案 | 第62-63页 |
·BGaAs/GaAs和BGaInAs/GaAs多量子阱DCXRD测量结果 | 第63-64页 |
·本章小结 | 第64-65页 |
参考文献 | 第65-66页 |
致谢 | 第66-68页 |
攻读硕士学位期间发表的论文 | 第68页 |