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含硼光电子材料的第一性原理计算及实验研究

摘要第1-6页
ABSTRACT第6-8页
目录第8-10页
第一章 绪论第10-15页
   ·光电子集成器件的发展现状第10-11页
   ·新材料的研究对光电子集成的意义第11-12页
   ·论文结构安排第12-14页
 参考文献第14-15页
第二章 第一性原理计算的理论基础和 CASTEP简介第15-30页
   ·密度泛函理论(DFT)第15-22页
     ·HOHENBERG-KOHN定理与KOHN-SHAM方程第16-19页
     ·局域密度近似(LDA)与广义梯度近似(GGA)第19-21页
     ·Kohn-Sham方程平面波表达第21-22页
   ·电子与离子相互作用膺势近似第22-24页
   ·第一性原理的算法及 CASTEP软件特点第24-27页
   ·本章小结第27-28页
 参考文献第28-30页
第三章 三元系材料 GaAs_(1-x)N_x、B_xGa_(1-x)Sb合金能隙及形成焓的理论研究第30-55页
   ·理论基础第30-37页
     ·晶胞组成介绍第30-32页
     ·Vegard的定理第32页
     ·建模方法和团簇近似第32-35页
     ·半导体材料的能带结构和形成焓第35-37页
   ·III-V化合物半导体的基本特征第37-43页
     ·二元系的晶格结构第37-38页
     ·GaAs,GaN,GaSb和 BSb的电子性质第38-43页
   ·GaAsN材料的第一性原理计算第43-47页
     ·GaAsN的晶格常数第43-44页
     ·GaAsN的能带结构第44-46页
     ·GaAsN的形成焓和总能量的计算第46-47页
   ·BGaSb材料的第一性原理计算第47-51页
     ·BGaSb的晶格常数第47-48页
     ·BGaSb的能带结构第48-50页
     ·BGaSb形成焓和总能量的计算第50-51页
   ·本章小结第51-52页
 参考文献第52-55页
第四章 含硼光电子材料的实验生长和测试第55-66页
   ·BAlAs的外延生长和测试第55-59页
     ·BAlAs/GaAs(001)生长的实验方案第55-57页
     ·BAlAs/GaAs(001)的DCXRD测量结果分析第57-59页
   ·BGaInAs的外延生长和测试第59-62页
     ·BGaInAs/GaAs(001)的外延生长实验方案第59-60页
     ·BGaInAs/GaAs(001)的DCXRD测量结果分析第60-61页
     ·BGaInAs/GaAs(001)的SIMS测量结果分析第61-62页
   ·BGaAs/GaAs和BGaInAs/GaAs多量子阱第62-64页
     ·BGaAs/GaAs和BGaInAs/GaAs多量子阱生长的实验方案第62-63页
     ·BGaAs/GaAs和BGaInAs/GaAs多量子阱DCXRD测量结果第63-64页
   ·本章小结第64-65页
 参考文献第65-66页
致谢第66-68页
攻读硕士学位期间发表的论文第68页

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