摘要 | 第1-4页 |
ABSTRACT | 第4-9页 |
第一章 绪论 | 第9-18页 |
·气敏传感器定义及分类 | 第9-10页 |
·W0_3 薄膜气敏传感器 | 第10-13页 |
·W0_3的晶体结构 | 第10-11页 |
·W0_3气敏传感器的工作原理 | 第11-13页 |
·W0_3 薄膜气敏传感器研究现状 | 第13-16页 |
·实验方面研究动态 | 第14-15页 |
·理论方面研究动态 | 第15-16页 |
·本课题研究目标和研究内容 | 第16-18页 |
第二章 计算理论基础和相关软件介绍 | 第18-25页 |
·密度泛函理论(DFT) | 第18-21页 |
·多电子体系的薛定谔(Schrodinger)方程 | 第18-19页 |
·Hohenberg-Kohn 定理 | 第19-20页 |
·Kohn-Sham 方程 | 第20-21页 |
·交换-关联相关能近似 | 第21页 |
·赝势平面波 | 第21-22页 |
·CASTEP 软件介绍 | 第22-23页 |
·本文计算设计方案 | 第23-24页 |
·参数设置 | 第24-25页 |
第三章 表面掺杂改性三氧化钨晶体的第一性原理计算 | 第25-36页 |
·引言 | 第25页 |
·W0_3 晶体结构的建立及优化 | 第25-29页 |
·W0_3晶体几何结构 | 第25-26页 |
·W0_3晶体能带结构和态密度图 | 第26-29页 |
·W0_3 表面模型的建立及优化 | 第29-31页 |
·W0_3表面真空层模型的建立 | 第29-30页 |
·W0_3 (002)表面结构与性能 | 第30-31页 |
·Ti 掺杂W0_3(002)面掺杂模型及其性质 | 第31-35页 |
·Ti 掺杂W0_3(002)面最佳掺杂模型的建立 | 第31-33页 |
·Ti-W0_3(002)能带结构和态密度图 | 第33-35页 |
·本章小结 | 第35-36页 |
第四章 表面掺杂改性三氧化钨对N0_2气体敏感机理的研究 | 第36-46页 |
·引言 | 第36页 |
·Ti-W0_3(002)表面N0_2吸附模型建立 | 第36-39页 |
·N0_2 分子模型建立 | 第36-37页 |
·表面吸附结构的建立 | 第37-38页 |
·最佳吸附模型的确定 | 第38-39页 |
·Ti-W0_3(002)面吸附N0_2 气敏机理研究 | 第39-45页 |
·N0_2在Ti-W0_3(002)吸附对表面几何结构的影响 | 第39-40页 |
·N0_2在Ti-W0_3(002)吸附对表面电导的影响 | 第40-43页 |
·N0_2在Ti-W0_3的(002)吸附前后电子布居分布的分析 | 第43-45页 |
·本章小结 | 第45-46页 |
第五章 表面掺杂改性三氧化钨对NH_3气体敏感机理的研究 | 第46-54页 |
·引言 | 第46页 |
·Ti-W0_3(002)表面NH_3吸附模型建立 | 第46-49页 |
·NH_3 分子模型建立 | 第46-47页 |
·表面吸附结构的建立 | 第47-48页 |
·最佳吸附模型的确定 | 第48-49页 |
·Ti-W0_3(002)面吸附NH_3 气敏机理研究 | 第49-53页 |
·NH_3在Ti-W0_3(002)吸附对表面几何结构的影响 | 第49-50页 |
·NH_3在Ti-W0_3(002)吸附对表面电导的影响 | 第50-52页 |
·NH_3在Ti-W0_3的(002)吸附前后电子布居分布的分析 | 第52-53页 |
·本章小结 | 第53-54页 |
第六章 表面掺杂改性三氧化钨对H_2气体敏感机理的研究 | 第54-63页 |
·引言 | 第54-55页 |
·W0_3 薄膜H_2 敏感机理 | 第55-59页 |
·W0_3(002)表面H_2吸附模型建立及最佳模型的确定 | 第55-56页 |
·H_2在W0_3(002)吸附对表面几何结构的影响 | 第56-57页 |
·H_2在W0_3(002)吸附对表面电导的影响 | 第57-58页 |
·H_2在W0_3(002)吸附前后电子布居分布的分析 | 第58-59页 |
·Ti 表面改性的W0_3 薄膜H_2 敏感机理 | 第59-62页 |
·Ti-W0_3(002)表面H_2最佳吸附模型的建立及最佳模型确立 | 第59页 |
·H_2在Ti-W0_3(002)吸附对表面几何结构的影响 | 第59-60页 |
·H_2在 Ti-WO_3(002)吸附对表面电导的影响 | 第60-61页 |
·H_2在Ti-W0_3(002)吸附前后电子布居分布的分析 | 第61-62页 |
·本章小结 | 第62-63页 |
第七章 总结与展望 | 第63-66页 |
·全文总结 | 第63-64页 |
·工作展望 | 第64-66页 |
参考文献 | 第66-71页 |
发表论文和参加科研情况说明 | 第71-72页 |
致谢 | 第72页 |