| 摘要 | 第4-5页 |
| Abstract | 第5-6页 |
| 第一章 绪论 | 第12-26页 |
| 1.1 研究背景 | 第12页 |
| 1.2 薄膜的简介 | 第12-14页 |
| 1.3 非晶材料的研究发展 | 第14-16页 |
| 1.4 非晶薄膜的制备方法 | 第16-18页 |
| 1.5 溅射与薄膜的生长 | 第18-24页 |
| 1.5.1 等离子体的形成 | 第19页 |
| 1.5.2 粒子轰击靶材 | 第19-21页 |
| 1.5.3 原子的转移 | 第21-22页 |
| 1.5.4 成核与生长 | 第22-24页 |
| 1.6 氮化锆薄膜 | 第24-26页 |
| 第二章 实验方法与仪器表征 | 第26-42页 |
| 2.1 样品制备 | 第26-28页 |
| 2.1.1 原料准备 | 第26-27页 |
| 2.1.2 基片处理 | 第27-28页 |
| 2.1.3 溅射镀膜 | 第28页 |
| 2.2 射频磁控溅射 | 第28-31页 |
| 2.3 掠入射X射线衍射(GIXRD)检测 | 第31-32页 |
| 2.3.1 掠入射X射线简介 | 第31-32页 |
| 2.3.2 掠入射X射线测量 | 第32页 |
| 2.4 透射电镜(TEM)观测 | 第32-36页 |
| 2.4.1 透射电镜工作原理 | 第33-34页 |
| 2.4.2 透射电镜样品的制备过程 | 第34-35页 |
| 2.4.3 透射电镜 | 第35-36页 |
| 2.5 原子力显微镜(AFM)检测 | 第36-40页 |
| 2.5.1 原子力显微镜(AFM)的工作原理 | 第36-39页 |
| 2.5.2 原子力显微镜(AFM)的成像模式 | 第39-40页 |
| 2.6 扫描电子显微镜(SEM)和纳米压痕仪 | 第40-42页 |
| 第三章 氮化锆ZrN薄膜微结构的研究 | 第42-61页 |
| 3.1 锆基表面非晶氮化锆薄膜的制备 | 第42-46页 |
| 3.1.1 锆合金基底的处理 | 第42-45页 |
| 3.1.2 氮化锆靶材溅射样品 | 第45-46页 |
| 3.2 GIXRD对氮化锆薄膜的表征 | 第46-51页 |
| 3.2.1 X射线穿透深度与入射角α之间关系 | 第46-49页 |
| 3.2.2 不同溅射气压条件下的GIXRD分析 | 第49-51页 |
| 3.3 TEM对氮化锆薄膜的表征 | 第51-53页 |
| 3.4 SEM对氮化锆薄膜表面和截面形貌结构的表征 | 第53-56页 |
| 3.5 AFM对氮化锆薄膜表面粗糙度的表征 | 第56-59页 |
| 3.6 本章小结 | 第59-61页 |
| 第四章 氮化锆ZrN薄膜机械力学性能研究 | 第61-65页 |
| 4.1 纳米压痕仪表征氮化锆薄膜的硬度和弹性模量 | 第61-63页 |
| 4.2 纳米压痕仪表征氮化锆薄膜的韧性和耐磨性能 | 第63-64页 |
| 4.3 本章小结 | 第64-65页 |
| 第五章 讨论 | 第65-68页 |
| 5.1 电解抛光对锆基磨光抛光的影响 | 第65-66页 |
| 5.2 采用氮化锆靶材与采用纯锆靶材的区别 | 第66页 |
| 5.3 不同溅射气压下对薄膜微结构与机械力学性能影响 | 第66-67页 |
| 5.4 本章小结 | 第67-68页 |
| 第六章 总结与展望 | 第68-70页 |
| 6.1 总结 | 第68页 |
| 6.2 展望 | 第68-70页 |
| 参考文献 | 第70-75页 |
| 科研成果 | 第75-76页 |
| 致谢 | 第76页 |