黄铜基底上制备铜/锌复合氧化物薄膜及光电化学性能的研究
| 摘要 | 第4-6页 |
| ABSTRACT | 第6-7页 |
| 第一章 绪论 | 第10-20页 |
| 1.1 引言 | 第10页 |
| 1.2 光电化学水解制氢 | 第10-14页 |
| 1.2.1 光电化学水解的基本原理 | 第10-11页 |
| 1.2.2 半导体光电极材料 | 第11-14页 |
| 1.3 Cu_2O的基本性质及光电催化性能 | 第14-15页 |
| 1.3.1 Cu_2O的基本性质 | 第14页 |
| 1.3.2 Cu_2O的光电催化性能 | 第14-15页 |
| 1.4 CuO的基本性质及光电催化性能 | 第15-16页 |
| 1.4.1 CuO的基本性质 | 第15页 |
| 1.4.2 CuO的光电催化性能 | 第15-16页 |
| 1.5 ZnO基本性质及光电催化性能 | 第16-17页 |
| 1.5.1 ZnO的基本性质 | 第16页 |
| 1.5.2 ZnO的光电催化性能 | 第16-17页 |
| 1.6 铜/锌氧化物复合半导体光电催化性能 | 第17-18页 |
| 1.7 黄铜表面氧化膜的制备及光电化学性能 | 第18-19页 |
| 1.8 本文的主要工作 | 第19-20页 |
| 第二章 实验部分 | 第20-25页 |
| 2.1 实验材料和试剂 | 第20页 |
| 2.2 实验仪器 | 第20-21页 |
| 2.3 黄铜表面氧化薄膜的制备 | 第21页 |
| 2.4 光电化学性能测试 | 第21-22页 |
| 2.5 样品形貌、结构和成分表征 | 第22-25页 |
| 2.5.1 扫描电子显微镜(SEM) | 第22页 |
| 2.5.2 X射线粉末衍射(XRD) | 第22-23页 |
| 2.5.3 激光拉曼散射光谱(Raman) | 第23页 |
| 2.5.4 透射电子显微镜(TEM) | 第23-24页 |
| 2.5.5 X射线光电子能谱(XPS) | 第24-25页 |
| 第三章 酸种类对黄铜表面氧化膜的影响 | 第25-31页 |
| 3.1 引言 | 第25页 |
| 3.2 结果与讨论 | 第25-30页 |
| 3.2.1 可见光光电流测试 | 第25-26页 |
| 3.2.2 SEM形貌分析 | 第26-27页 |
| 3.2.3 XRD结构分析 | 第27-29页 |
| 3.2.4 表面Raman分析 | 第29-30页 |
| 3.3 本章小结 | 第30-31页 |
| 第四章 草酸浓度对黄铜腐蚀氧化的影响 | 第31-38页 |
| 4.1 引言 | 第31页 |
| 4.2 结果与讨论 | 第31-36页 |
| 4.2.1 可见光光电流测试 | 第31-32页 |
| 4.2.2 SEM形貌分析 | 第32-34页 |
| 4.2.3 XRD结构分析 | 第34-35页 |
| 4.2.4 表面Raman分析 | 第35-36页 |
| 4.3 本章小结 | 第36-38页 |
| 第五章 制备温度对黄铜腐蚀氧化的影响 | 第38-45页 |
| 5.1 引言 | 第38页 |
| 5.2 结果与讨论 | 第38-43页 |
| 5.2.1 可见光光电流测试 | 第38-39页 |
| 5.2.2 SEM形貌分析 | 第39-41页 |
| 5.2.3 XRD结构分析 | 第41-42页 |
| 5.2.4 表面Raman分析 | 第42-43页 |
| 5.3 本章小结 | 第43-45页 |
| 第六章 乙酸浓度对黄铜腐蚀氧化的影响 | 第45-57页 |
| 6.1 引言 | 第45页 |
| 6.2 结果与讨论 | 第45-55页 |
| 6.2.1 可见光光电流测试 | 第45-46页 |
| 6.2.2 SEM形貌分析 | 第46-47页 |
| 6.2.3 XRD结构分析 | 第47-49页 |
| 6.2.4 表面Raman分析 | 第49-50页 |
| 6.2.5 XPS分析 | 第50-51页 |
| 6.2.6 TEM分析 | 第51-53页 |
| 6.2.7 线性扫描伏安曲线(LSV) | 第53-55页 |
| 6.3 本章小结 | 第55-57页 |
| 第七章 总结与展望 | 第57-59页 |
| 7.1 总结 | 第57-58页 |
| 7.2 展望 | 第58-59页 |
| 参考文献 | 第59-68页 |
| 攻读硕士学位期间取得的研究成果 | 第68-69页 |
| 致谢 | 第69-71页 |
