| 摘要 | 第4-5页 |
| abstract | 第5-6页 |
| 第一章 绪论 | 第9-21页 |
| 1.1 研究背景 | 第9-13页 |
| 1.1.1 熔盐堆研究背景 | 第9-11页 |
| 1.1.2 熔盐堆结构材料的发展 | 第11-13页 |
| 1.1.3 Hastelloy N合金 | 第13页 |
| 1.2 合金中相关元素的作用 | 第13-15页 |
| 1.3 合金的高温氧化 | 第15-18页 |
| 1.3.1 高温氧化的基本过程 | 第15页 |
| 1.3.2 影响合金氧化性能的因素 | 第15-17页 |
| 1.3.3 氧化性能的评定方法 | 第17-18页 |
| 1.4 Si在合金中的作用 | 第18-19页 |
| 1.5 研究的内容、意义及研究路线 | 第19-21页 |
| 第二章 实验材料及研究方法 | 第21-27页 |
| 2.1 实验材料和设备 | 第21-23页 |
| 2.1.1 实验材料 | 第21-22页 |
| 2.1.2 样品制备 | 第22页 |
| 2.1.3 实验设备 | 第22-23页 |
| 2.2 实验过程 | 第23-25页 |
| 2.2.1 恒温氧化实验 | 第23-24页 |
| 2.2.2 循环氧化实验 | 第24-25页 |
| 2.3 分析测试 | 第25-27页 |
| 2.3.1 扫描电子显微镜(SEM) | 第25页 |
| 2.3.2 X射线衍射分析(XRD) | 第25-26页 |
| 2.3.3 电子探针显微分析(EPMA) | 第26-27页 |
| 第三章 Si对Hastelloy N合金恒温氧化性能的影响 | 第27-43页 |
| 3.1 引言 | 第27页 |
| 3.2 氧化动力学曲线 | 第27-29页 |
| 3.3 氧化膜的相组成 | 第29-31页 |
| 3.3.1 氧化温度对氧化膜相组成的影响 | 第29-30页 |
| 3.3.2 Si对氧化膜相组成的影响 | 第30-31页 |
| 3.4 氧化膜的表面形貌及成分分析 | 第31-35页 |
| 3.4.1 氧化温度对氧化膜表面形貌及成分的影响 | 第31-32页 |
| 3.4.2 Si对氧化膜表面形貌及成分的影响 | 第32-35页 |
| 3.5 氧化膜截面形貌及成分分析 | 第35-41页 |
| 3.5.1 氧化温度对氧化膜截面形貌及成分的影响 | 第35-36页 |
| 3.5.2 Si对氧化膜截面形貌及成分的影响 | 第36-41页 |
| 3.6 本章小结 | 第41-43页 |
| 第四章 Si对Hastelloy N合金循环氧化性能的影响 | 第43-53页 |
| 4.1 引言 | 第43页 |
| 4.2 氧化动力学曲线 | 第43-44页 |
| 4.3 不同Si含量Hastelloy N合金氧化膜中的物相分析 | 第44-45页 |
| 4.4 不同Si含量Hastelloy N合金氧化膜表面和截面形貌 | 第45-51页 |
| 4.4.1 氧化膜表面分析 | 第45-48页 |
| 4.4.2 氧化膜截面形貌分析 | 第48-51页 |
| 4.5 电子探针表征氧化膜截面元素分布 | 第51-52页 |
| 4.6 本章小结 | 第52-53页 |
| 第五章 结论与展望 | 第53-55页 |
| 5.1 结论 | 第53-54页 |
| 5.2 展望 | 第54-55页 |
| 致谢 | 第55-57页 |
| 参考文献 | 第57-63页 |
| 攻读学位期间取得的研究成果 | 第63页 |
