| 摘要 | 第15-17页 |
| Abstracts | 第17-19页 |
| 第一章 绪论 | 第20-41页 |
| 1.1 研究背景 | 第20-23页 |
| 1.2 抗氧化Ir涂层 | 第23-28页 |
| 1.2.1 Ir涂层的应用 | 第23-25页 |
| 1.2.2 Ir涂层制备方法 | 第25-28页 |
| 1.3 熔盐及熔盐电沉积 | 第28-34页 |
| 1.3.1 熔盐及熔盐结构 | 第28-30页 |
| 1.3.2 熔盐电化学 | 第30-32页 |
| 1.3.3 电沉积涂层微观结构控制原理 | 第32-34页 |
| 1.4 熔盐电沉积Ir研究现状 | 第34-36页 |
| 1.5 论文的选题依据和研究内容 | 第36-41页 |
| 1.5.1 熔盐电沉积Ir研究存在的问题 | 第36-37页 |
| 1.5.2 研究目标 | 第37页 |
| 1.5.3 研究内容及其逻辑关系 | 第37-41页 |
| 第二章 熔盐中Ir~(3+)络合结构研究 | 第41-66页 |
| 2.1 CsCl熔盐中Ir~(3+)络合结构的冰点降低法研究 | 第41-52页 |
| 2.1.1 冰点降低法原理简介 | 第42-44页 |
| 2.1.2 冰点降低法实验过程 | 第44-45页 |
| 2.1.3 不同熔盐体系的冰点降低法结构分析 | 第45-52页 |
| 2.2 CsCl熔盐中Ir~(3+)络合结构光谱研究 | 第52-61页 |
| 2.2.1 Raman实验过程 | 第52-54页 |
| 2.2.2 CsCl熔盐常温物相分析 | 第54-58页 |
| 2.2.3 CsCl熔盐高温Raman研究 | 第58-61页 |
| 2.3 NaCl-KCl-CsCl熔盐中Ir~(3+)络合结构 | 第61-65页 |
| 2.3.1 NaCl-KCl-CsCl-IrCl_3熔盐常温物相分析 | 第61-63页 |
| 2.3.2 NaCl-KCl-CsCl-IrCl_3熔盐Raman光谱研究 | 第63-65页 |
| 2.4 本章小结 | 第65-66页 |
| 第三章 熔盐电沉积Ir电化学机理研究 | 第66-127页 |
| 3.1 熔盐电化学实验方法 | 第66-70页 |
| 3.1.1 实验装置 | 第66-68页 |
| 3.1.2 电化学实验技术 | 第68-70页 |
| 3.2 熔盐中Ir~(3+)电化学还原过程 | 第70-75页 |
| 3.3 IrCl_3-氯化物熔盐电沉积Ir电极动力学研究 | 第75-90页 |
| 3.3.1 熔盐电沉积Ir电化学反应电荷转移机理 | 第77-83页 |
| 3.3.2 传质步骤动力学研究 | 第83-86页 |
| 3.3.3 电荷转移步骤动力学研究 | 第86-90页 |
| 3.4 Cs_3IrCl_6-氯化物熔盐电沉积Ir电极动力学研究 | 第90-95页 |
| 3.4.1 熔盐电沉积Ir电化学反应电荷转移机理 | 第90-91页 |
| 3.4.2 传质步骤动力学研究 | 第91-93页 |
| 3.4.3 电荷转移步骤动力学研究 | 第93-95页 |
| 3.5 IrCl_3-氟氯化物熔盐电沉积Ir电极反应动力学研究 | 第95-101页 |
| 3.5.1 熔盐电沉积Ir电化学反应电荷转移机理 | 第95-98页 |
| 3.5.2 传质步骤动力学研究 | 第98-99页 |
| 3.5.3 电荷转移步骤动力学研究 | 第99-101页 |
| 3.6 熔盐体系对电沉积Ir电极动力学过程影响规律 | 第101-104页 |
| 3.7 熔盐电沉积Ir电结晶过程研究 | 第104-126页 |
| 3.7.1 电极材料对熔盐电沉积Ir电结晶行为的影响 | 第104-121页 |
| 3.7.2 熔盐体系对熔盐电沉积Ir电结晶行为的影响 | 第121-125页 |
| 3.7.3 电沉积条件对熔盐电沉积Ir电结晶行为的影响规律 | 第125-126页 |
| 3.8 本章小结 | 第126-127页 |
| 第四章 电沉积Ir涂层微观结构控制 | 第127-170页 |
| 4.1 Re及Ir涂层制备实验 | 第128-130页 |
| 4.1.1 CVD法制备Re涂层 | 第128-129页 |
| 4.1.2 ED法制备Ir涂层 | 第129-130页 |
| 4.2 电沉积Ir涂层生长过程研究 | 第130-137页 |
| 4.2.1 电沉积涂层生长理论 | 第130-133页 |
| 4.2.2 电沉积Ir涂层在Re基体上的生长过程 | 第133-137页 |
| 4.3 电沉积参数对涂层组织结构的影响 | 第137-144页 |
| 4.3.1 温度对Ir涂层组织结构的影响 | 第137-140页 |
| 4.3.2 Ir~(3+)浓度对Ir涂层组织结构的影响 | 第140-142页 |
| 4.3.3 电流密度对Ir涂层组织结构的影响 | 第142-144页 |
| 4.4 脉冲工艺对Ir涂层组织结构的影响 | 第144-154页 |
| 4.4.1 脉冲电沉积理论介绍 | 第145-149页 |
| 4.4.2 脉冲频率对Ir涂层微观结构的影响 | 第149-151页 |
| 4.4.3 脉冲峰值电流密度对涂层微观结构的影响 | 第151-154页 |
| 4.5 熔盐体系对Ir涂层组织结构的影响 | 第154-162页 |
| 4.5.1 Cs_3IrCl_6-氯化物熔盐体系对Ir涂层组织结构的影响 | 第155-157页 |
| 4.5.2 IrCl_3-氟氯化物熔盐体系对Ir涂层组织结构的影响 | 第157-162页 |
| 4.6 Ir涂层微观结构控制原理与工艺优化 | 第162-168页 |
| 4.6.1 Ir涂层微观结构控制原理 | 第162-165页 |
| 4.6.2 电沉积不同微观结构Ir涂层工艺条件优化 | 第165-168页 |
| 4.7 本章小结 | 第168-170页 |
| 第五章 电沉积Ir涂层抗氧化性能研究 | 第170-211页 |
| 5.1 静态氧化考核平台可靠性分析与应用实例 | 第171-176页 |
| 5.1.1 静态氧化考核试样设计 | 第171-173页 |
| 5.1.2 氧化考核实验平台可靠性分析 | 第173-176页 |
| 5.1.3 氧化考核应用实例 | 第176页 |
| 5.2 Ir/Re氧化失效机理研究 | 第176-183页 |
| 5.2.1 氧化考核试样失效形式分析 | 第176-181页 |
| 5.2.2 Ir/Re氧化失效动力学模型 | 第181-183页 |
| 5.3 纯金属Ir氧化研究 | 第183-188页 |
| 5.3.1 纯Ir氧化过程 | 第183-185页 |
| 5.3.2 纯Ir氧化动力学 | 第185-188页 |
| 5.4 Ir/Re扩散行为研究 | 第188-199页 |
| 5.4.1 Ir涂层高温结构演变行为研究 | 第189-194页 |
| 5.4.2 Ir/Re高温扩散行为研究 | 第194-199页 |
| 5.5 Ir/Re抗氧化性能研究 | 第199-209页 |
| 5.5.1 涂层厚度对Ir涂层抗氧化性能的影响 | 第199-201页 |
| 5.5.2 氧分压对Ir涂层抗氧化性能的影响 | 第201-203页 |
| 5.5.3 晶粒微观结构对Ir涂层抗氧化性能的影响 | 第203-209页 |
| 5.6 本章小结 | 第209-211页 |
| 第六章 结论 | 第211-214页 |
| 致谢 | 第214-216页 |
| 参考文献 | 第216-229页 |
| 作者在学期间取得的学术成果 | 第229页 |
