摘要 | 第4-5页 |
ABSTRACT | 第5页 |
创新点摘要 | 第6-9页 |
前言 | 第9-10页 |
第一章 绪论 | 第10-12页 |
1.1 研究的目的和意义 | 第10页 |
1.2 乙二醇再生系统的重要性 | 第10页 |
1.3 本文主要研究内容 | 第10-12页 |
第二章 杏Ⅴ-Ⅰ站浅冷装置工艺原理及主要设备 | 第12-23页 |
2.1 基本概念 | 第12-13页 |
2.1.1 天然气的组成 | 第12页 |
2.1.2 天然气的分类 | 第12页 |
2.1.3 天然气的爆炸极限 | 第12-13页 |
2.1.4 天然气的湿度 | 第13页 |
2.1.5 天然气的露点 | 第13页 |
2.1.6 天然气的全热值 | 第13页 |
2.1.7 天然气的基本参数 | 第13页 |
2.1.8 气体的临界参数及临界状态 | 第13页 |
2.2 杏Ⅴ-Ⅰ站浅冷装置简介 | 第13-14页 |
2.3 杏Ⅴ-Ⅰ站浅冷装置系统流程 | 第14-20页 |
2.3.1 天然气压缩系统流程 | 第14-17页 |
2.3.2 氨压缩制冷系统流程 | 第17-19页 |
2.3.3 润滑油系统流程 | 第19页 |
2.3.4 隔离气、密封气系统流程 | 第19-20页 |
2.4 杏Ⅴ-Ⅰ站浅冷装置主要设备 | 第20-22页 |
2.4.1 天然气离心式压缩机 | 第20-21页 |
2.4.2 压缩机配套电机 | 第21-22页 |
2.4.3 其它动、静设备 | 第22页 |
2.5 本章小结 | 第22-23页 |
第三章 乙二醇再生系统工艺原理 | 第23-29页 |
3.1 浅冷装置防冻剂的选用 | 第23页 |
3.2 乙二醇喷注量的计算 | 第23-26页 |
3.3 乙二醇再生原理 | 第26-28页 |
3.4 本章小结 | 第28-29页 |
第四章 乙二醇再生系统运行存在的主要问题及产生原因 | 第29-32页 |
4.1 乙二醇发泡和乳化 | 第29页 |
4.2 乙二醇消耗量大 | 第29-30页 |
4.3 乙二醇浓度低 | 第30页 |
4.4 乙二醇再生塔带压 | 第30页 |
4.5 乙二醇泵出口压力波动大且有漏失现象 | 第30页 |
4.6 乙二醇再生装置设备腐蚀严重 | 第30-31页 |
4.6.1 沉淀物形成原因 | 第31页 |
4.6.2 酸性腐蚀 | 第31页 |
4.6.3 溶解氧 | 第31页 |
4.6.4 冲刷腐蚀 | 第31页 |
4.7 本章小结 | 第31-32页 |
第五章 乙二醇再生系统优化技术方案 | 第32-38页 |
5.1 闪蒸罐改造理论分析及设计 | 第32页 |
5.2 单塞式容积泵容积效率分析及改进 | 第32-34页 |
5.2.1 改进措施 | 第32-33页 |
5.2.2 取得的技术经济效果 | 第33-34页 |
5.3 在乙二醇喷咀前加装流量计 | 第34页 |
5.4 重沸器热平衡计算及加热方案优化分析 | 第34页 |
5.5 乙二醇再生塔采用防腐处理新技术 | 第34页 |
5.6 乙二醇循环采用新工艺流程 | 第34页 |
5.7 乙二醇再生塔增设新设备 | 第34-35页 |
5.8 D-503设计上的失误与改造 | 第35-37页 |
5.9 本章小结 | 第37-38页 |
第六章 乙二醇再生系统运行管理优化 | 第38-45页 |
6.1 乙二醇再生系统正常操作 | 第38-41页 |
6.1.1 P-501的操作 | 第39-40页 |
6.1.2 脉动缓冲器的操作 | 第40-41页 |
6.1.3 乙二醇过滤器的操作 | 第41页 |
6.2 乙二醇再生系统常见故障处理 | 第41-43页 |
6.2.1 乙二醇浓度低 | 第41页 |
6.2.2 D-504液位高或低 | 第41-42页 |
6.2.3 D-504压力高 | 第42页 |
6.2.4 H-501带压 | 第42页 |
6.2.5 乙二醇喷注压力低 | 第42-43页 |
6.2.6 E-505/506经常冻堵 | 第43页 |
6.3 生产运行过程中,操作人员还应注意的问题 | 第43-44页 |
6.3.1 严格控制乙二醇的PH值 | 第43页 |
6.3.2 保证乙二醇的喷注压力 | 第43-44页 |
6.3.3 保证乙二醇在分离器内的停留时间 | 第44页 |
6.3.4 制冷压缩机缓慢加载 | 第44页 |
6.3.5 注意观察外输气压力 | 第44页 |
6.3.6 乙二醇泵稳定性 | 第44页 |
6.3.7 及时进行检修维护 | 第44页 |
6.4 本章小结 | 第44-45页 |
结论 | 第45-46页 |
参考文献 | 第46-48页 |
致谢 | 第48-49页 |
附表 杏Ⅴ-Ⅰ站浅冷装置其他动、静设备 | 第49-52页 |
附图 | 第52-56页 |
详细摘要 | 第56-65页 |