NiP超光滑表面CMP理论模型建立与工艺实验研究
| 摘要 | 第4-5页 |
| Abstract | 第5-6页 |
| 第1章 绪论 | 第9-20页 |
| 1.1 课题来源及研究的背景和意义 | 第9-10页 |
| 1.1.1 课题的来源 | 第9页 |
| 1.1.2 课题研究的背景和意义 | 第9-10页 |
| 1.2 国内外研究现状及分析 | 第10-18页 |
| 1.2.1 超光滑表面抛光技术发展现状 | 第10-14页 |
| 1.2.2 镍磷合金抛光技术发展现状 | 第14-17页 |
| 1.2.3 国内外文献综述简析 | 第17-18页 |
| 1.3 本课题主要研究内容 | 第18-20页 |
| 第2章 化学机械抛光理论模型研究 | 第20-35页 |
| 2.1 引言 | 第20页 |
| 2.2 化学机械抛光的化学反应机理 | 第20-23页 |
| 2.2.1 镍磷镀层特性 | 第20-22页 |
| 2.2.2 抛光过程中的化学反应 | 第22-23页 |
| 2.3 化学机械抛光的材料去除模型 | 第23-29页 |
| 2.3.1 化学机械抛光数学模型的建立 | 第23-25页 |
| 2.3.2 有效磨粒数目的确定及其分布状态研究 | 第25-28页 |
| 2.3.3 材料去除模型的建立 | 第28-29页 |
| 2.4 化学机械抛光的粗糙度模型 | 第29-34页 |
| 2.4.1 轮廓算术平均中线的确定 | 第30-32页 |
| 2.4.2 表面粗糙度模型的建立 | 第32-34页 |
| 2.5 本章小结 | 第34-35页 |
| 第3章 化学机械抛光组份确定与工艺参数优化 | 第35-51页 |
| 3.1 引言 | 第35页 |
| 3.2 抛光垫及氧化剂的选择 | 第35-37页 |
| 3.2.1 抛光垫的选择 | 第35-36页 |
| 3.2.2 氧化剂的选择 | 第36-37页 |
| 3.3 抛光粒及抛光酸碱环境的选择 | 第37-44页 |
| 3.3.1 不同抛光粒对抛光表面的影响 | 第38-41页 |
| 3.3.2 抛光酸碱环境对抛光表面的影响 | 第41-44页 |
| 3.4 主要抛光参数的正交实验 | 第44-49页 |
| 3.4.1 正交实验设计 | 第44页 |
| 3.4.2 实验结果分析 | 第44-47页 |
| 3.4.3 工艺参数优选 | 第47-48页 |
| 3.4.4 化学机械抛光模型误差分析 | 第48-49页 |
| 3.5 本章小结 | 第49-51页 |
| 第4章 镍磷合金超光滑表面气囊抛光工艺实验 | 第51-63页 |
| 4.1 引言 | 第51页 |
| 4.2 气囊抛光参数的正交实验 | 第51-57页 |
| 4.2.1 正交实验设计 | 第51-52页 |
| 4.2.2 粗糙度实验结果分析 | 第52-54页 |
| 4.2.3 去除量实验结果分析 | 第54-56页 |
| 4.2.4 工艺参数综合优化 | 第56-57页 |
| 4.3 抛光纹的产生及消除 | 第57-61页 |
| 4.3.1 抛光纹产生原因分析 | 第57-59页 |
| 4.3.2 进动对抛光纹的消除作用实验 | 第59-61页 |
| 4.4 本章小结 | 第61-63页 |
| 结论 | 第63-64页 |
| 参考文献 | 第64-69页 |
| 攻读硕士学位期间发表的论文及其它成果 | 第69-71页 |
| 致谢 | 第71页 |
