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微波辐射计定标源装置黑体辐射源的热分析与结构优化

摘要第4-6页
Abstract第6-7页
第1章 绪论第11-19页
    1.1 研究背景及意义第11-13页
    1.2 国内外发展现状第13-17页
    1.3 本文的主要研究内容第17-18页
    1.4 本章小结第18-19页
第2章 黑体辐射源整体的结构设计第19-39页
    2.1 黑体相关理论第19-20页
    2.2 定标源装置关键部件的设计第20页
    2.3 黑体辐射源的结构设计第20-26页
        2.3.1 黑体辐射源的总体结构设计第20-22页
        2.3.2 涂覆锥体的设计第22-23页
        2.3.3 定标板的设计第23页
        2.3.4 保温材料的选择第23-24页
        2.3.5 加热片的选择第24-25页
        2.3.6 测温电阻的选择第25-26页
    2.4 黑体辐射源温度控制方案设计第26-33页
        2.4.1 加热驱动电路第27-28页
        2.4.2 数控电路第28-31页
        2.4.3 温度采集电路第31-33页
    2.5 黑体辐射源温度控制系统的软件设计第33-38页
        2.5.1 模糊PID控制第33页
        2.5.2 模糊PID参数确定以及算法设计第33-37页
        2.5.3 PID算法程序模块第37-38页
    2.6 本章小结第38-39页
第3章 黑体辐射源的热分析第39-51页
    3.1 ANSYS软件的应用第39-40页
    3.2 黑体辐射源三维模型的建立第40-45页
        3.2.1 模型简化及材料参数第40-41页
        3.2.2 数学模型的建立第41-44页
        3.2.3 物理模型的建立第44-45页
    3.3 网格的划分第45-46页
    3.4 边界条件及载荷的确定和施加第46-48页
        3.4.1 固体边界条件设定第46-47页
        3.4.2 对流换热系数的确定第47-48页
    3.5 黑体辐射源热分析的求解和结果分析第48-50页
    3.6 本章小结第50-51页
第4章 黑体辐射源结构分析及优化设计第51-67页
    4.1 涂覆锥体结构优化分析第51-56页
        4.1.1 单个涂覆锥体的热分析第51-53页
        4.1.2 涂覆锥体的结构优化第53-55页
        4.1.3 涂覆锥体的优化结果分析第55-56页
    4.2 加热片布局优化分析第56-60页
        4.2.1 加热片布局的优化第57-59页
        4.2.2 加热片布局优化的结果分析第59-60页
    4.3 优化后涂覆锥体测温试验第60-66页
        4.3.1 试验方案设计第60-62页
        4.3.2 涂覆锥体温度场试验第62-64页
        4.3.3 试验结果分析第64-66页
    4.4 本章小结第66-67页
第5章 优化后黑体辐射源的温度场分析第67-71页
    5.1 优化后整体的温度场分析第67-68页
    5.2 结果分析第68页
    5.3 本章小结第68-71页
第6章 总结与展望第71-73页
    6.1 总结第71-72页
    6.2 展望第72-73页
参考文献第73-79页
作者简介及学校期间所取得科研成果第79-80页
致谢第80页

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