首页--数理科学和化学论文--化学论文--分析化学论文

高纯镁和高纯钼的质谱纯度分析及其结果不确定度评定

摘要第5-7页
abstract第7-8页
第一章 绪论第12-25页
    1.1 高纯金属的应用第12页
    1.2 高纯金属中痕量元素的测定方法第12-22页
        1.2.1 电感耦合等离子体原子发射光谱(ICP-AES)法第12-13页
        1.2.2 原子吸收光谱(AAS)法第13页
        1.2.3 电感耦合等离子体质谱(ICP-MS)法第13-16页
            1.2.3.1 ICP-MS的半定量分析第14页
            1.2.3.2 ICP-MS的干扰及消除第14-16页
        1.2.4 辉光放电质谱(GD-MS)法第16-22页
            1.2.4.1 辉光放电第16-17页
            1.2.4.2 辉光放电的阴极溅射和电离第17页
            1.2.4.3 仪器进展第17-18页
            1.2.4.4 样品的测定第18页
            1.2.4.5 GD-MS的干扰与消除第18页
            1.2.4.6 GD-MS的应用第18-22页
    1.3 本文的选题背景及研究方案设计第22-25页
第二章 高纯镁的纯度分析第25-63页
    2.1 引言第25页
    2.2 实验部分第25-26页
        2.2.1 仪器设备与工作参数第25-26页
        2.2.2 标准物质与化学试剂第26页
    2.3 ICP-MS法分析高纯镁中痕量元素第26-36页
        2.3.1 ICP-MS条件和参数的选择第26-28页
        2.3.2 待测元素受到的质谱干扰及同位素的选择第28-29页
        2.3.3 ICP-MS半定量分析第29-33页
            2.3.3.1 半定量校正因子第29页
            2.3.3.2 样品处理第29页
            2.3.3.3 半定量分析结果第29-33页
        2.3.4 ICP-MS定量分析第33-36页
            2.3.4.1 内标的选择第33页
            2.3.4.2 实验方法第33-34页
            2.3.4.3 ICP-MS定量法测定高纯镁中杂质元素的检出限第34-35页
            2.3.4.4 ICP-MS定量法测定高纯镁中杂质元素的回收率第35-36页
            2.3.4.5 ICP-MS定量法测定棒状高纯镁中杂质元素的结果第36页
        2.3.5 小结第36页
    2.4 标准加入-ICP-AES法测定高纯镁中痕量元素分析方法的研究第36-39页
        2.4.1 仪器参数的优化第36-37页
        2.4.2 样品的处理及校准曲线的绘制第37-38页
        2.4.3 ICP-AES标准加入法测定棒状高纯镁中杂质元素的检出限第38页
        2.4.4 ICP-AES标准加入法测定棒状高纯镁中杂质元素的回收率第38页
        2.4.5 ICP-AES标准加入法测定棒状高纯镁中杂质元素的结果第38-39页
        2.4.6 小结第39页
    2.5 GD-MS测定棒状高纯镁中痕量元素分析方法的研究第39-50页
        2.5.1 仪器分析条件第39页
        2.5.2 棒状高纯镁样品的处理第39-40页
        2.5.3 样品的预溅射第40-42页
        2.5.4 分析元素同位素及分辨率第42-45页
        2.5.5 样品测试过程第45页
        2.5.6 高纯镁基体标准样品校正相对灵敏度因子第45-46页
        2.5.7 GD-MS定量法测定高纯镁中杂质元素的检出限和测定下限第46-48页
        2.5.8 GD-MS测定棒状高纯镁的实验结果和讨论第48-50页
        2.5.9 小结第50页
    2.6 高纯镁样品ICP-AES、ICP-MS和GD-MS分析结果的对比第50-52页
    2.7 高纯镁样品纯度分析及其测量结果不确定度的评定第52-62页
        2.7.1 ICP-MS法测定高纯镁中Mn元素的不确定度的评定第52-56页
            2.7.1.1 测量重复性引入的不确定度第52页
            2.7.1.2 ICP-MS工作曲线拟合引起的不确定度第52-53页
            2.7.1.3 由标准储备液配制成工作曲线4点质量分数引起的不确定度第53-56页
        2.7.2 ICP-AES法测定高纯镁中Al、Si、Ca元素的不确定度的评定第56-57页
        2.7.3 GD-MS法测定高纯镁中痕量元素分析结果的不确定度评定第57-59页
            2.7.3.1 GD-MS测量重复性引入的不确定度第57页
            2.7.3.2 样品不均匀引入的不确定度第57-58页
            2.7.3.3 RSF(或标准物质)引入的不确定度第58页
            2.7.3.4 GD-MS法分析结果的相对标准不确定度第58-59页
        2.7.4 高纯镁的纯度分析结果及其不确定度第59-62页
    2.8 结论第62-63页
第三章 高纯钼的纯度分析第63-83页
    3.1 引言第63页
    3.2 实验部分第63-64页
        3.2.1 仪器及工作参数第63-64页
        3.2.2 试剂第64页
    3.3 ICP-MS/MS法分析高纯钼中痕量镉第64-70页
        3.3.1 实验方法第64-65页
        3.3.2 多原子离子的干扰消除原理第65页
        3.3.3 分析同位素的选择第65-66页
        3.3.4 反应池内气体流速的选择第66-67页
        3.3.5 反应池内气体的选择第67-68页
        3.3.6 反应气体对钼基体的干扰消除效果验证第68-69页
        3.3.7 校准曲线和检出限第69页
        3.3.8 加标回收试验第69-70页
        3.3.9 高纯钼样品分析第70页
        3.3.10 高纯钼中Cd结果的不确定度第70页
    3.4 ICP-AES/ICP-MS法分析高纯钼中痕量元素第70-72页
        3.4.1 样品分析第70-71页
        3.4.2 不确定度评定第71-72页
    3.5 GD-MS法分析高纯钼中痕量元素第72-78页
        3.5.1 仪器分析条件第72页
        3.5.2 样品的预溅射第72-73页
        3.5.3 分析同位素及分辨率的选择第73-74页
        3.5.4 方法验证第74-75页
        3.5.6 GD-MS测定棒状高纯钼的检出限和测定下限第75-76页
        3.5.7 高纯钼样品测试第76-78页
    3.6 高纯钼样品ICP-AES、ICP-MS和GD-MS分析结果的对比第78-79页
    3.7 棒状高纯钼的纯度分析及其测量结果的不确定度评定第79-82页
    3.8 结论第82-83页
第四章 总结与展望第83-84页
参考文献第84-90页
攻读硕士学位期间取得的学术成果第90-92页
致谢第92页

论文共92页,点击 下载论文
上一篇:车用硬质聚氨酯泡沫的力学特性研究和仿真应用
下一篇:微波加热牛肉品质的高光谱成像无损检测方法研究