| 摘要 | 第4-6页 |
| ABSTRACT | 第6-7页 |
| 第1章 绪论 | 第13-27页 |
| 1.1 课题背景及研究的目的和意义 | 第13-17页 |
| 1.2 蓝宝石图形衬底的国内外研究现状 | 第17-25页 |
| 1.2.1 蓝宝石图形衬底制备的研究进展 | 第17-24页 |
| 1.2.2 影响图形化蓝宝石衬底作用的因素 | 第24-25页 |
| 1.3 论文的主要内容 | 第25-27页 |
| 第2章 材料的制备和表征方法 | 第27-39页 |
| 2.1 材料的制备方法 | 第28-36页 |
| 2.1.1 Al 薄膜的制备 | 第28页 |
| 2.1.2 电子束光刻图形化 Al 薄膜的制备 | 第28-33页 |
| 2.1.3 激光干涉光刻图形化 Al 薄膜的制备 | 第33-34页 |
| 2.1.4 固相反应图形化蓝宝石衬底的制备 | 第34-35页 |
| 2.1.5 激光干涉光刻图形化蓝宝石衬底的评价方法 | 第35-36页 |
| 2.2 材料的表征方法 | 第36-39页 |
| 2.2.1 X 射线衍射法 | 第36页 |
| 2.2.2 扫描电子显微术 | 第36-37页 |
| 2.2.3 原子力显微术 | 第37页 |
| 2.2.4 光致发光谱 | 第37-38页 |
| 2.2.5 拉曼散射光谱 | 第38-39页 |
| 第3章 直流磁控溅射 Al 薄膜的制备研究 | 第39-49页 |
| 3.1 引言 | 第39页 |
| 3.2 溅射功率对 Al 薄膜结构和形貌的影响 | 第39-42页 |
| 3.2.1 溅射功率对 Al 薄膜淀积速率的影响 | 第40-41页 |
| 3.2.2 溅射功率对 Al 薄膜表面形貌的影响 | 第41-42页 |
| 3.3 工作气压对 Al 薄膜结构和形貌的影响 | 第42-45页 |
| 3.3.1 工作气压对 Al 薄膜淀积速率的影响 | 第43-45页 |
| 3.3.2 工作气压对 Al 薄膜表面形貌的影响 | 第45页 |
| 3.4 衬底温度对 Al 薄膜形貌的影响 | 第45-48页 |
| 3.5 本章小结 | 第48-49页 |
| 第4章 电子束光刻图形化蓝宝石衬底的制备研究 | 第49-72页 |
| 4.1 引言 | 第49页 |
| 4.2 电子束光刻图形化金属 Al 薄膜 | 第49-62页 |
| 4.2.1 电子束光刻工艺参数研究 | 第49-57页 |
| 4.2.2 邻近效应的影响 | 第57-60页 |
| 4.2.3 曝光剂量的影响 | 第60-62页 |
| 4.3 固相反应研究 | 第62-70页 |
| 4.3.1 低温热处理研究 | 第62-64页 |
| 4.3.2 高温热处理研究 | 第64-70页 |
| 4.4 本章小结 | 第70-72页 |
| 第5章 激光干涉光刻图形化蓝宝石衬底的制备研究 | 第72-99页 |
| 5.1 引言 | 第72页 |
| 5.2 激光干涉光刻技术原理和模拟 | 第72-93页 |
| 5.2.1 双激光束单曝光干涉光刻 | 第72-76页 |
| 5.2.2 双激光束双曝光干涉光刻 | 第76-78页 |
| 5.2.3 三激光束干涉光刻 | 第78-84页 |
| 5.2.4 四激光束单曝光干涉光刻 | 第84-87页 |
| 5.2.5 五激光束单曝光干涉光刻 | 第87-93页 |
| 5.3 激光干涉光刻图形化金属 Al 薄膜 | 第93-96页 |
| 5.3.1 激光干涉光刻工艺参数分析 | 第93-95页 |
| 5.3.2 反应离子刻蚀工艺参数分析 | 第95-96页 |
| 5.4 固相反应研究 | 第96-98页 |
| 5.4.1 低温热处理研究 | 第96-97页 |
| 5.4.2 高温热处理研究 | 第97-98页 |
| 5.5 本章小结 | 第98-99页 |
| 第6章 激光干涉光刻图形化蓝宝石衬底的评价 | 第99-110页 |
| 6.1 引言 | 第99页 |
| 6.2 GaN 基蓝光 LED 外延片的晶体质量分析 | 第99-106页 |
| 6.3 GaN 基蓝光 LED 外延片的光学性能研究 | 第106-108页 |
| 6.4 本章小结 | 第108-110页 |
| 结论 | 第110-112页 |
| 参考文献 | 第112-123页 |
| 攻读博士学位期间发表的论文及其它成果 | 第123-125页 |
| 致谢 | 第125-126页 |
| 个人简历 | 第126页 |
