| 摘要 | 第6-8页 |
| Abstract | 第8-9页 |
| 1. 绪论 | 第10-20页 |
| 1.1 研究背景和目的 | 第10-11页 |
| 1.2 研究意义 | 第11-15页 |
| 1.2.1 核孔膜在过滤方面的作用 | 第11-12页 |
| 1.2.2 制备纳米线和纳米通道 | 第12-13页 |
| 1.2.3 核径迹防伪技术 | 第13页 |
| 1.2.4 利用径迹导孔制作微尺度元器件 | 第13-14页 |
| 1.2.5 智能膜技术的开发和应用 | 第14-15页 |
| 1.2.6 医用防护口罩 | 第15页 |
| 1.2.7 在病理分析领域的应用 | 第15页 |
| 1.3 国内外研究现状 | 第15-19页 |
| 1.3.1 辐照离子种类 | 第16页 |
| 1.3.2 受辐照的有机膜材 | 第16-18页 |
| 1.3.3 国内外近期研究成果 | 第18-19页 |
| 1.4 本课题主要研究的内容 | 第19-20页 |
| 2. PET 核孔膜制备的理论基础 | 第20-33页 |
| 2.1 HI-13 串列静电加速器及辐照装置介绍 | 第20-23页 |
| 2.1.1 静电加速器 | 第20-21页 |
| 2.1.2 重离子辐照装置 | 第21-23页 |
| 2.1.3 重离子束流强度 | 第23页 |
| 2.2 潜径迹形成原理 | 第23-26页 |
| 2.2.1 离子能量损失的过程 | 第23-25页 |
| 2.2.2 潜径迹形成过程 | 第25页 |
| 2.2.3 径迹芯和径迹晕 | 第25-26页 |
| 2.3 径迹形成模型解释 | 第26-28页 |
| 2.3.1 库伦爆炸模型 | 第27页 |
| 2.3.2 热峰模型 | 第27-28页 |
| 2.4 辐照引起的聚合物反应 | 第28-29页 |
| 2.5 蚀刻 | 第29-31页 |
| 2.5.1 蚀刻过程中电流变化理论推导 | 第29-31页 |
| 2.6 核孔膜观测方法 | 第31-33页 |
| 2.6.1 常规观测方法 | 第31-32页 |
| 2.6.2 电子扫描电镜 | 第32页 |
| 2.6.3 原子力显微镜 | 第32-33页 |
| 3. 孔型生长理论模型 | 第33-39页 |
| 3.1 蚀刻初始阶段形成锥形微孔 | 第33-35页 |
| 3.2 微孔由锥形变为椭球面型 | 第35-36页 |
| 3.3 倾斜微孔的形成过程 | 第36-39页 |
| 4. 实验 | 第39-50页 |
| 4.1 膜材料的介绍 | 第39页 |
| 4.2 SRIM 软件计算重离子的能损和射程 | 第39-41页 |
| 4.3 加速器辐照 | 第41-43页 |
| 4.4 紫外光敏化 | 第43页 |
| 4.5 蚀刻 | 第43-48页 |
| 4.5.1 电导法监测微孔生长过程 | 第43-44页 |
| 4.5.2 蚀刻方案选择 | 第44-47页 |
| 4.5.3 径迹蚀刻速率测量方法 | 第47-48页 |
| 4.5.4 称重法测量体蚀刻速率 V_b | 第48页 |
| 4.6 表面形貌观测 | 第48-49页 |
| 4.7 剖面制备 | 第49-50页 |
| 5 实验结果 | 第50-69页 |
| 5.1 温度对体蚀刻速率的影响 | 第50-51页 |
| 5.2 浓度对体蚀刻速率 V_b的影响 | 第51-53页 |
| 5.3 温度对径迹蚀刻速率 V_t的影响 | 第53-54页 |
| 5.4 浓度对径迹蚀刻速率 V_t的影响 | 第54-56页 |
| 5.5 入射重离子能量对径迹蚀刻速率 V_t的影响 | 第56-57页 |
| 5.6 核孔膜表面的电镜观察结果 | 第57-62页 |
| 5.6.1 未蚀刻薄膜电镜观察 | 第58页 |
| 5.6.2 锥形微孔电镜观察 | 第58-60页 |
| 5.6.3 柱形微孔电镜观察 | 第60-61页 |
| 5.6.4 椭球面型微孔电镜观察 | 第61-62页 |
| 5.7 剖面观察结果 | 第62-65页 |
| 5.8 理论模型与实验结果对比 | 第65-69页 |
| 5.8.1 锥形、圆柱形微孔生长过程对比 | 第65-66页 |
| 5.8.2 椭球面型微孔生长过程对比 | 第66-69页 |
| 6 结论 | 第69-71页 |
| 7 展望 | 第71-72页 |
| 致谢 | 第72-73页 |
| 攻读硕士期间发表的论文 | 第73页 |
| 参考文献 | 第73-77页 |