| 摘要 | 第4-5页 |
| Abstract | 第5页 |
| 目录 | 第6-8页 |
| 第1章 绪论 | 第8-16页 |
| 1.1 光子晶体的特性与分类 | 第8-11页 |
| 1.1.1 光子晶体的特性 | 第8-10页 |
| 1.1.2 光子晶体的分类 | 第10-11页 |
| 1.2 光子晶体的应用 | 第11-12页 |
| 1.2.1 光子晶体在光纤中的应用 | 第11页 |
| 1.2.2 光子晶体全反射镜 | 第11-12页 |
| 1.3 光子晶体垂直腔面发射激光器 | 第12-15页 |
| 1.3.1 基横模光子晶体垂直腔面发射激光器 | 第12-13页 |
| 1.3.2 偏振控制光子晶体垂直腔面发射激光器 | 第13-14页 |
| 1.3.3 多芯光子晶体垂直腔面发射激光器 | 第14-15页 |
| 1.4 本论文的主要研究内容 | 第15-16页 |
| 第2章 VCSEL 基础及光子晶体对激光器的模式控制 | 第16-26页 |
| 2.1 垂直腔面发射激光器结构及种类 | 第16-19页 |
| 2.2 垂直腔面发射激光器的基本理论 | 第19-21页 |
| 2.2.1 垂直腔面发射激光器的阈值 | 第19-20页 |
| 2.2.2 光输出与效率 | 第20页 |
| 2.2.3 面发射激光器的模式与光束 | 第20-21页 |
| 2.3 光子晶体在 VCSEL 中模式控制 | 第21-22页 |
| 2.4 光子晶体的制备技术及光子晶体激光器 | 第22-24页 |
| 2.4.1 光子晶体的制备技术 | 第22-24页 |
| 2.4.2 光子晶体激光器 | 第24页 |
| 2.5 温度与光子晶体垂直腔面发射激光器的关系 | 第24-25页 |
| 2.6 本章小结 | 第25-26页 |
| 第3章 光子晶体垂直腔面发射激光器的工艺制备 | 第26-42页 |
| 3.1 光子晶体垂直腔面发射激光器工艺流程 | 第26-28页 |
| 3.2 垂直腔面发射激光器关键工艺 | 第28-33页 |
| 3.2.1 侧面绝缘工艺 | 第28-31页 |
| 3.2.2 上电极制备 | 第31-33页 |
| 3.3 氧化工艺 | 第33-35页 |
| 3.4 制备光子晶体结构 | 第35-41页 |
| 3.4.1 电子束光刻 | 第35-36页 |
| 3.4.2 光子晶体结构的 ICP 刻蚀研究 | 第36-39页 |
| 3.4.3 自对准光子晶体垂直腔面发射激光器 | 第39-41页 |
| 3.5 本章小结 | 第41-42页 |
| 第4章 测试和分析 | 第42-46页 |
| 4.1 器件结构 | 第42页 |
| 4.2 器件 P-I 特性测试及分析 | 第42-45页 |
| 4.3 本章小结 | 第45-46页 |
| 结论 | 第46-48页 |
| 参考文献 | 第48-52页 |
| 硕士期间发表的论文 | 第52-54页 |
| 致谢 | 第54页 |