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掺铟二氧化锡薄膜(ITO)的制备及其性质研究

论文摘要第1-8页
ABSTRACT第8-13页
目录第13-14页
第一章 绪论第14-28页
   ·引言第14页
   ·ITO薄膜的研究现状第14-15页
   ·ITO薄膜的制备技术第15-21页
   ·薄膜特性的表征方法第21-25页
   ·本论文研究目的和意义第25-28页
第二章 sol-gel法制备ITO薄膜样品第28-48页
   ·制备流程第28-31页
   ·结构与性能测试第31-32页
   ·实验结果与讨论第32-45页
   ·ITO薄膜的电学特性分析第45-46页
   ·ITO薄膜的光学特性第46-48页
第三章 不同退火氛围下的ITO薄膜第48-54页
   ·实验第48-49页
   ·结果与讨论第49-52页
   ·本章总结第52-54页
第四章 氩等离子体退火法制备ITO薄膜第54-62页
   ·引言第54页
   ·实验第54-56页
   ·结果与讨论第56-61页
   ·本章小结第61-62页
第五章 总结与展望第62-64页
   ·结论第62页
   ·展望第62-64页
参考文献第64-68页
致谢第68-69页
硕士论文期间发表文章第69-70页

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