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新型硅基纳米线波导及谐振腔的研究

致谢第5-6页
摘要第6-7页
Abstract第7-8页
第一章 绪论第11-24页
    1.1 集成光子学的发展概论第11-12页
    1.2 硅基光传输结构的研究与应用第12-23页
        1.2.1 硅基光互连器件及架构第12-19页
        1.2.2 硅基光传感器件第19-23页
    1.3 本文的章节安排第23-24页
第二章 新型低损耗硅纳米线波导第24-48页
    2.1 硅纳米线波导损耗的来源第24-26页
        2.1.1 平面光波导的损耗第24页
        2.1.2 波导损耗公式推导第24-26页
    2.2 降低硅纳米线波导损耗解决方案第26-36页
        2.2.1 优化刻蚀工艺,降低侧壁粗糙度第27-31页
        2.2.2 采用脊形/条形等混合波导结构第31-33页
        2.2.3 采用氧化等非刻蚀工艺第33-36页
    2.3 基于选择性氧化工艺的硅纳米线波导制作第36-42页
        2.3.1 工艺简介第36-37页
        2.3.2 工艺仿真第37-38页
        2.3.3 实验流程第38-42页
    2.4 选择性氧化硅纳米线波导测试与分析第42-46页
    2.5 本章小结第46-48页
第三章 超小型悬挂式硅基微盘传感器第48-77页
    3.1 微盘谐振器简介第48-51页
        3.1.1 微盘谐振器发展历史与现状第49页
        3.1.2 微盘谐振器模式理论第49-51页
    3.2 超小型悬挂式硅基微盘谐振器的设计第51-60页
        3.2.1 损耗及模式分析第51-56页
        3.2.2 传感灵敏度计算第56-57页
        3.2.3 耦合波导的设计第57-60页
    3.3 微盘谐振器器件加工第60-70页
        3.3.1 硅纳米线工艺简介第60-64页
        3.3.2 器件加工流程第64-70页
    3.4 超小型微盘谐振器传感测试第70-76页
        3.4.1 测试系统简介第70-72页
        3.4.2 传感测试第72-76页
    3.5 本章小结第76-77页
第四章 总结第77-79页
参考文献第79-85页
作者简介第85页

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