| 摘要 | 第4-5页 |
| Abstract | 第5-6页 |
| 第1章 绪论 | 第9-18页 |
| 1.1 引言 | 第9页 |
| 1.2 固体表面疏水理论基础 | 第9-11页 |
| 1.3 超疏水表面研究现状 | 第11-14页 |
| 1.3.1 超疏水性能影响因素 | 第11-12页 |
| 1.3.2 超疏水表面的制备方法 | 第12-13页 |
| 1.3.3 超疏水表面研究中的问题 | 第13-14页 |
| 1.4 纳米硬质耐磨膜层的研究现状 | 第14-16页 |
| 1.4.1 纳米膜层减摩抗磨机理 | 第14-15页 |
| 1.4.2 TiC纳米膜层的研究 | 第15-16页 |
| 1.4.3 Ti-Si-C纳米膜层的研究 | 第16页 |
| 1.5 本文研究的目的和意义以及创新点 | 第16-18页 |
| 第2章 实验材料及过程 | 第18-23页 |
| 2.1 电弧离子镀 | 第18-19页 |
| 2.2 实验方法 | 第19-20页 |
| 2.2.1 Ti-Si-C膜层的制备 | 第19-20页 |
| 2.2.2 SiO_2膜层的制备 | 第20页 |
| 2.3 膜层的表征方法 | 第20-23页 |
| 2.3.1 研究膜层的X射线衍射(XRD)谱 | 第20页 |
| 2.3.2 研究膜层的表面形貌及能谱 | 第20页 |
| 2.3.3 研究膜层的耐磨性能 | 第20-21页 |
| 2.3.4 研究膜层的耐蚀性能 | 第21-22页 |
| 2.3.5 研究膜层的晶体结构 | 第22页 |
| 2.3.6 研究膜层的疏水性能 | 第22-23页 |
| 第3章 实验结果与分析 | 第23-61页 |
| 3.1 不同弧流对Ti-Si-C膜层结构与性能的影响 | 第23-33页 |
| 3.1.1 不同弧流下沉积膜层的表面形貌及成分 | 第23-26页 |
| 3.1.2 不同弧流下沉积膜层的XRD谱 | 第26-28页 |
| 3.1.3 不同弧流下沉积膜层的横断面形貌 | 第28页 |
| 3.1.4 弧流对膜层摩擦磨损性能的影响 | 第28-30页 |
| 3.1.5 不同弧流下沉积膜层的腐蚀性能 | 第30-33页 |
| 3.2 不同气体流量比对Ti-Si-C膜层结构与性能的影响 | 第33-41页 |
| 3.2.1 膜层的制备 | 第33页 |
| 3.2.2 不同气体流量比下膜层表面形貌及结构 | 第33-35页 |
| 3.2.3 不同气体流量比下沉积膜层的结构 | 第35-36页 |
| 3.2.4 不同气体流量比下沉积膜层摩擦磨损性能 | 第36-38页 |
| 3.2.5 不同气体流量比下陈寂膜层电化学性能 | 第38-41页 |
| 3.3 Ti-Si-C底层上涂覆SiO_2层的性能的研究 | 第41-53页 |
| 3.3.1 SiO_2覆层的制备 | 第41-42页 |
| 3.3.2 不同SiO_2浓度对复合涂层表面形貌及涂层成分的影响 | 第42-45页 |
| 3.3.3 不同浓度SiO_2涂覆层耐磨性能 | 第45-48页 |
| 3.3.4 不同浓度的SiO_2涂覆层耐蚀性能 | 第48-53页 |
| 3.4 膜层疏水性能的检测与分析 | 第53-56页 |
| 3.4.1 膜层的制备 | 第54页 |
| 3.4.2 膜层疏水角测量结果与分析 | 第54-56页 |
| 3.5 Ti-Si-C膜层的结构与性能 | 第56-61页 |
| 3.5.1 Ti-Si-C膜层的结构变化 | 第56-57页 |
| 3.5.2 不同结构Ti-Si-C膜层摩擦磨损性能 | 第57-59页 |
| 3.5.3 不同结构Ti-Si-C膜层的腐蚀性能 | 第59-61页 |
| 第4章 结论 | 第61-62页 |
| 参考文献 | 第62-65页 |
| 在学研究成果 | 第65-66页 |
| 致谢 | 第66页 |
