| 摘要 | 第5-6页 |
| Abstract | 第6-7页 |
| 第一章 绪论 | 第8-14页 |
| 1.1 TiO_2的结构及应用 | 第8-10页 |
| 1.1.1 TiO_2的结构 | 第8-9页 |
| 1.1.2 TiO_2的应用 | 第9-10页 |
| 1.2 TiO_2薄膜的制备 | 第10-11页 |
| 1.3 研究进展 | 第11-12页 |
| 1.4 论文工作介绍 | 第12-14页 |
| 第二章 电子束蒸发制备TiO_2薄膜与薄膜检测方法 | 第14-22页 |
| 2.1 薄膜生长系统 | 第14-15页 |
| 2.1.1 衬底的清洗 | 第15页 |
| 2.1.2 TiO_2薄膜生长 | 第15页 |
| 2.2 AFM测量 | 第15-17页 |
| 2.2.1 AFM的工作原理 | 第15-16页 |
| 2.2.2 AFM的工作模式 | 第16-17页 |
| 2.3 XRD测量 | 第17-18页 |
| 2.3.1 XRD的原理 | 第17-18页 |
| 2.3.2 XRD结构分析方法 | 第18页 |
| 2.4 椭圆偏振光谱偏测量 | 第18-21页 |
| 2.4.1 椭偏测量的原理 | 第18-19页 |
| 2.4.2 光学色散模型 | 第19-21页 |
| 2.5 小结 | 第21-22页 |
| 第三章 厚度对非晶态TiO_2薄膜光学性质的影响 | 第22-36页 |
| 3.1 薄膜的生长 | 第22-23页 |
| 3.2 样品的表征与测量 | 第23-26页 |
| 3.2.1 AFM测量 | 第23-25页 |
| 3.2.2 椭偏测量 | 第25-26页 |
| 3.3 结果与讨论 | 第26-35页 |
| 3.3.1 厚度对30 nm以下非晶态TiO_2薄膜光学性质的影响 | 第26-30页 |
| 3.3.2 非晶态TiO_2薄膜的折射率随厚度的变化关系 | 第30-35页 |
| 3.4 小结 | 第35-36页 |
| 第四章 厚度对晶态TiO_2薄膜晶体结构和光学性质的影响 | 第36-46页 |
| 4.1 薄膜的制备与表征 | 第36-37页 |
| 4.2 结果与讨论 | 第37-45页 |
| 4.2.1 TiO_2薄膜的表面形貌 | 第37-38页 |
| 4.2.2 TiO_2薄膜的结构 | 第38-40页 |
| 4.2.3 椭偏测量 | 第40-45页 |
| 4.3 小结 | 第45-46页 |
| 第五章 论文工作总结 | 第46-48页 |
| 参考文献 | 第48-54页 |
| 攻读硕士学位期间发表的论文 | 第54-55页 |
| 致谢 | 第55-56页 |
