CVD法生长石墨烯
| 摘要 | 第5-6页 |
| Abstract | 第6页 |
| 1 绪论 | 第9-24页 |
| 1.1 石墨烯的发现 | 第9-12页 |
| 1.2 石墨烯的主要性质 | 第12-16页 |
| 1.2.1 机械性质 | 第13页 |
| 1.2.2 能带特征 | 第13-14页 |
| 1.2.3 量子霍尔效应 | 第14-15页 |
| 1.2.4 导电特性 | 第15页 |
| 1.2.5 其他性质 | 第15-16页 |
| 1.3 石墨烯的应用前景 | 第16-18页 |
| 1.3.1 复合材料 | 第16页 |
| 1.3.2 电子产业 | 第16-17页 |
| 1.3.3 燃料电池 | 第17页 |
| 1.3.4 功能化石墨烯 | 第17-18页 |
| 1.3.5 其他的应用领域 | 第18页 |
| 1.4 石墨烯的制备方法 | 第18-20页 |
| 1.4.1 机械剥离法 | 第18页 |
| 1.4.2 氧化还原法 | 第18-19页 |
| 1.4.3 加热SiC法 | 第19页 |
| 1.4.4 化学气相沉积法(CVD) | 第19页 |
| 1.4.5 其他的制备方法 | 第19-20页 |
| 1.5 硅纳米线的简单介 | 第20-21页 |
| 1.5.1 硅纳米线的制备及性质 | 第20-21页 |
| 1.5.2 硅纳米线的应用领域 | 第21页 |
| 1.6 本课题的研究背景以及研究意义 | 第21-24页 |
| 2 表征技术与实验手段 | 第24-31页 |
| 2.1 实验原理 | 第24-25页 |
| 2.1.1 石墨烯的生长原理 | 第24页 |
| 2.1.2 硅纳米线的生长原理 | 第24-25页 |
| 2.2 表征方法 | 第25-29页 |
| 2.2.1 拉曼光谱 | 第25-26页 |
| 2.2.2 XPS | 第26-28页 |
| 2.2.3 SEM | 第28-29页 |
| 2.3 实验装置 | 第29-31页 |
| 3 CVD法多衬底制备石墨烯 | 第31-44页 |
| 3.1 引言 | 第31页 |
| 3.2 实验 | 第31-33页 |
| 3.2.1 硅纳米线的制备 | 第31-32页 |
| 3.2.2 溅射镍膜 | 第32页 |
| 3.2.3 石墨烯样品的制备 | 第32-33页 |
| 3.3 实验结果与讨论 | 第33-43页 |
| 3.3.1 硅纳米线形貌 | 第33-35页 |
| 3.3.2 石墨烯的表征 | 第35-43页 |
| 3.4 结论 | 第43-44页 |
| 4 论文总结与展望 | 第44-45页 |
| 参考文献 | 第45-54页 |
| 致谢 | 第54页 |
