中文摘要 | 第3-4页 |
Abstract | 第4页 |
第1章 绪论 | 第8-18页 |
1.1 课题研究背景及研究目的意义 | 第8-9页 |
1.2 纳米氧化铁概述 | 第9-13页 |
1.2.1 氧化铁基本性质 | 第9-11页 |
1.2.2 纳米氧化铁的应用 | 第11-13页 |
1.3 气体传感器 | 第13-14页 |
1.3.1 气体传感器概述 | 第13页 |
1.3.2 金属氧化物半导体气体传感器 | 第13-14页 |
1.4 α-Fe_2O_3基气敏传感器国内外研究进展 | 第14-16页 |
1.4.1 α-Fe_2O_3基气敏传感器国内研究进展 | 第14-15页 |
1.4.2 α-Fe_2O_3基气敏传感器国外研究进展 | 第15-16页 |
1.5 论文主要内容 | 第16-17页 |
1.6 本章小结 | 第17-18页 |
第2章 纳米α-Fe_2O_3薄膜的制备及表征 | 第18-30页 |
2.1 溶胶-凝胶法 | 第18-19页 |
2.2 实验药品和实验仪器 | 第19-20页 |
2.2.1 实验药品 | 第19-20页 |
2.2.2 主要仪器 | 第20页 |
2.3 纳米α-Fe_2O_3薄膜的制备过程 | 第20-25页 |
2.3.1 基片预处理 | 第20-22页 |
2.3.2 胶体的制备 | 第22-23页 |
2.3.3 薄膜的退火工艺 | 第23-24页 |
2.3.4 实验工艺对α-Fe_2O_3薄膜影响 | 第24-25页 |
2.4 纳米α-Fe_2O_3薄膜的表征 | 第25-29页 |
2.4.1 X射线衍射分析(XRD) | 第25-26页 |
2.4.2 扫描电子显微镜分析(SEM) | 第26-28页 |
2.4.3 比表面积测试(BET) | 第28-29页 |
2.5 本章小结 | 第29-30页 |
第3章 Ni掺杂纳米α-Fe_2O_3薄膜的制备及表征 | 第30-36页 |
3.1 主要试剂和仪器 | 第30-31页 |
3.1.1 主要试剂 | 第30页 |
3.1.2 主要仪器 | 第30-31页 |
3.2 Ni掺杂纳米α-Fe_2O_3薄膜的制备过程 | 第31页 |
3.3 Ni掺杂纳米α-Fe_2O_3薄膜的表征 | 第31-35页 |
3.3.1 X射线衍射分析(XRD) | 第31-32页 |
3.3.2 扫描电子显微镜分析(SEM) | 第32-35页 |
3.3.3 比表面积测试(BET) | 第35页 |
3.4 本章小结 | 第35-36页 |
第4章 α-Fe_2O_3材料气敏机理与气敏元件制作 | 第36-45页 |
4.1 α-Fe_2O_3材料气敏机理 | 第36-39页 |
4.2 掺杂对α-Fe_2O_3气敏材料的影响 | 第39-40页 |
4.3 α-Fe_2O_3传感器设计与制备 | 第40-44页 |
4.3.1 α-Fe_2O_3传感器芯片设计 | 第40-41页 |
4.3.2 叉指电极的设计 | 第41-42页 |
4.3.3 传感器芯片制作工艺流程 | 第42-44页 |
4.4 本章小结 | 第44-45页 |
第5章 α-Fe_2O_3气敏材料性能测试与分析 | 第45-57页 |
5.1 气敏测试系统 | 第45-46页 |
5.2 气敏元件主要测试参数 | 第46-47页 |
5.2.1 元件电阻 | 第46页 |
5.2.2 灵敏度 | 第46页 |
5.2.3 选择性 | 第46-47页 |
5.2.4 响应和恢复时间 | 第47页 |
5.2.5 最佳工作温度 | 第47页 |
5.2.6 稳定性 | 第47页 |
5.3 α-Fe_2O_3材料对硫化氢气敏性能测试 | 第47-55页 |
5.3.1 退火温度对纳米α-Fe_2O_3气敏性能影响 | 第47-48页 |
5.3.2 Ni掺杂α-Fe_2O_3对硫化氢灵敏度测试 | 第48-49页 |
5.3.3 Ni掺杂α-Fe_2O_3薄膜最佳工作温度测试 | 第49-50页 |
5.3.4 Ni掺杂α-Fe_2O_3薄膜选择性测试 | 第50-53页 |
5.3.5 Ni掺杂α-Fe_2O_3薄膜响应和恢复时间测试 | 第53-54页 |
5.3.6 Ni掺杂α-Fe_2O_3薄膜稳定性测试 | 第54-55页 |
5.4 本章小结 | 第55-57页 |
结论 | 第57-59页 |
参考文献 | 第59-66页 |
致谢 | 第66-67页 |