| 摘要 | 第4-5页 |
| Abstract | 第5-6页 |
| 引言 | 第9-10页 |
| 1 文献综述 | 第10-19页 |
| 1.1 孔材料 | 第10-15页 |
| 1.1.1 孔材料概述 | 第10页 |
| 1.1.2 孔材料的分类 | 第10-14页 |
| 1.1.3 孔材料的表征 | 第14页 |
| 1.1.4 孔材料的研究现状 | 第14-15页 |
| 1.2 Jeffamine聚醚胺型高分子表面活性剂 | 第15-17页 |
| 1.2.1 表面活性剂的分类 | 第15-16页 |
| 1.2.2 高分子表面活性剂 | 第16页 |
| 1.2.3 高分子表面活性剂在孔材料合成方面的应用 | 第16-17页 |
| 1.2.4 Jeffamine聚醚胺型表面活性剂 | 第17页 |
| 1.3 本课题的研究目的与意义 | 第17-18页 |
| 1.4 本课题的研究内容 | 第18-19页 |
| 2 正交实验 | 第19-36页 |
| 2.1 实验部分 | 第19-25页 |
| 2.1.1 实验试剂 | 第19页 |
| 2.1.2 实验仪器 | 第19-20页 |
| 2.1.3 高分子表面活性剂的合成 | 第20页 |
| 2.1.4 孔材料的合成 | 第20-22页 |
| 2.1.5 正交实验的设计 | 第22-24页 |
| 2.1.6 表征方法 | 第24-25页 |
| 2.2 结果与讨论 | 第25-34页 |
| 2.2.1 表面活性剂的合成 | 第25-28页 |
| 2.2.2 孔材料的合成 | 第28-34页 |
| 2.3 本章小结 | 第34-36页 |
| 3 反应条件的优化 | 第36-63页 |
| 3.1 实验部分 | 第36-38页 |
| 3.1.1 实验试剂 | 第36页 |
| 3.1.2 实验仪器 | 第36-37页 |
| 3.1.3 孔材料的合成 | 第37页 |
| 3.1.4 表征方法 | 第37-38页 |
| 3.2 结果与讨论 | 第38-62页 |
| 3.2.1 反应物摩尔比的优化 | 第38-44页 |
| 3.2.2 反应温度的优化 | 第44-46页 |
| 3.2.3 晶化温度的优化 | 第46-51页 |
| 3.2.4 pH值的优化 | 第51-53页 |
| 3.2.5 反应时间的优化 | 第53-55页 |
| 3.2.6 晶化时间的优化 | 第55-57页 |
| 3.2.7 添加无机盐合成多孔氧化硅材料 | 第57-59页 |
| 3.2.8 添加油酸合成分散的氧化硅材料 | 第59-62页 |
| 3.3 本章小结 | 第62-63页 |
| 结论 | 第63-64页 |
| 参考文献 | 第64-68页 |
| 附录 ED2003-fa-16 核磁共振谱图 | 第68-69页 |
| 攻读硕士学位期间发表学术论文情况 | 第69-70页 |
| 致谢 | 第70页 |