摘要 | 第4-6页 |
Abstract | 第6-7页 |
第一章 绪论 | 第10-24页 |
1.1. 强流脉冲离子束(HIPIB)技术及应用 | 第10-13页 |
1.1.1. 强流脉冲离子束的技术原理 | 第11-12页 |
1.1.2 强流脉冲离子束技术在材料改性中的应用 | 第12-13页 |
1.2. 离子二极管的设计和原理 | 第13-21页 |
1.2.1. 真空离子二极管工作原理 | 第13-14页 |
1.2.2. 磁约束离子二极管 | 第14-15页 |
1.2.3 外磁绝缘离子二极管 | 第15-19页 |
1.2.4 自磁绝缘离子二极管 | 第19-21页 |
1.3. 本论文研究目的与内容 | 第21-24页 |
1.3.1. 强流脉冲离子束(HIPIB)研究现状 | 第21-22页 |
1.3.2. 研究目的 | 第22页 |
1.3.3. 研究内容 | 第22-24页 |
第二章 几何聚焦磁绝缘二极管强流脉冲离子束能量密度稳定性 | 第24-34页 |
2.1 实验装置与方法 | 第24-29页 |
2.1.1 实验装置 | 第24-27页 |
2.1.2 红外诊断方法 | 第27-29页 |
2.2. 实验结果 | 第29-33页 |
2.2.1 外磁绝缘离子二极管 | 第29-31页 |
2.2.2. 二极管中阴阳极间隙的作用 | 第31页 |
2.2.3 离子束偏差及其与靶上沉积的能量的关系 | 第31-33页 |
2.3 结论 | 第33-34页 |
第三章 TEMP-6型加速器反转开关引入外部触发信号放电稳定性研究 | 第34-44页 |
3.1 实验装置 | 第34页 |
3.2 传统双极脉冲模式下负脉冲持续时间不稳定性分析 | 第34-36页 |
3.3 双脉冲模式下脉冲形成线运行改进 | 第36-38页 |
3.4 PFL改进之后放电稳定性评价 | 第38-43页 |
3.4.1. PFL放电稳定性测试 | 第38-39页 |
3.4.2 二极管放电稳定性测试 | 第39-41页 |
3.4.3 HIPIB稳定性测试 | 第41-43页 |
3.5 结论 | 第43-44页 |
第四章 TEMP-6加速器磁绝缘双极脉冲HIPIB特性研究 | 第44-51页 |
4.1 束流密度和能量密度与阴极间距的关系 | 第44-48页 |
A.不同距离处的束流密度 | 第44-45页 |
B.不同距离处的能量密度 | 第45-48页 |
4.2 阴极表面能量分布与延迟时间关系 | 第48页 |
4.3 束流密度与延迟时间的关系 | 第48-50页 |
4.4 结论 | 第50-51页 |
第五章 总结 | 第51-53页 |
参考文献 | 第53-57页 |
攻读硕士期间发表学术论文情况 | 第57-58页 |
致谢 | 第58-59页 |