摘要 | 第5-6页 |
Abstract | 第6-7页 |
第1章 绪论 | 第10-16页 |
1.1 课题背景 | 第10-11页 |
1.2 纳米复合材料的制备方法 | 第11-12页 |
1.3 纳米材料改性PI薄膜的研究进展 | 第12-14页 |
1.4 研究意义及内容 | 第14-16页 |
1.4.1 研究意义 | 第14-15页 |
1.4.2 研究内容 | 第15-16页 |
第2章 改性纳米Al_2O_3杂化PI复合薄膜的制备 | 第16-23页 |
2.1 实验原理 | 第16-17页 |
2.1.1 改性纳米氧化物分散液的制备原理 | 第16页 |
2.1.2 聚酰亚胺的制备原理 | 第16-17页 |
2.2 主要原料及仪器设备 | 第17-19页 |
2.2.1 主要原料 | 第17-18页 |
2.2.2 原料的处理 | 第18-19页 |
2.2.3 仪器设备 | 第19页 |
2.3 杂化薄膜的制备 | 第19-22页 |
2.3.1 Zr-Ti改性的纳米氧化铝分散液的制备 | 第20页 |
2.3.2 聚酰胺酸的制备 | 第20-21页 |
2.3.3 铺膜及热亚胺化过程 | 第21-22页 |
2.4 本章小结 | 第22-23页 |
第3章 杂化薄膜的结构表征和介电性能测试 | 第23-37页 |
3.1 TEM测试 | 第23-25页 |
3.1.1 TEM理论简介 | 第23页 |
3.1.2 TEM测试结果及分析 | 第23-25页 |
3.2 电导电流测试 | 第25-30页 |
3.2.1 电导电流理论简介 | 第25-27页 |
3.2.2 测试方法 | 第27-28页 |
3.2.3 测试结果与分析 | 第28-30页 |
3.3 击穿性能测试 | 第30-36页 |
3.3.1 击穿理论简介 | 第30-31页 |
3.3.2 击穿测试方法 | 第31-32页 |
3.3.3 击穿测试结果及分析 | 第32-36页 |
3.4 本章小结 | 第36-37页 |
第4章 耐电晕性能测试 | 第37-48页 |
4.1 耐电晕理论简介 | 第37-38页 |
4.2 耐电晕测试方法 | 第38-39页 |
4.3 测试结果与分析 | 第39-47页 |
4.3.1 30℃下的耐电晕测试 | 第39-42页 |
4.3.2 温度对复合薄膜耐电晕性能的影响 | 第42-45页 |
4.3.3 梯度场强下的耐电晕测试 | 第45-47页 |
4.4 本章小结 | 第47-48页 |
结论 | 第48-49页 |
参考文献 | 第49-54页 |
攻读学位期间发表的学术论文 | 第54-55页 |
致谢 | 第55页 |