二维过渡金属氧化物（TiO2,WO3）的氢化及其光催化性能研究
| 摘要 | 第4-6页 |
| Abstract | 第6-8页 |
| 第一章 研究背景及意义 | 第12-26页 |
| 1.1 研究背景 | 第12-13页 |
| 1.2 二维层状过渡金属氧化物 | 第13-15页 |
| 1.3 常用光催化剂及光催化机理 | 第15-20页 |
| 1.3.1 常用光催化剂 | 第15-16页 |
| 1.3.2 光催化反应机理 | 第16-19页 |
| 1.3.3 提升光催化活性的常用方法 | 第19-20页 |
| 1.4 过渡金属氧化物光催化剂的氢化方法 | 第20-24页 |
| 1.4.1 二氧化钛的氢化制备方法 | 第21-22页 |
| 1.4.1.1 氢气高温热处理 | 第21页 |
| 1.4.1.2 氢等离子体处理 | 第21页 |
| 1.4.1.3 化学还原 | 第21-22页 |
| 1.4.1.4 化学氧化 | 第22页 |
| 1.4.1.5 电化学还原 | 第22页 |
| 1.4.2 其它光催化材料的氢化制备 | 第22-24页 |
| 1.4.2.1 氢化三氧化钨纳米片 | 第22-23页 |
| 1.4.2.2 黑色纳米氧化锌 | 第23-24页 |
| 1.5 本课题的研究内容及意义 | 第24-26页 |
| 第二章 二氧化钛纳米片的氢化及光催化性能的研究 | 第26-42页 |
| 2.1 引言 | 第26-27页 |
| 2.2 实验试剂及仪器 | 第27-28页 |
| 2.3 实验过程 | 第28-30页 |
| 2.3.1 超薄二氧化钛纳米片的制备 | 第28页 |
| 2.3.2 超薄黑色二氧化钛纳米片的制备 | 第28-29页 |
| 2.3.3 光催化制氢性能的测试 | 第29页 |
| 2.3.4 光催化降解性能的测试 | 第29-30页 |
| 2.3.5 光电极的制备 | 第30页 |
| 2.3.6 光电流密度的测试 | 第30页 |
| 2.4 实验结果与讨论 | 第30-40页 |
| 2.4.1 氢化温度的影响 | 第30-31页 |
| 2.4.2 结构形貌表征 | 第31-33页 |
| 2.4.3 氢化对样品晶体结构的影响 | 第33页 |
| 2.4.4 氢化对样品化学结构及可见光吸收的影响 | 第33-35页 |
| 2.4.5 氢化对二氧化钛纳米片能带结构的影响 | 第35-39页 |
| 2.4.6 光催化、光电催化性能的表征 | 第39-40页 |
| 2.5 本章小结 | 第40-42页 |
| 第三章 三氧化钨纳米片的氢化及光催化性能的研究 | 第42-54页 |
| 3.1 前言 | 第42-43页 |
| 3.2 实验试剂及仪器 | 第43-44页 |
| 3.3 实验过程 | 第44-45页 |
| 3.3.1 超薄二氧化钛纳米片的制备 | 第44页 |
| 3.3.2 氢化三氧化钨纳米片的制备 | 第44页 |
| 3.3.3 光催化降解性能的测试 | 第44页 |
| 3.3.4 光电极的制备 | 第44-45页 |
| 3.3.5 光电流密度的测试 | 第45页 |
| 3.4 实验结果与讨论 | 第45-53页 |
| 3.4.1 样品形貌表征 | 第45-46页 |
| 3.4.2 退火对氢化过程的影响 | 第46-47页 |
| 3.4.3 氢化对三氧化钨纳米片晶体结构的影响 | 第47-48页 |
| 3.4.4 氢化对三氧化钨纳米片化学结构的影响 | 第48-49页 |
| 3.4.5 氢化对三氧化钨纳米片可见光吸收的影响 | 第49-50页 |
| 3.4.6 氢化对三氧化钨纳米片能带结构的影响 | 第50-52页 |
| 3.4.7 光电流密度和光催化降解性能表征 | 第52-53页 |
| 3.5 本章小结 | 第53-54页 |
| 第四章 结论与展望 | 第54-56页 |
| 参考文献 | 第56-67页 |
| 致谢 | 第67-68页 |
| 个人简历和攻读硕士期间发表的论文 | 第68页 |
