摘要 | 第4-5页 |
abstract | 第5页 |
第一章 绪论 | 第9-14页 |
1.1 引言 | 第9页 |
1.2 课题研究背景 | 第9-12页 |
1.2.1 质谱技术的发展历程 | 第9-10页 |
1.2.2 质谱技术的特点 | 第10-11页 |
1.2.3 质谱技术的应用 | 第11页 |
1.2.4 小型化质谱仪的发展 | 第11-12页 |
1.3 研究目的与意义 | 第12-13页 |
1.4 研究方案与行文思路 | 第13-14页 |
第二章 实验理论基础 | 第14-27页 |
2.1 质谱仪与质谱技术 | 第14-15页 |
2.1.1 质谱法概论 | 第14页 |
2.1.2 质谱仪基础 | 第14-15页 |
2.2 质量分析器原理及矩形离子阱原理 | 第15-17页 |
2.2.1 几种常见质量分析器 | 第15-16页 |
2.2.2 线性离子阱 | 第16-17页 |
2.3 离子源原理及辉光放电离子源原理 | 第17-20页 |
2.3.1 几种常见离子源 | 第17-18页 |
2.3.2 辉光放电离子源 | 第18-20页 |
2.4 数字离子阱技术 | 第20-25页 |
2.4.1 数字离子阱技术发展 | 第20-23页 |
2.4.2 数字离子阱理论依据 | 第23-25页 |
2.5 低质量截止(LMCO)现象 | 第25-27页 |
第三章 小型数字离子阱质谱平台搭建及测试 | 第27-41页 |
3.1 真空系统 | 第27-30页 |
3.1.1 真空腔体 | 第27-29页 |
3.1.2 机械泵 | 第29-30页 |
3.1.3 涡轮分子泵 | 第30页 |
3.2 离子源与进样系统 | 第30-32页 |
3.2.1 纳升电喷雾离子化与大气压化学方式测试 | 第30-31页 |
3.2.2 辉光放电离子源 | 第31-32页 |
3.3 质量分析系统 | 第32-33页 |
3.3.1 质量分析器 | 第32页 |
3.3.2 检测器 | 第32-33页 |
3.3.3 小信号放大装置 | 第33页 |
3.4 数字电路中控系统 | 第33-35页 |
3.4.1 高频高压转换开关 | 第33-34页 |
3.4.2 中控电路 | 第34-35页 |
3.5 电信号供应 | 第35-37页 |
3.5.1 离子阱前后极板直流电压供应 | 第35-36页 |
3.5.2 离子阱射频信号及共振激发信号供应 | 第36页 |
3.5.3 检测器负高压供应 | 第36-37页 |
3.6 上位机软件控制系统 | 第37-38页 |
3.7 射频屏蔽 | 第38-39页 |
3.8 系统实现与基本测试结果 | 第39-41页 |
第四章 气相样品实时检测实验 | 第41-49页 |
4.1 样品准备 | 第41页 |
4.2 辉光放电离子源性能调控 | 第41-43页 |
4.2.1 放电位置对离子化效率的影响 | 第42页 |
4.2.2 放电功率选择 | 第42-43页 |
4.3 气相样品实时检测实验 | 第43-45页 |
4.3.1 单独样品检测 | 第43-44页 |
4.3.2 混合样品检测 | 第44-45页 |
4.4 小型数字离子阱质谱仪性能评测 | 第45-49页 |
4.4.1 共振激发信号与扫描速度对离子强度的影响 | 第45-46页 |
4.4.2 低质量端分辨率 | 第46-47页 |
4.4.3 小型数字离子阱质谱与传统小型质谱的分辨率比较 | 第47-49页 |
结论 | 第49-50页 |
参考文献 | 第50-56页 |
致谢 | 第56页 |