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小型数字离子阱质谱仪研发

摘要第4-5页
abstract第5页
第一章 绪论第9-14页
    1.1 引言第9页
    1.2 课题研究背景第9-12页
        1.2.1 质谱技术的发展历程第9-10页
        1.2.2 质谱技术的特点第10-11页
        1.2.3 质谱技术的应用第11页
        1.2.4 小型化质谱仪的发展第11-12页
    1.3 研究目的与意义第12-13页
    1.4 研究方案与行文思路第13-14页
第二章 实验理论基础第14-27页
    2.1 质谱仪与质谱技术第14-15页
        2.1.1 质谱法概论第14页
        2.1.2 质谱仪基础第14-15页
    2.2 质量分析器原理及矩形离子阱原理第15-17页
        2.2.1 几种常见质量分析器第15-16页
        2.2.2 线性离子阱第16-17页
    2.3 离子源原理及辉光放电离子源原理第17-20页
        2.3.1 几种常见离子源第17-18页
        2.3.2 辉光放电离子源第18-20页
    2.4 数字离子阱技术第20-25页
        2.4.1 数字离子阱技术发展第20-23页
        2.4.2 数字离子阱理论依据第23-25页
    2.5 低质量截止(LMCO)现象第25-27页
第三章 小型数字离子阱质谱平台搭建及测试第27-41页
    3.1 真空系统第27-30页
        3.1.1 真空腔体第27-29页
        3.1.2 机械泵第29-30页
        3.1.3 涡轮分子泵第30页
    3.2 离子源与进样系统第30-32页
        3.2.1 纳升电喷雾离子化与大气压化学方式测试第30-31页
        3.2.2 辉光放电离子源第31-32页
    3.3 质量分析系统第32-33页
        3.3.1 质量分析器第32页
        3.3.2 检测器第32-33页
        3.3.3 小信号放大装置第33页
    3.4 数字电路中控系统第33-35页
        3.4.1 高频高压转换开关第33-34页
        3.4.2 中控电路第34-35页
    3.5 电信号供应第35-37页
        3.5.1 离子阱前后极板直流电压供应第35-36页
        3.5.2 离子阱射频信号及共振激发信号供应第36页
        3.5.3 检测器负高压供应第36-37页
    3.6 上位机软件控制系统第37-38页
    3.7 射频屏蔽第38-39页
    3.8 系统实现与基本测试结果第39-41页
第四章 气相样品实时检测实验第41-49页
    4.1 样品准备第41页
    4.2 辉光放电离子源性能调控第41-43页
        4.2.1 放电位置对离子化效率的影响第42页
        4.2.2 放电功率选择第42-43页
    4.3 气相样品实时检测实验第43-45页
        4.3.1 单独样品检测第43-44页
        4.3.2 混合样品检测第44-45页
    4.4 小型数字离子阱质谱仪性能评测第45-49页
        4.4.1 共振激发信号与扫描速度对离子强度的影响第45-46页
        4.4.2 低质量端分辨率第46-47页
        4.4.3 小型数字离子阱质谱与传统小型质谱的分辨率比较第47-49页
结论第49-50页
参考文献第50-56页
致谢第56页

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