| 致谢 | 第4-6页 |
| 摘要 | 第6-8页 |
| Abstract | 第8-9页 |
| 第一章 绪论 | 第12-54页 |
| 1.1 引言 | 第12-13页 |
| 1.2 器件基本结构、工作原理和性能表征 | 第13-16页 |
| 1.3 有机半导体材料 | 第16-35页 |
| 1.3.1 P-型有机半导体材料 | 第16-23页 |
| 1.3.1.1 稠环芳香烃及其衍生物 | 第16-18页 |
| 1.3.1.2 硫杂稠环及其衍生物 | 第18-21页 |
| 1.3.1.3 氮杂稠环及其衍生物 | 第21-23页 |
| 1.3.2 N-型有机半导体材料 | 第23-28页 |
| 1.3.2.1 含氟的N-型有机小分子材料 | 第24页 |
| 1.3.2.2 含氰基的N-型有机小分子材料 | 第24-25页 |
| 1.3.2.3 含羰基的N-型有机小分子材料 | 第25页 |
| 1.3.2.4 酰亚胺类N-型有机小分子材料 | 第25-28页 |
| 1.3.3 P-型有机聚合物材料 | 第28-30页 |
| 1.3.4 N-型有机聚合物材料 | 第30-31页 |
| 1.3.5 双极性半导体材料 | 第31-35页 |
| 1.3.5.1 通过化学修饰将单极性材料变为双极性材料 | 第32页 |
| 1.3.5.2 具有D-A结构的双极性材料 | 第32-35页 |
| 1.4 有机场效应晶体管器件的制备 | 第35-38页 |
| 1.4.1 有机场效应晶体管薄膜的制备 | 第35-37页 |
| 1.4.1.1 真空蒸镀法 | 第35-36页 |
| 1.4.1.2 旋涂法和滴注法 | 第36页 |
| 1.4.1.3 Langmuir-Blodgett (LB)技术 | 第36-37页 |
| 1.4.1.4 喷墨打印技术 | 第37页 |
| 1.4.2 有机场效应晶体管单晶的制备 | 第37-38页 |
| 1.4.2.1 物理气相传输法 | 第37-38页 |
| 1.4.2.2 溶液法 | 第38页 |
| 1.5 现存问题与发展趋势 | 第38-39页 |
| 1.6 论文选题依据 | 第39-41页 |
| 参考文献 | 第41-54页 |
| 第二章 芘体系小分子有机半导体材料的性能研究 | 第54-71页 |
| 2.1 引言 | 第54-56页 |
| 2.2 实验仪器与方法 | 第56-57页 |
| 2.2.1 实验仪器和试剂 | 第56页 |
| 2.2.2 SiO_2表面清洗与修饰 | 第56-57页 |
| 2.3 结果与讨论 | 第57-66页 |
| 2.3.1 化合物TPhOP、TPhSP、TPhSeP的单晶性质 | 第57-59页 |
| 2.3.2 化合物TPhOP、TPhSP、TPhSeP的热学性能 | 第59-60页 |
| 2.3.3 化合物TPhOP、TPhSP、TPhSeP的光物理性能 | 第60-61页 |
| 2.3.4 化合物TPhOP、TPhSP、TPhSeP的电化学性能 | 第61-63页 |
| 2.3.5 化合物TPhOP、TPhSP、TPhSeP薄膜场效应晶体管性能 | 第63-65页 |
| 2.3.6 化合物TPhOP、TPhSP、TPhSeP薄膜形貌表征 | 第65-66页 |
| 2.4 本章小结 | 第66-68页 |
| 参考文献 | 第68-71页 |
| 第三章 萘体系小分子有机半导体材料的性能研究 | 第71-82页 |
| 3.1 引言 | 第71-72页 |
| 3.2 实验仪器与方法 | 第72-73页 |
| 3.2.1 实验仪器 | 第72页 |
| 3.2.2 SiO_2表面清洗与修饰 | 第72-73页 |
| 3.2.3 薄膜器件制备 | 第73页 |
| 3.3 结果与讨论 | 第73-78页 |
| 3.3.1 化合物 2YBN、2XBN、2QBN的热学性能 | 第73-74页 |
| 3.3.2 化合物 2YBN、2XBN、2QBN的光物理性能 | 第74-75页 |
| 3.3.3 化合物 2YBN、2XBN、2QBN的电化学性能 | 第75-76页 |
| 3.3.4 化合物 2YBN、2XBN、2QBN薄膜场效应晶体管性能 | 第76-78页 |
| 3.3.5 化合物 2YBN、2XBN、2QBN薄膜形貌表征 | 第78页 |
| 3.4 本章小结 | 第78-80页 |
| 参考文献 | 第80-82页 |
| 第四章 新型并吡咯二酮（DPP）基双极性聚合物半导体材料的性能研究 | 第82-100页 |
| 4.1 引言 | 第82-83页 |
| 4.2 实验仪器与方法 | 第83-85页 |
| 4.2.1 实验仪器 | 第83-84页 |
| 4.2.2 SiO_2表面清洗与修饰 | 第84-85页 |
| 4.3 结果与讨论 | 第85-95页 |
| 4.3.1 聚合物的热学性质 | 第85页 |
| 4.3.2 聚合物的光物理性能 | 第85-86页 |
| 4.3.3 聚合物的电化学性能 | 第86-89页 |
| 4.3.4 聚合物的薄膜场效应晶体管性能 | 第89-93页 |
| 4.3.5 聚合物薄膜形貌表征 | 第93-95页 |
| 4.4 本章小结 | 第95-96页 |
| 参考文献 | 第96-100页 |
| 第五章 总结与展望 | 第100-102页 |
| 5.1 论文总结 | 第100-101页 |
| 5.2 工作展望 | 第101-102页 |
| 发表的论文 | 第102-103页 |
| 作者简历 | 第103页 |
