| 摘要 | 第4-5页 |
| ABSTRACT | 第5-6页 |
| 注释表 | 第11-12页 |
| 缩略词 | 第12-13页 |
| 第一章 绪论 | 第13-25页 |
| 1.1 引言 | 第13-14页 |
| 1.2 氧化锆陶瓷性质与研究现状 | 第14-19页 |
| 1.2.1 氧化锆陶瓷性质与应用 | 第14-16页 |
| 1.2.2 氧化锆陶瓷的制备方法 | 第16-17页 |
| 1.2.3 氧化锆陶瓷加工的国内外研究现状 | 第17-19页 |
| 1.3 固结磨料研磨技术 | 第19-22页 |
| 1.3.1 固结磨料研磨技术简介 | 第19-20页 |
| 1.3.2 固结磨料研磨技术应用现状 | 第20-22页 |
| 1.4 本文主要研究内容 | 第22-25页 |
| 第二章 单晶金刚石研磨氧化锆陶瓷背板研究 | 第25-41页 |
| 2.1 引言 | 第25页 |
| 2.2 固结磨料研磨垫的制备及研磨实验流程 | 第25-30页 |
| 2.2.1 实验材料 | 第25-26页 |
| 2.2.2 实验设备 | 第26-28页 |
| 2.2.3 固结磨料研磨垫的制备流程 | 第28-29页 |
| 2.2.4 研磨实验流程 | 第29-30页 |
| 2.3 金刚石粒径对FAP加工性能的影响 | 第30-33页 |
| 2.3.1 实验设计 | 第30页 |
| 2.3.2 金刚石粒径对材料去除率的影响 | 第30-31页 |
| 2.3.3 金刚石粒径对表面粗糙度的影响 | 第31-32页 |
| 2.3.4 金刚石粒径对表面形貌的影响 | 第32-33页 |
| 2.4 碳化硅砂浆粒径对FAP加工性能的影响 | 第33-36页 |
| 2.4.1 实验设计 | 第33-34页 |
| 2.4.2 碳化硅砂浆粒径对材料去除率的影响 | 第34-35页 |
| 2.4.3 碳化硅砂浆粒径对表面粗糙度的影响 | 第35页 |
| 2.4.4 碳化硅砂浆粒径对表面形貌的影响 | 第35-36页 |
| 2.5 碳化硅砂浆浓度对FAP加工性能的影响 | 第36-40页 |
| 2.5.1 实验设计 | 第37页 |
| 2.5.2 碳化硅砂浆浓度对材料去除率的影响 | 第37-38页 |
| 2.5.3 碳化硅砂浆浓度对表面粗糙度的影响 | 第38-39页 |
| 2.5.4 碳化硅砂浆浓度对表面形貌的影响 | 第39-40页 |
| 2.6 本章小结 | 第40-41页 |
| 第三章 金刚石聚集体研磨氧化锆陶瓷背板研究 | 第41-51页 |
| 3.1 引言 | 第41页 |
| 3.2 金刚石聚集体磨料的制备 | 第41-43页 |
| 3.2.1 实验材料及设备 | 第41-42页 |
| 3.2.2 金刚石聚集体磨料制备流程 | 第42-43页 |
| 3.3 金刚石聚集体磨粒的表面形貌 | 第43-44页 |
| 3.4 原始粒径对金刚石聚集体研磨氧化锆陶瓷背板的影响 | 第44-49页 |
| 3.4.1 实验设计 | 第44-45页 |
| 3.4.2 原始粒径对材料去除率的影响 | 第45-46页 |
| 3.4.3 原始粒径对表面粗糙度的影响 | 第46-47页 |
| 3.4.4 原始粒径对表面形貌的影响 | 第47-49页 |
| 3.5 本章小结 | 第49-51页 |
| 第四章 氧化锆陶瓷背板研磨工艺参数优化 | 第51-60页 |
| 4.1 引言 | 第51页 |
| 4.2 工艺优化的实验设计 | 第51-52页 |
| 4.3 研磨工艺参数对材料去除率的影响 | 第52-54页 |
| 4.4 工艺参数对表面粗糙度的影响 | 第54-57页 |
| 4.5 工艺参数对表面形貌的影响 | 第57-58页 |
| 4.6 综合优化及实验验证 | 第58-59页 |
| 4.7 本章小结 | 第59-60页 |
| 第五章 总结与展望 | 第60-62页 |
| 5.1 总结 | 第60-61页 |
| 5.2 展望 | 第61-62页 |
| 参考文献 | 第62-67页 |
| 致谢 | 第67-68页 |
| 在校期间的成果及发表的学术论文 | 第68页 |