频率0.3THz Orotron器件中关键技术研究

摘要	第1-5页
ABSTRACT	第5-9页
第一章 绪论	第9-15页
·研究的背景和意义	第9-10页
·Orotron 器件国内外研究与应用动态	第10-13页
·本论文主要工作	第13-15页
第二章 片状电子注相关理论研究	第15-22页
·强流电子光学	第15-16页
·强流电子光学与弱流电子光学	第15页
·强流电子光学基本方程	第15-16页
·片状电子注在均匀磁场中运动时的轨迹方程	第16-21页
·片状电子注的布虚定理	第16-19页
·片状注电子在均匀磁场中运动时的电子轨迹	第19-21页
·本章小结	第21-22页
第三章 片状注双阳极电子枪粒子模拟	第22-45页
·引言	第22页
·片状注电子枪的基本原理	第22-24页
·片状注双阳极电子枪二维粒子模拟	第24-33页
·片状注双阳极电子枪二维模型建立	第24-27页
·系统参数变化对输出电流的影响	第27-32页
·优化结果	第32-33页
·片状注双阳极电子枪三维粒子模拟	第33-43页
·片状注双阳极电子枪三维模型的建立	第33-35页
·系统参数变化对输出电流的影响	第35-43页
·本章小结	第43-45页
第四章 准光学开放式谐振腔理论分析及模拟仿真	第45-59页
·引言	第45页
·准光学开放式谐振腔的谐振频率	第45-46页
·准光学开放式谐振腔的场分布求解	第46-48页
·300GHz 开放式准光学谐振腔的设计	第48-51页
·准光学开放式谐振腔品质因数求解	第51页
·准光学开放式谐振腔三维仿真	第51-56页
·谐振腔三维模型建立	第51-52页
·谐振腔三维仿真	第52-56页
·准光学谐振腔频谱分析	第56-57页
·本章小结	第57-59页
第五章 总结	第59-60页
致谢	第60-61页
参考文献	第61-64页
攻硕期间取得的成果	第64-65页