| 1 绪论 | 第9-21页 |
| 1.1 类金刚石膜 | 第9-18页 |
| 1.1.1 类金刚石膜的结构 | 第9-10页 |
| 1.1.2 类金刚石膜发展史 | 第10-11页 |
| 1.1.3 类金刚石膜的制备方法 | 第11-14页 |
| 1.1.3.1 物理气相沉积 | 第11-12页 |
| 1.1.3.2 化学气相沉积 | 第12-14页 |
| 1.1.4 类金刚石薄膜的性能和应用 | 第14-17页 |
| 1.1.4.1 类金刚石膜的性能 | 第14-15页 |
| 1.1.4.2 类金刚石膜的应用 | 第15-17页 |
| 1.1.5 类金刚石膜技术目前存在的主要问题 | 第17-18页 |
| 1.2 研究课题的提出 | 第18-19页 |
| 1.3 课题研究内容 | 第19-21页 |
| 2 氟化类金刚石膜的制备与表征方法 | 第21-30页 |
| 2.1 制备方法 | 第21-23页 |
| 2.1.1 微波ECR等离子体源的原理和特点 | 第21-22页 |
| 2.1.2 PSII技术 | 第22页 |
| 2.1.3 ECR-PECVD技术 | 第22-23页 |
| 2.2 氟化类金刚表征方法 | 第23-29页 |
| 2.2.1 傅立叶变换红外吸收光谱(FT-IR) | 第23-24页 |
| 2.2.2 拉曼光谱(Raman) | 第24-25页 |
| 2.2.3 俄歇电子能谱(AES) | 第25-26页 |
| 2.2.4 扫描电子显微镜-电子能谱分析(SEM)和透射电子显微衍射(TEM) | 第26页 |
| 2.2.5 原子力显微镜分析(AFM) | 第26-27页 |
| 2.2.6 憎水性能的测试 | 第27-28页 |
| 2.2.7 硬度的测试 | 第28页 |
| 2.2.8 结合力的测试 | 第28页 |
| 2.2.9 耐蚀性能的测试 | 第28-29页 |
| 2.3 本章小结 | 第29-30页 |
| 3 实验设备和工艺 | 第30-41页 |
| 3.1 实验设备 | 第30-32页 |
| 3.2 实验材料的选择 | 第32页 |
| 3.3 实验前处理 | 第32-33页 |
| 3.4 全方位离子注入(PSII)制备氟化类金刚石膜 | 第33-36页 |
| 3.4.1 工艺流程 | 第33-34页 |
| 3.4.2 工艺参数的选择 | 第34-36页 |
| 3.5 微波等离子体辅助化学气相沉积(CVD)制备氟化金刚石膜 | 第36-37页 |
| 3.5.1 工艺流程 | 第36页 |
| 3.5.2 工艺参数的选择 | 第36-37页 |
| 3.6 PSII+CVD两种方法结合制备氟化金刚石膜 | 第37页 |
| 3.6.1 工艺流程 | 第37页 |
| 3.6.2 工艺参数的选择 | 第37页 |
| 3.7 过渡层的制备 | 第37-39页 |
| 3.7.1 硅膜过渡层 | 第37-38页 |
| 3.7.1.1 工艺流程 | 第37-38页 |
| 3.7.2.2 工艺参数的选择 | 第38页 |
| 3.7.2 类金刚石膜过渡层 | 第38-39页 |
| 3.7.1.1 工艺流程 | 第38页 |
| 3.7.2.2 工艺参数的选择 | 第38-39页 |
| 3.8 四种工艺方法的比较 | 第39-40页 |
| 3.9 本章小结 | 第40-41页 |
| 4 氟化类金刚石膜的结构表征 | 第41-56页 |
| 4.1 傅立叶变换红外吸收光谱分析 | 第41-50页 |
| 4.1.1 PSII工艺参数对FDLC膜结构的影响 | 第41-46页 |
| 4.1.1.1 源气体的种类和流量 | 第41-46页 |
| 4.1.2 CVD工艺参数对FDLC膜结构的影响 | 第46-47页 |
| 4.1.3 PSII+CVD工艺参数对FDLC膜结构的影响 | 第47-48页 |
| 4.1.4 过渡层对FDLC膜结构的影响 | 第48-50页 |
| 4.1.4.1 硅膜过渡层 | 第48-49页 |
| 4.1.4.2 DLC过渡层(PSII+PSII+CVD) | 第49-50页 |
| 4.2 拉曼光谱分析(Raman) | 第50-52页 |
| 4.3 俄歇电子能谱分析(AES) | 第52-53页 |
| 4.4 电子能谱分析 | 第53-55页 |
| 4.5 本章小结 | 第55-56页 |
| 5 氟化类金刚石膜性能的测试和表面形貌的分析 | 第56-76页 |
| 5.1 憎水性能分析 | 第56-65页 |
| 5.1.1 PSII工艺参数对薄膜接触角的影响 | 第56-62页 |
| 5.1.2 CVD工艺参数对薄膜接触角的影响 | 第62-63页 |
| 5.1.3 不同过渡层对薄膜接触角的影响 | 第63-64页 |
| 5.1.4 不同制备方法对薄膜接触角的影响 | 第64-65页 |
| 5.2 耐蚀性能的测试 | 第65-67页 |
| 5.3 表面形貌分析 | 第67-71页 |
| 5.3.1 透射电子显微镜衍射(TEM) | 第67-68页 |
| 5.3.2 扫描电子显微镜(SEM) | 第68-69页 |
| 5.3.3 原子力显微镜(AFM) | 第69-71页 |
| 5.3 硬度和结合力的分析 | 第71页 |
| 5.4 硬度和结合力的分析 | 第71-74页 |
| 5.4.1 显微硬度 | 第71-72页 |
| 5.4.2 薄膜结合力测试 | 第72-73页 |
| 5.4.3 摩擦磨损 | 第73-74页 |
| 5.5 本章小结 | 第74-76页 |
| 6 结论 | 第76-77页 |
| 参考文献 | 第77-80页 |
| 致谢 | 第80-82页 |
