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实时成像研究Sn/Cu钎焊界面反应动力学及机制

摘要第4-5页
Abstract第5-6页
1 绪论第17-40页
    1.1 电子封装发展趋势及微互连技术现状第17-21页
        1.1.1 电子封装技术第17-19页
        1.1.2 无铅钎焊技术第19-21页
    1.2 钎焊界面反应机理研究现状第21-37页
        1.2.1 经典界面反应IMC生长理论第22-26页
        1.2.2 钎焊过程金属间化合物Ag_3Sn生长行为第26-29页
        1.2.3 钎焊界面孔洞缺陷情况下的界面反应第29-32页
        1.2.4 电迁移影响下的界面反应第32-35页
        1.2.5 热迁移影响下的界面反应第35-37页
    1.3 同步辐射实时成像技术在材料领域中的应用第37-38页
        1.3.1 同步辐射实时成像技术发展第37页
        1.3.2 同步辐射实时成像技术在材料领域的应用第37-38页
    1.4 本文主要研究思路与内容第38-40页
2 样品制备与实验方法第40-47页
    2.1 钎料合金及焊点制备第40页
        2.1.1 实验材料准备第40页
        2.1.2 界面反应焊点制备第40页
    2.2 高压空气清除液态钎料实验第40-42页
    2.3 同步辐射实时成像在线观测第42-46页
        2.3.1 钎焊界面反应行为在线实时观测第43页
        2.3.2 液/固电迁移对钎焊界面反应影响的在线实时观测第43-44页
        2.3.3 液/固热迁移对钎焊界面反应影响的在线实时观测第44-46页
    2.4 测试与分析第46-47页
3 基于同步辐射实时成像研究Sn/Cu钎焊保温阶段界面反应机理第47-73页
    3.1 钎焊保温阶段Cu溶解动力学第47-52页
    3.2 钎焊保温阶段界面IMC形貌演变第52-58页
    3.3 钎焊保温阶段界面IMC生长动力学第58-60页
    3.4 钎焊保温阶段界面反应机理第60-71页
        3.4.1 同步辐射实时成像原位观测界面IMC吞并行为第60-66页
        3.4.2 界面IMC生长机制第66-69页
        3.4.3 界面IMC吞并对铜基体溶解的影响第69-71页
    3.5 本章小结第71-73页
4 基于同步辐射实时成像研究Sn/Cu钎焊冷却阶段界面反应机理第73-101页
    4.1 冷却速率对界面IMC生长行为的影响第73-88页
        4.1.1 缓慢冷却条件下界面IMC生长行为第73-83页
        4.1.2 不同冷却速率对界面IMC生长行为影响第83-88页
    4.2 钎焊冷却阶段界面IMC生长机制第88-96页
    4.3 再回流过程中界面IMC演变机制第96-99页
    4.4 本章小结第99-101页
5 基于同步辐射实时成像研究相关因素对Sn/Cu钎焊界面反应的影响第101-138页
    5.1 Ag_3Sn生长机制及对界面反应的影响第101-108页
    5.2 钎焊过程界面气泡演变机制及对界面反应的影响第108-117页
    5.3 液/固电迁移对钎焊界面反应的影响第117-127页
    5.4 液/固热迁移对钎焊界面反应的影响第127-136页
    5.5 本章小结第136-138页
6 结论与展望第138-141页
    6.1 结论第138-139页
    6.2 创新点第139-140页
    6.3 展望第140-141页
参考文献第141-153页
攻读博士学位期间科研项目及科研成果第153-155页
致谢第155-156页
作者简介第156页

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