中文摘要 | 第5-6页 |
Abstract | 第6-7页 |
第一章 概述 | 第10-24页 |
1.1 水环境中抗生素的污染概况 | 第10-13页 |
1.1.1 抗生素的分类 | 第10-11页 |
1.1.2 水环境中抗生素的来源 | 第11-12页 |
1.1.3 水环境中抗生素的危害 | 第12-13页 |
1.1.4 土霉素的理化性质 | 第13页 |
1.2 抗生素废水的治理技术研究现状 | 第13-18页 |
1.2.1 物化法 | 第14-15页 |
1.2.2 生物法 | 第15-17页 |
1.2.3 高级氧化法 | 第17-18页 |
1.3 高压脉冲放电等离子体技术 | 第18-23页 |
1.3.1 等离子体基本概念和分类 | 第18-19页 |
1.3.2 等离子体技术去除污染物的机理 | 第19-20页 |
1.3.3 低温等离子体产生方式 | 第20-21页 |
1.3.4 低温等离子体反应器类型 | 第21-22页 |
1.3.5 脉冲放电等离子体水处理技术国内外研究进展 | 第22-23页 |
1.4 论文研究目的和研究内容 | 第23-24页 |
1.4.1 研究目的 | 第23页 |
1.4.2 研究内容 | 第23-24页 |
第二章 实验材料及实验方法 | 第24-30页 |
2.1 实验试剂 | 第24-25页 |
2.1.1 实验目标降解物 | 第24页 |
2.1.2 实验所用试剂 | 第24-25页 |
2.2 实验装置及仪器 | 第25-26页 |
2.2.1 实验装置 | 第25-26页 |
2.2.2 实验仪器 | 第26页 |
2.3 实验方法及分析测试方法 | 第26-29页 |
2.3.1 实验方法 | 第26-27页 |
2.3.2 实验分析测试方法 | 第27-29页 |
2.4 本章小结 | 第29-30页 |
第三章 高压脉冲放电等离子体去除水中土霉素的实验研究 | 第30-44页 |
3.1 引言 | 第30页 |
3.2 初始实验条件研究 | 第30-32页 |
3.2.1 针孔大小对土霉素去除率的影响 | 第30-31页 |
3.2.2 测定时间对土霉素去除率的影响 | 第31-32页 |
3.3 反应器工艺参数对土霉素去除率的影响 | 第32-35页 |
3.3.1 输出功率对土霉素去除率的影响 | 第32-33页 |
3.3.2 空气流量对土霉素去除率的影响 | 第33-34页 |
3.3.3 电极间距对土霉素去除率的影响 | 第34-35页 |
3.4 溶液初始参数对土霉素去除率的影响 | 第35-39页 |
3.4.1 初始浓度对土霉素去除率的影响 | 第35-36页 |
3.4.2 初始pH值对土霉素去除率的影响 | 第36-38页 |
3.4.3 初始电导率对土霉素去除率的影响 | 第38-39页 |
3.5 添加物对土霉素去除率的影响 | 第39-42页 |
3.5.1 添加Fe~(2+)对土霉素去除率的影响 | 第39-40页 |
3.5.2 添加腐植酸对土霉素去除率的影响 | 第40-41页 |
3.5.3 添加H_2O_2对土霉素去除率的影响 | 第41-42页 |
3.6 本章小结 | 第42-44页 |
第四章 土霉素的降解机理及降解产物分析 | 第44-57页 |
4.1 引言 | 第44页 |
4.2 土霉素降解过程中溶液pH值的变化 | 第44-45页 |
4.3 土霉素降解过程中溶液电导率的变化 | 第45-46页 |
4.4 羟基自由基在土霉素降解过程中的作用 | 第46-47页 |
4.5 土霉素降解过程中TOC的变化 | 第47-49页 |
4.6 土霉素降解过程中UV-Vis分析 | 第49页 |
4.7 土霉素降解产物及降解途径分析 | 第49-55页 |
4.7.1 土霉素的降解产物分析 | 第49-54页 |
4.7.2 土霉素的降解途径分析 | 第54-55页 |
4.8 本章小结 | 第55-57页 |
第五章 结论与展望 | 第57-60页 |
5.1 实验结论 | 第57-58页 |
5.2 存在问题与展望 | 第58-60页 |
参考文献 | 第60-65页 |
附录:攻读硕士学位期间主要的工作成绩 | 第65-66页 |
致谢 | 第66-67页 |