| 摘要 | 第4-5页 |
| ABSTRACT | 第5-6页 |
| 第一章 绪论 | 第10-19页 |
| 1.1 前言 | 第10-12页 |
| 1.1.1 薄膜材料概述 | 第10-11页 |
| 1.1.2 氮化锌薄膜的国内外研究现状 | 第11-12页 |
| 1.2 氮化锌薄膜的性质 | 第12-14页 |
| 1.2.1 氮化锌的晶格结构 | 第12-13页 |
| 1.2.2 氮化锌的光学性质 | 第13-14页 |
| 1.2.3 氮化锌的电学性质 | 第14页 |
| 1.2.4 氮化锌的热氧化性质 | 第14页 |
| 1.3 研究的主要内容及意义 | 第14-16页 |
| 参考文献 | 第16-19页 |
| 第二章 氮化锌薄膜的制备方法 | 第19-25页 |
| 2.1 热蒸发法 | 第19-20页 |
| 2.2 分子束外延 | 第20-21页 |
| 2.3 有机化学气相沉积 | 第21页 |
| 2.4 脉冲激光沉积法 | 第21-22页 |
| 2.5 反应磁控溅射法 | 第22-24页 |
| 2.5.1 反应磁控溅射的工作原理 | 第22-23页 |
| 2.5.2 反应磁控溅射法的优点 | 第23页 |
| 2.5.3 反应磁控溅射技术的发展趋势 | 第23-24页 |
| 参考文献 | 第24-25页 |
| 第三章 薄膜的表征技术 | 第25-38页 |
| 3.1 X射线衍射（XRD） | 第25-27页 |
| 3.1.1 X射线的原理 | 第25-26页 |
| 3.1.2 X射线的应用 | 第26页 |
| 3.1.3 XRD的分析方法 | 第26-27页 |
| 3.2 原子力显微镜 | 第27-30页 |
| 3.2.1 AFM的工作原理 | 第27页 |
| 3.2.2 AFM的系统组成 | 第27-28页 |
| 3.2.3 AFM的工作模式 | 第28-30页 |
| 3.3 棱镜耦合法 | 第30-37页 |
| 3.3.1 棱镜耦合的原理 | 第30-32页 |
| 3.3.2 棱镜耦合法激发光波导中导模 | 第32-33页 |
| 3.3.3 有效折射率的计算 | 第33-35页 |
| 3.3.4 波导参数：薄膜厚度和薄膜折射率的计算原理 | 第35-36页 |
| 3.3.5 Metricon Model 2010 棱镜耦合仪 | 第36-37页 |
| 参考文献 | 第37-38页 |
| 第四章 制备工艺对Zn_3N_2薄膜性质的影响 | 第38-64页 |
| 4.1Zn_3N_2薄膜的制备 | 第38-42页 |
| 4.1.1Zn_3N_2薄膜的制备系统 | 第38-40页 |
| 4.1.2 主要实验材料 | 第40页 |
| 4.1.3 薄膜样品的制备 | 第40-41页 |
| 4.1.4 薄膜样品的制备参数 | 第41-42页 |
| 4.2 Zn_3N_2薄膜的XRD分析 | 第42-51页 |
| 4.2.1 衬底类型对Zn_3N_2薄膜的晶格结构影响 | 第42-45页 |
| 4.2.2 衬底温度对Zn_3N_2薄膜的晶格影响 | 第45-48页 |
| 4.2.3 氮气比例对Zn_3N_2薄膜的晶格结构影响 | 第48-51页 |
| 4.3 Zn_3N_2薄膜的表面形貌特征分析 | 第51-58页 |
| 4.3.1 衬底类型对Zn_3N_2薄膜表面形貌的影响 | 第51-53页 |
| 4.3.2 实验温度对Zn_3N_2薄膜表面形貌的影响 | 第53-56页 |
| 4.3.3 氮气比例对Zn_3N_2薄膜表面形貌的影响 | 第56-58页 |
| 4.4 Zn_3N_2薄膜的光波导特性分析 | 第58-63页 |
| 参考文献 | 第63-64页 |
| 第五章 总结与展望 | 第64-66页 |
| 5.1 主要成果 | 第64页 |
| 5.2 主要创新点 | 第64-65页 |
| 5.3 展望 | 第65-66页 |
| 致谢 | 第66-67页 |
| 攻读硕士学位期间论文发表及科研情况 | 第67页 |
