纯镁微弧氧化膜层形成过程研究
| 摘要 | 第4-5页 |
| Abstract | 第5-6页 |
| 第一章 绪论 | 第9-21页 |
| 1.1 选题背景及意义 | 第9-11页 |
| 1.2 微弧氧化技术 | 第11-15页 |
| 1.2.1 微弧氧化的基本原理 | 第11页 |
| 1.2.2 微弧氧化技术特点 | 第11-12页 |
| 1.2.3 微弧氧化的影响因素 | 第12-14页 |
| 1.2.4 镁合金微弧氧化技术研究方向 | 第14-15页 |
| 1.3 微弧氧化成膜过程的研究进展 | 第15-19页 |
| 1.4 本文的研究目的和研究内容 | 第19-21页 |
| 第二章 实验方法及材料 | 第21-25页 |
| 2.1 实验材料 | 第21页 |
| 2.2 实验设备 | 第21页 |
| 2.3 实验过程 | 第21-23页 |
| 2.3.1 试样制备 | 第21-22页 |
| 2.3.2 实验方案 | 第22-23页 |
| 2.4 技术路线 | 第23-24页 |
| 2.5 膜层性能表征 | 第24-25页 |
| 第三章 微弧氧化膜层微观形貌及元素分布 | 第25-45页 |
| 3.1 膜层表观形貌分析 | 第25页 |
| 3.2 膜层表面微观形貌分析 | 第25-33页 |
| 3.3 膜层表面元素分布分析 | 第33-39页 |
| 3.4 膜层截面微观形貌及元素分布分析 | 第39-43页 |
| 3.5 本章小结 | 第43-45页 |
| 第四章 微弧氧化膜层形成过程讨论 | 第45-50页 |
| 4.1 膜层形成过程讨论 | 第45-48页 |
| 4.2 本章小结 | 第48-50页 |
| 结论 | 第50-51页 |
| 展望 | 第51-52页 |
| 参考文献 | 第52-56页 |
| 攻读硕士学位期间取得的研究成果 | 第56-57页 |
| 致谢 | 第57页 |
