| 摘要 | 第4-6页 |
| Abstract | 第6-7页 |
| 第1章 绪论 | 第10-30页 |
| 1.1 石墨烯的发现 | 第10-11页 |
| 1.2 石墨烯的基本机构和独特性质 | 第11-14页 |
| 1.2.1 石墨烯的基本结构 | 第11页 |
| 1.2.2 石墨烯的电学性质 | 第11-13页 |
| 1.2.3 石墨烯的光学特性 | 第13页 |
| 1.2.4 石墨烯的热学和力学特性 | 第13-14页 |
| 1.3 石墨烯的制备方法 | 第14-17页 |
| 1.3.1 机械剥离法 | 第14-15页 |
| 1.3.2 化学气相沉积法CVD | 第15页 |
| 1.3.3 碳化硅（SiC）外延生长法 | 第15-16页 |
| 1.3.4 化学氧化还原法 | 第16-17页 |
| 1.4 石墨烯的表征方法 | 第17-22页 |
| 1.4.1 光学显微镜 | 第17-19页 |
| 1.4.2 扫描电子显微镜SEM | 第19页 |
| 1.4.3 透射电子显微镜TEM | 第19-20页 |
| 1.4.4 拉曼光谱 | 第20-21页 |
| 1.4.5 场效应器件和霍尔器件 | 第21-22页 |
| 1.5 石墨烯的应用 | 第22-27页 |
| 1.5.1 石墨烯场效应器件 | 第22-23页 |
| 1.5.2 石墨烯透明电极 | 第23-25页 |
| 1.5.3 石墨烯探测器 | 第25-26页 |
| 1.5.4 石墨烯太阳能电池 | 第26-27页 |
| 1.6 本文的主要研究内容和创新点 | 第27-30页 |
| 第2章液态铜上石墨烯的制备原理和转移 | 第30-38页 |
| 2.1 化学气相沉积石墨烯的原理 | 第30-31页 |
| 2.2 液态铜上化学气相沉积石墨烯的原理与优点 | 第31-33页 |
| 2.3 冷壁垂直式化学气相沉积系统 | 第33-34页 |
| 2.4 石墨烯的转移 | 第34-37页 |
| 2.4.1 铜箔上石墨烯的转移方法 | 第34-37页 |
| 2.4.2 液态铜上石墨烯的转移方法 | 第37页 |
| 2.5 本章小结 | 第37-38页 |
| 第3章 液态铜上快速化学气相沉积石墨烯及表征 | 第38-50页 |
| 3.1 石墨烯生长前铜箔和钨箔的处理 | 第38-39页 |
| 3.2 快速化学气相沉积石墨烯的具体步骤 | 第39-41页 |
| 3.2.1 铜箔上快速制备石墨烯步骤 | 第39页 |
| 3.2.2 液态铜快速制备石墨烯步骤 | 第39-41页 |
| 3.3 石墨烯的表征 | 第41-48页 |
| 3.3.1 液态铜上生长石墨烯的光学显微镜图片分析 | 第41-46页 |
| 3.3.2 液态铜上生长石墨烯的扫描电镜图片分析 | 第46页 |
| 3.3.3 液态铜上石墨烯的拉曼光谱图分析 | 第46-47页 |
| 3.3.4 液态铜与铜箔上生长的石墨烯相比较 | 第47-48页 |
| 3.4 本章小结 | 第48-50页 |
| 第4章 背栅石墨烯场效应管的制备与测试分析 | 第50-58页 |
| 4.1 背栅石墨烯场效应管的制备 | 第50-52页 |
| 4.2 背栅石墨烯场效应管的测试与分析 | 第52-56页 |
| 4.3 本章小结 | 第56-58页 |
| 结论 | 第58-60页 |
| 参考文献 | 第60-66页 |
| 攻读硕士学位期间所发表的学术论文 | 第66-68页 |
| 致谢 | 第68页 |