| 摘要 | 第4-5页 |
| abstract | 第5-6页 |
| 第一章 绪论 | 第9-20页 |
| 1.1 TiAl合金的特点 | 第9-11页 |
| 1.2 提高TiAl合金抗高温氧化性能的方法 | 第11-15页 |
| 1.2.1 TiAl合金的合金化 | 第11-12页 |
| 1.2.2 表面处理 | 第12-15页 |
| 1.3 微弧氧化技术 | 第15-18页 |
| 1.3.1 微弧氧化技术特点 | 第15-16页 |
| 1.3.2 影响微弧氧化膜层的主要因素 | 第16-17页 |
| 1.3.3 微弧氧化技术制备抗高温氧化膜层的研究进展 | 第17-18页 |
| 1.4 本文的研究目的和研究意义 | 第18-19页 |
| 1.5 本文的主要研究内容 | 第19-20页 |
| 第二章 试验材料与试验方法 | 第20-26页 |
| 2.1 试验材料与试样预处理 | 第20-21页 |
| 2.1.1 试验材料 | 第20页 |
| 2.1.2 试验化学药品 | 第20页 |
| 2.1.3 试样预处理 | 第20-21页 |
| 2.2 微弧氧化处理 | 第21-23页 |
| 2.2.1 试验装置 | 第21-22页 |
| 2.2.2 微弧氧化工艺参数设计 | 第22-23页 |
| 2.3 微弧氧化膜层结构与成分分析 | 第23-24页 |
| 2.4 微弧氧化膜层性能测试 | 第24-25页 |
| 2.5 本文的技术路线 | 第25-26页 |
| 第三章 TiAl合金含ZrO_2微弧氧化膜层的生长特性 | 第26-33页 |
| 3.1 电解液的配制 | 第26页 |
| 3.2 微弧氧化膜层的生长过程 | 第26-27页 |
| 3.3 微弧氧化膜层的表面形貌 | 第27-29页 |
| 3.4 微弧氧化膜层的截面形貌和元素分布 | 第29-30页 |
| 3.5 微弧氧化膜层的相组成 | 第30-32页 |
| 3.6 本章小结 | 第32-33页 |
| 第四章 工艺参数对TiAl合金含ZrO_2微弧氧化膜层相组成和结构的影响 | 第33-43页 |
| 4.1 电压对TiAl合金含ZrO_2微弧氧化膜层相组成和结构的影响 | 第33-36页 |
| 4.1.1 电压对TiAl合金含ZrO_2微弧氧化膜层相组成的影响 | 第33-34页 |
| 4.1.2 电压对TiAl合金含ZrO_2微弧氧化膜层形貌的影响 | 第34-36页 |
| 4.2 微弧氧化时间对TiAl合金含ZrO_2微弧氧化膜层相组成和结构的影响 | 第36-39页 |
| 4.2.1 微弧氧化时间对TiAl合金含ZrO_2微弧氧化膜层相组成的影响 | 第36-37页 |
| 4.2.2 微弧氧化时间对TiAl合金含ZrO_2微弧氧化膜层形貌的影响 | 第37-39页 |
| 4.3 锆盐浓度对TiAl合金含ZrO_2微弧氧化膜层相组成和结构的影响 | 第39-42页 |
| 4.3.1 锆盐浓度对TiAl合金含ZrO_2微弧氧化膜层相组成的影响 | 第39-40页 |
| 4.3.2 锆盐浓度对TiAl合金含ZrO_2微弧氧化膜层形貌的影响 | 第40-42页 |
| 4.4 本章小结 | 第42-43页 |
| 第五章 TiAl合金含ZrO_2微弧氧化膜层的高温氧化行为和热震行为 | 第43-60页 |
| 5.1 TiAl合金含ZrO_2微弧氧化膜层在900℃下的高温氧化行为 | 第43-56页 |
| 5.1.1 高温氧化动力学 | 第43-46页 |
| 5.1.2 高温氧化后膜层相组成 | 第46-48页 |
| 5.1.3 高温氧化后膜层表面形貌的变化 | 第48-49页 |
| 5.1.4 高温氧化后的截面形貌 | 第49-52页 |
| 5.1.5 高温氧化产物分析 | 第52-56页 |
| 5.2 TiAl合金含ZrO_2微弧氧化膜层的热震性能 | 第56-59页 |
| 5.2.1 TiAl合金含ZrO_2微弧氧化膜层的热震性能测试 | 第56-57页 |
| 5.2.2 热震试验后膜层的形貌和相组成 | 第57-59页 |
| 5.3 本章小结 | 第59-60页 |
| 结论 | 第60-61页 |
| 参考文献 | 第61-67页 |
| 攻读学位期间取得的研究成果 | 第67-68页 |
| 致谢 | 第68页 |
