流动聚焦液滴生成技术研究
摘要 | 第5-7页 |
ABSTRACT | 第7-9页 |
第1章 绪论 | 第16-32页 |
1.1 液滴微流控技术 | 第16-29页 |
1.1.1 技术特征 | 第16-17页 |
1.1.2 液滴的生成 | 第17-20页 |
1.1.3 液滴的传输 | 第20-21页 |
1.1.4 液滴筛选与捕获 | 第21-22页 |
1.1.5 液滴融合 | 第22-24页 |
1.1.6 应用领域 | 第24-29页 |
1.2 流动聚焦结构中液滴的行为研究 | 第29-30页 |
1.3 本文的研究内容 | 第30-32页 |
第2章 微芯片的加工 | 第32-40页 |
2.1 引言 | 第32-33页 |
2.2 改进的软光刻-浇注法制作微管道芯片 | 第33-38页 |
2.2.1 实验设备及药物描述 | 第34-35页 |
2.2.2 掩膜板的设计 | 第35页 |
2.2.3 匀胶 | 第35-36页 |
2.2.4 前烘 | 第36页 |
2.2.5 曝光 | 第36页 |
2.2.6 后烘 | 第36页 |
2.2.7 显影 | 第36-37页 |
2.2.8 硬烘 | 第37页 |
2.2.9 浇注 | 第37页 |
2.2.10 键合 | 第37-38页 |
2.2.11 后处理 | 第38页 |
2.3 本章小结 | 第38-40页 |
第3章 流聚装置中液滴的生成 | 第40-68页 |
3.1 引言 | 第40页 |
3.2 液滴动力学基础知识 | 第40-43页 |
3.2.1 无量纲参数 | 第40-41页 |
3.2.2 润湿现象 | 第41-42页 |
3.2.3 液滴流阻 | 第42-43页 |
3.3 参数化实验研究 | 第43-59页 |
3.3.1 几何参数的影响 | 第43-49页 |
3.3.2 流体性质的影响 | 第49-52页 |
3.3.3 两相毛细数的影响 | 第52-59页 |
3.4 水平集方法模拟 | 第59-66页 |
3.4.1 水平集方法理论介绍 | 第59-60页 |
3.4.2 流场参数的细化讨论 | 第60-66页 |
3.5 本章小结 | 第66-68页 |
第4章 流聚装置中的非线性现象 | 第68-78页 |
4.1 引言 | 第68-69页 |
4.2 高流速下的分叉 | 第69-70页 |
4.3 低流速下的分叉现象 | 第70-75页 |
4.4 本章小结 | 第75-78页 |
第5章 基于液滴技术的相关应用 | 第78-94页 |
5.1 基于磁场的液滴生成技术 | 第78-87页 |
5.1.1 磁性颗粒的合成和表征 | 第78-80页 |
5.1.2 局域场的影响 | 第80-87页 |
5.2 磁性液滴的分离 | 第87-89页 |
5.3 单分散颗粒的合成 | 第89-91页 |
5.4 液滴的分裂 | 第91-92页 |
5.5 本章小结 | 第92-94页 |
第6章 总结和展望 | 第94-98页 |
6.1 全文总结与创新点 | 第94-95页 |
6.2 展望 | 第95-98页 |
参考文献 | 第98-108页 |
致谢 | 第108-110页 |
在读期间发表的学术论文与所取得的科研成果 | 第110页 |