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多层激光熔覆铌硅基自生复合材料显微组织研究

摘要第5-7页
Abstract第7-8页
第1章 绪论第12-26页
    1.1 研究背景第12-13页
    1.2 铌合金第13-14页
    1.3 铌-硅基自生复合材料及其制备技术第14-17页
    1.4 铌-硅基自生复合材料的研究进展第17-22页
        1.4.1 铌-硅基自生复合材料的成分设计第17-18页
        1.4.2 合金元素对铌-硅基自生复合材料组织和性能影响第18-22页
    1.5 激光表面工程与激光烙覆第22-24页
        1.5.1 激光烙覆特点第22-23页
        1.5.2 激光烙覆翰层研究现状第23-24页
            1.5.2.1 激光炼覆材料体系研究现状第23-24页
        1.5.3 多层激光炼覆铌-硅基自生复合材料含金元素的选择第24页
    1.6 本课题研究的目的及意义第24-26页
第2章 实验方法第26-34页
    2.1 实验设计第26页
    2.2 实验材料的选择第26-27页
        2.2.1 基体材料第26页
        2.2.2 激光烙覆材料第26-27页
    2.3 激光烙覆实验第27-32页
        2.3.1 实验设备第27-30页
        2.3.2 实验原理第30-31页
        2.3.3 YAG激光机实验参数第31页
        2.3.4 半导体激光器实验参数第31-32页
    2.4 实验检测方法及设备第32-34页
        2.4.1 涂层表面形貌和显微组织表征第32-33页
        2.4.2 涂层物相分析第33页
        2.4.3 涂层显微硬度测量第33页
        2.4.4 抗氧化性能测试第33-34页
第3章 YAG激光溶覆铌-硅基自生复合材料的研究第34-48页
    3.1 YAG激光单道烙覆参数的优化第34-35页
    3.2 YAG多道激光烙覆参数-搭接率的优化第35-36页
    3.3 YAG激光炼覆铌-硅基自生复合材料物相及显微组织分析第36-46页
        3.3.1 YAG激光烙覆Nb-18Si-24Ti (at.%)物相分析第36-38页
        3.3.2 YAG多层激光烙覆Nb-18Si-24Ti (at.%)显微组织分析第38-42页
        3.3.3 YAG激光烙覆Nb-18Si-24Ti-6Cr (at.%)的XRD分析第42-43页
        3.3.4 YAG多层激光烙覆Nb-18Si-24Ti-6Cr (at.%)显微组织分析第43-46页
    3.4 YAG激光烙覆铌-硅基自生复合材料硬度分析第46-48页
第4章 半导体激光爆覆铌-硅基自生复合材料的研究第48-80页
    4.1 半导体激光单道激光烙覆参数优化第48-49页
    4.2 半导体多层激光烙覆Nb-Si-Ti (Ti-Y)体系的研究第49-64页
        4.2.1半导体激光烙覆Nb-18Si-24Ti (at%)物相分析第52-53页
        4.2.2 半导体激光溶覆Nb-18Si-24Ti (at.%)显微组织分析第53-55页
        4.2.3 半导体激光烙覆Nb-18Si-24Ti-lY (at.%)物相分析第55-56页
        4.2.4 半导体激光烙覆Nb-18Si-24Ti-lY (at.%)的显微纽织分析第56-60页
        4.2.5 半导体激光烙覆Nb-Si-Ti基的TEM分析第60-64页
    4.3 半导体多层激光烙覆Nb-Si-Ti-Cr (Cr-Y)体系的研究第64-72页
        4.3.1 半导体激光烧覆Nb-Si-Ti-Cr基的XRD分析第64-65页
        4.3.2 半导体激光烙覆Nb-18Si-24Ti-6Cr (at.%)显微组织分析第65-67页
        4.3.3 半导体激光烙覆Nb-18Si-20Ti-10Cr (at.%)显微组织分析第67-69页
        4.3.4 半导体激光炼覆Nb-18Si-20Ti-10Cr-lY (at.%)显微组织分化第69-71页
        4.3.5 半导体激光炼覆Nb-Si-Ti-Cr (at.%)基的TEM分析第71-72页
    4.4 半导体多层激光炼覆铌-硅基自生复合材料硬度分析第72-73页
    4.5 半导体多层激光烙覆铌-硅基自生复合材料的抗氧化性能分析第73-80页
第5章 结论第80-82页
参考文献第82-88页
致谢第88页

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