| 摘要 | 第5-7页 |
| abstract | 第7-8页 |
| 第一章 绪论 | 第12-21页 |
| 1.1 引言 | 第12-13页 |
| 1.2 金属氧化物半导体气敏传感器 | 第13-14页 |
| 1.2.1 金属氧化物半导体气敏传感器简介 | 第13页 |
| 1.2.2 金属氧化物半导体气敏传感器的主要性能指标 | 第13-14页 |
| 1.3 CuO纳米材料概述 | 第14-18页 |
| 1.3.1 CuO纳米材料的性质 | 第14-15页 |
| 1.3.2 CuO纳米材料的应用 | 第15-16页 |
| 1.3.3 CuO纳米材料的制备方法 | 第16-17页 |
| 1.3.4 CuO纳米材料的表征手段 | 第17-18页 |
| 1.4 CuO气敏传感器 | 第18-19页 |
| 1.4.1 CuO气敏传感器的研究现状 | 第18-19页 |
| 1.4.2 CuO气敏传感器存在的问题及其发展方向 | 第19页 |
| 1.5 本课题的主要内容和创新性 | 第19-20页 |
| 1.6 论文结构安排 | 第20-21页 |
| 第二章 实验试剂与气敏测试仪器 | 第21-24页 |
| 2.1 实验试剂 | 第21页 |
| 2.2 气敏测试仪器组合 | 第21-23页 |
| 2.2.1 CuO半导体气敏传感器的构成 | 第21-22页 |
| 2.2.2 CuO半导体气敏传感器的气敏测试电路 | 第22-23页 |
| 2.2.3 CuO半导体气敏传感器的气敏测试平台 | 第23页 |
| 2.3 本章小结 | 第23-24页 |
| 第三章 基于CuO实心纳米片传感器的制备与其性能研究 | 第24-33页 |
| 3.1 CuO实心纳米片的制备 | 第24页 |
| 3.1.1 实验原材料 | 第24页 |
| 3.1.2 材料制备过程 | 第24页 |
| 3.2 材料表征 | 第24-26页 |
| 3.2.1 结构表征 | 第24-25页 |
| 3.2.2 形貌表征 | 第25-26页 |
| 3.3 传感器电学性能研究 | 第26页 |
| 3.4 传感器气敏性能研究 | 第26-31页 |
| 3.5 本章小结 | 第31-33页 |
| 第四章 CuO纳米花的制备及其气敏性能研究 | 第33-47页 |
| 4.1 氧化铜纳米花的制备 | 第33-34页 |
| 4.1.1 实验原材料 | 第33页 |
| 4.1.2 材料制备过程 | 第33-34页 |
| 4.2 氧化铜花状纳米结构的表征与分析 | 第34-37页 |
| 4.2.1 结构表征 | 第34页 |
| 4.2.2 形貌表征 | 第34-36页 |
| 4.2.3 XPS元素分析 | 第36-37页 |
| 4.3 UV-vis吸收光谱 | 第37-38页 |
| 4.4 CuO花状纳米结构的形成机理 | 第38页 |
| 4.5 电学性能分析 | 第38-39页 |
| 4.6 气敏性能研究 | 第39-43页 |
| 4.7 气敏感应机制 | 第43-46页 |
| 4.8 本章小结 | 第46-47页 |
| 第五章 叶状CuO纳米片的制备及其气敏性能研究 | 第47-60页 |
| 5.1 叶状氧化铜纳米片的制备 | 第47-48页 |
| 5.1.1 实验原材料 | 第47页 |
| 5.1.2 材料制备过程 | 第47-48页 |
| 5.2 氧化铜纳米材料的表征结果与讨论 | 第48-52页 |
| 5.2.1 形貌表征 | 第48-49页 |
| 5.2.2 物相表征 | 第49-50页 |
| 5.2.3 UV-vis吸收光谱分析 | 第50-52页 |
| 5.3 气敏性能研究 | 第52-59页 |
| 5.3.1 CuO半导体气敏传感器的响应恢复浓度分析 | 第52-53页 |
| 5.3.2 CuO半导体气敏传感器的响应恢复时间分析 | 第53-54页 |
| 5.3.3 CuO半导体气敏传感器的重复性分析 | 第54-55页 |
| 5.3.4 CuO半导体气敏传感器的长期稳定性分析 | 第55页 |
| 5.3.5 CuO半导体气敏传感器的选择性分析 | 第55-56页 |
| 5.3.6 气敏反应机制 | 第56-59页 |
| 5.4 本章小结 | 第59-60页 |
| 第六章 全文总结与展望 | 第60-62页 |
| 6.1 全文总结 | 第60-61页 |
| 6.2 展望 | 第61-62页 |
| 致谢 | 第62-63页 |
| 参考文献 | 第63-69页 |
| 攻读硕士学位期间取得的研究成果 | 第69-70页 |
