| 学位论文数据集 | 第4-5页 |
| 摘要 | 第5-7页 |
| ABSTRACT | 第7-8页 |
| 第一章 绪论 | 第13-19页 |
| 1.1 SPR传感器概述 | 第13页 |
| 1.2 SPR传感器的发展历史 | 第13-14页 |
| 1.3 SPR传感器的分类 | 第14-18页 |
| 1.3.1 棱镜耦合型SPR传感器 | 第14-16页 |
| 1.3.2 光纤耦合型SPR传感器 | 第16-17页 |
| 1.3.3 光栅耦合型SPR传感器 | 第17-18页 |
| 1.4 本章小结 | 第18-19页 |
| 第二章 SPR传感器的电磁学理论 | 第19-27页 |
| 2.1 金属与介质交界面的表面等离子激元 | 第19-21页 |
| 2.2 表面等离子激元共振条件 | 第21-23页 |
| 2.3 传统近似理论和薄膜光学特征矩阵法 | 第23-26页 |
| 2.3.1 传统近似理论 | 第23-25页 |
| 2.3.2 薄膜光学特征矩阵法 | 第25-26页 |
| 2.4 本章小结 | 第26-27页 |
| 第三章 SPR传感器的重要参数 | 第27-33页 |
| 3.1 共振角 | 第27-28页 |
| 3.2 共振角处反射率 | 第28页 |
| 3.3 灵敏度 | 第28-29页 |
| 3.4 线宽 | 第29-30页 |
| 3.5 品质因子 | 第30页 |
| 3.6 SPR传感器的金属薄膜 | 第30-31页 |
| 3.7 木章小结 | 第31-33页 |
| 第四章 用虚设层提高SPR传感器的品质因子 | 第33-39页 |
| 4.1 虚设层 | 第33-34页 |
| 4.2 氯化钾和氮化硅虚设层 | 第34-36页 |
| 4.3 数值模拟与结构讨论 | 第36-38页 |
| 4.4 本章小结 | 第38-39页 |
| 第五章 用多孔二氧化硅薄膜提高SPR传感器的品质因子 | 第39-51页 |
| 5.1 多孔二氧化硅薄膜 | 第39-40页 |
| 5.2 多孔二氧化硅薄膜的折射率与孔隙率的关系 | 第40-41页 |
| 5.3 多孔二氧化硅薄膜对SPR传感器的影响 | 第41-47页 |
| 5.3.1 孔隙率为20%的多孔二氧化硅薄膜 | 第41-43页 |
| 5.3.2 孔隙率为40%的多孔二氧化硅薄膜 | 第43-44页 |
| 5.3.3 孔隙率为60%的多孔二氧化硅薄膜 | 第44-45页 |
| 5.3.4 孔隙率为80%的多孔二氧化硅薄膜 | 第45-47页 |
| 5.3.5 模拟结果讨论 | 第47页 |
| 5.4 折射率与膜厚对品质因子的影响 | 第47-48页 |
| 5.5 本章小结 | 第48-51页 |
| 第六章 工作总结 | 第51-53页 |
| 参考文献 | 第53-57页 |
| 致谢 | 第57-59页 |
| 学术成果和发表的学术论文 | 第59-61页 |
| 作者和导师简介 | 第61-62页 |
| 硕士研究生学位论文答辩委员会决议书 | 第62-63页 |