| 摘要 | 第1-7页 |
| Abstract | 第7-13页 |
| 第一章 绪论 | 第13-45页 |
| ·铀分离方法 | 第13-21页 |
| ·化学沉淀法 | 第13-15页 |
| ·溶剂萃取法 | 第15-16页 |
| ·离子交换法 | 第16-17页 |
| ·吸附法 | 第17-21页 |
| ·其他方法 | 第21页 |
| ·离子印迹技术 | 第21-27页 |
| ·印迹反应体系的组成 | 第22-24页 |
| ·离子印迹聚合物的制备方法 | 第24-25页 |
| ·离子印迹聚合物的应用 | 第25-27页 |
| ·铀酰离子印迹聚合物的研究进展 | 第27-42页 |
| ·本体聚合法 | 第27-36页 |
| ·表面印迹法 | 第36-40页 |
| ·分散聚合法 | 第40页 |
| ·乳液聚合法 | 第40-41页 |
| ·其他方法 | 第41-42页 |
| ·本论文的研究内容 | 第42-45页 |
| 第二章 硅胶表面印迹聚合物的制备及性能研究 | 第45-59页 |
| ·引言 | 第45-46页 |
| ·实验部分 | 第46-51页 |
| ·试剂 | 第46页 |
| ·实验仪器 | 第46页 |
| ·硅胶的活化 | 第46页 |
| ·氨基功能化硅胶颗粒的制备 | 第46-47页 |
| ·烯基功能化硅胶颗粒的制备 | 第47页 |
| ·硅胶表面印迹和非印迹聚合物的制备 | 第47页 |
| ·产物的表征 | 第47-48页 |
| ·吸附实验 | 第48-51页 |
| ·结果与讨论 | 第51-58页 |
| ·印迹及非印迹聚合物的合成 | 第51-52页 |
| ·产物的表征 | 第52-54页 |
| ·印迹聚合物的吸附性能研究 | 第54-58页 |
| ·本章小结 | 第58-59页 |
| 第三章 预辐照表面引发接枝聚合制备印迹聚合物及性能研究 | 第59-77页 |
| ·引言 | 第59-60页 |
| ·实验部分 | 第60-66页 |
| ·试剂 | 第60页 |
| ·实验仪器 | 第60-61页 |
| ·硅胶的活化 | 第61页 |
| ·氨基功能化硅胶颗粒的制备 | 第61页 |
| ·氨基化硅胶颗粒的预辐照 | 第61页 |
| ·印迹聚合物的制备 | 第61-62页 |
| ·非印迹聚合物的制备 | 第62页 |
| ·产物的表征 | 第62-63页 |
| ·吸附实验 | 第63-66页 |
| ·结果与讨论 | 第66-74页 |
| ·印迹聚合物的合成与表征 | 第66-70页 |
| ·吸附实验 | 第70-74页 |
| ·本章小结 | 第74-77页 |
| 第四章 GO/SiO_2表面印迹聚合物的制备及性能研究 | 第77-95页 |
| ·引言 | 第77-78页 |
| ·实验部分 | 第78-84页 |
| ·试剂 | 第78页 |
| ·实验仪器 | 第78-79页 |
| ·硅胶包覆氧化石墨烯（GO/SiO_2）的制备 | 第79页 |
| ·氨基化硅胶包覆氧化石墨烯（GO/SiO_2-NH2）的制备 | 第79页 |
| ·烯基化硅胶包覆氧化石墨烯（GO/SiO_2-C=C）的制备 | 第79页 |
| ·表面印迹和非印迹聚合物的制备 | 第79-80页 |
| ·产物的表征 | 第80-81页 |
| ·吸附实验 | 第81-84页 |
| ·结果与讨论 | 第84-94页 |
| ·GO/SiO_2-IIP和GO/SiO_2-NIP的合成 | 第84-85页 |
| ·产物的表征 | 第85-88页 |
| ·印迹聚合物的吸附性能研究 | 第88-94页 |
| ·本章小结 | 第94-95页 |
| 第五章 总结与展望 | 第95-97页 |
| 参考文献 | 第97-127页 |
| 攻读博士学位期间发表论文 | 第127-129页 |
| 致谢 | 第129-130页 |
