MEMS微镜阵列单元设计研究
| 摘要 | 第1-6页 |
| ABSTRACT | 第6-10页 |
| 第1章 绪论 | 第10-17页 |
| ·微机电系统的概念描述与特点 | 第10-11页 |
| ·MEMS 起源和发展历程 | 第11-13页 |
| ·MEMS 典型应用及研究实例 | 第13-14页 |
| ·MEMS 微镜阵列简介 | 第13页 |
| ·微镜阵列在光通信领域中的应用 | 第13-14页 |
| ·微镜阵列在投影显示领域中的应用 | 第14页 |
| ·微镜阵列在国内外的研究现状 | 第14-16页 |
| ·国外的发展现状 | 第14-15页 |
| ·国内的发展现状 | 第15-16页 |
| ·本文主要内容 | 第16-17页 |
| 第2章 微机电系统理论基础 | 第17-27页 |
| ·微梁力学基础 | 第17-23页 |
| ·应力与应变 | 第18-19页 |
| ·悬臂梁弯曲分析 | 第19-22页 |
| ·悬臂梁扭转分析 | 第22-23页 |
| ·MEMS 微驱动器 | 第23-26页 |
| ·静电驱动方式 | 第24页 |
| ·压电驱动方式 | 第24-25页 |
| ·电磁驱动方式 | 第25-26页 |
| ·热驱动方式 | 第26页 |
| ·本章小结 | 第26-27页 |
| 第3章 微镜阵列单元设计与工作稳态分析 | 第27-41页 |
| ·引言 | 第27页 |
| ·结构模型及工作原理 | 第27-28页 |
| ·微镜单元尺寸设计 | 第28-32页 |
| ·微镜面的尺寸 | 第28-30页 |
| ·微镜单元的间距 | 第30页 |
| ·微镜支柱 | 第30-31页 |
| ·扭臂设计 | 第31页 |
| ·微镜单元设计尺寸 | 第31-32页 |
| ·微镜单元的静态模型 | 第32-40页 |
| ·静电力矩 | 第32-34页 |
| ·扭臂力矩 | 第34-35页 |
| ·微镜工作稳态分析 | 第35-38页 |
| ·几何参数对微镜单元稳态特性的影响 | 第38-40页 |
| ·本章小结 | 第40-41页 |
| 第4章 微镜阵列单元有限元模拟分析 | 第41-56页 |
| ·有限元及其在耦合场中的应用 | 第41-43页 |
| ·有限元的基本概念 | 第41页 |
| ·ANSYS 软件简介 | 第41-42页 |
| ·耦合场分析 | 第42-43页 |
| ·微镜单元的 ANSYA 分析步骤 | 第43-49页 |
| ·建立几何模型 | 第43-44页 |
| ·网格划分 | 第44-45页 |
| ·创建结构场和电场物理环境文件 | 第45-46页 |
| ·创建降阶模型 | 第46页 |
| ·有限元仿真参数化模型的建立 | 第46-49页 |
| ·有限元仿真结果分析 | 第49-55页 |
| ·模态分析 | 第49-52页 |
| ·谐响应分析 | 第52-54页 |
| ·微镜吸合特性分析 | 第54-55页 |
| ·本章小结 | 第55-56页 |
| 第5章 微镜阵列单元制作工艺流程设计 | 第56-69页 |
| ·微镜单元设计概述 | 第56-60页 |
| ·微镜单元设计材料选取 | 第56-57页 |
| ·微镜单元制备工艺流程 | 第57-60页 |
| ·下电极的制作 | 第60-62页 |
| ·光刻工艺 | 第60-61页 |
| ·下电极铝薄膜薄膜淀积 | 第61-62页 |
| ·金属线间绝缘层的布置 | 第62-64页 |
| ·二氧化硅绝缘层布置的技术要求 | 第62页 |
| ·化学气相沉积法制取二氧化硅 | 第62-63页 |
| ·二氧化硅的刻蚀 | 第63-64页 |
| ·镜面电极的制作 | 第64页 |
| ·悬浮微镜结构的制作 | 第64-67页 |
| ·牺牲层材料的选用要求 | 第64页 |
| ·牺牲层的选取 | 第64-65页 |
| ·运用聚铣亚胺旋涂牺牲层 | 第65-66页 |
| ·化学镀镍法制作微镜支柱 | 第66-67页 |
| ·牺牲层的释放 | 第67页 |
| ·本章小结 | 第67-69页 |
| 第6章 总结与展望 | 第69-71页 |
| ·全文总结 | 第69页 |
| ·工作展望 | 第69-71页 |
| 致谢 | 第71-72页 |
| 参考文献 | 第72-75页 |
| 附录 | 第75页 |
