基于2×1.7MV串列加速器的材料合成与分析研究
| 论文创新点 | 第1-7页 |
| 摘要 | 第7-9页 |
| Abstract | 第9-11页 |
| 引言 | 第11-16页 |
| 第一章 绪论 | 第16-51页 |
| ·加速器总体布局 | 第16-17页 |
| ·串列加速器 | 第17-22页 |
| ·串列加速器的发展 | 第17-18页 |
| ·串列加速器的组成部分 | 第18-19页 |
| ·静电串列加速器加速原理 | 第19-20页 |
| ·武汉大学2×1.7MV串列加速器 | 第20-22页 |
| ·双束靶室系统 | 第22-25页 |
| ·北京大学三束注入系统 | 第23-24页 |
| ·武汉大学双束辐照系统 | 第24-25页 |
| ·离子束分析 | 第25-49页 |
| ·带电粒子与物质相互作用的特征 | 第25-27页 |
| ·能量损失 | 第27-28页 |
| ·阻止截面 | 第28-30页 |
| ·能量歧离 | 第30-31页 |
| ·离子束分析方法概述 | 第31-32页 |
| ·卢瑟福背散射分析(RBS) | 第32-37页 |
| ·RBS沟道分析 | 第37-39页 |
| ·弹性反冲探测分析(ERD) | 第39-41页 |
| ·粒子激发x射线荧光分析(PIXE) | 第41-44页 |
| ·带电粒子核反应分析 | 第44-46页 |
| ·离子注入 | 第46-49页 |
| ·本章小结 | 第49-51页 |
| 第二章 铯溅射负离子源和高压系统 | 第51-70页 |
| ·离子源 | 第51-54页 |
| ·离子源中负离子的获得 | 第52-54页 |
| ·铯溅射负离子源 | 第54-61页 |
| ·铯溅射负离子源结构 | 第54-59页 |
| ·铯溅射负离子源电气结构及工作原理 | 第59-61页 |
| (1) 电气结构 | 第59-60页 |
| (2) 工作原理 | 第60-61页 |
| ·串列加速器的高压系统 | 第61-69页 |
| ·新加速管的检验与安装 | 第61-63页 |
| ·主高压的产生 | 第63-64页 |
| ·主高压的测量 | 第64-65页 |
| ·主高压校准 | 第65-67页 |
| ·高压检修和维护 | 第67-69页 |
| ·本章小结 | 第69-70页 |
| 第三章 低能团簇离子注入制备石墨烯 | 第70-83页 |
| ·研究目的及意义 | 第70页 |
| ·石墨烯制备方法 | 第70-72页 |
| ·低能团簇注入靶室 | 第72-75页 |
| ·碳团簇负离子束 | 第72-73页 |
| ·团簇靶室 | 第73-75页 |
| ·超薄碳膜的沉积 | 第75-76页 |
| ·石墨烯制备 | 第76-79页 |
| ·石墨烯成核机制 | 第79-82页 |
| ·本章小结 | 第82-83页 |
| 第四章 基本离子束分析 | 第83-103页 |
| ·概述 | 第83页 |
| ·离子束分析靶室及粒子探测系统 | 第83-86页 |
| ·分析靶室探测几何学 | 第83-84页 |
| ·粒子探测系统 | 第84-86页 |
| ·离子束分析谱相关软件 | 第86-87页 |
| ·RBS分析应用 | 第87-94页 |
| ·RBS能谱校准 | 第87-88页 |
| ·RBS分析举例 | 第88-94页 |
| ·背散射沟道分析 | 第94-97页 |
| ·ERD测量H元素 | 第97-99页 |
| ·NRA测量B元素 | 第99-101页 |
| ·本章小结 | 第101-103页 |
| 第五章 总结与展望 | 第103-106页 |
| 参考文献 | 第106-113页 |
| 攻读博士学位期间发表文章/专利 | 第113-116页 |
| 致谢 | 第116页 |
