| 中文摘要 | 第1-4页 |
| ABSTRACT | 第4-9页 |
| 第一章 绪论 | 第9-17页 |
| ·温室效应 | 第9-10页 |
| ·二氧化碳 | 第10-11页 |
| ·二氧化碳利用 | 第11-12页 |
| ·二氧化碳催化转化 | 第12-15页 |
| ·二氧化碳催化加氢 | 第12-14页 |
| ·甲烷二氧化碳重整制取合成气(CO+H_2) | 第14-15页 |
| ·论文工作内容介绍 | 第15-17页 |
| 第二章 密度泛函理论 | 第17-28页 |
| ·量子化学 | 第17-18页 |
| ·薛定谔方程 | 第18-19页 |
| ·变分原理 | 第19页 |
| ·Born-Oppenheimer 近似和单电子近似 | 第19-20页 |
| ·密度泛函理论 | 第20-22页 |
| ·量子化学计算所用软件 | 第22-23页 |
| ·赝势和投影扩充波势 | 第23-24页 |
| ·交换相关能函数 | 第24-25页 |
| ·基组 | 第25页 |
| ·几何结构优化算法介绍 | 第25-27页 |
| ·本论文理论计算工作所用计算机机群 | 第27-28页 |
| 第三章 等离子体技术及其在催化领域的应用 | 第28-34页 |
| ·等离子体技术 | 第28-30页 |
| ·等离子体技术在催化领域的应用 | 第30-34页 |
| 第四章 CO_2在γ-Al_2O_3表面的吸附和质子化过程:密度泛函研究 | 第34-56页 |
| ·引言 | 第34-35页 |
| ·计算方法和模型 | 第35-36页 |
| ·结果和讨论 | 第36-55页 |
| ·干燥 γ-Al_2O_3 面 | 第36-37页 |
| ·CO_2 在干燥 γ-Al_2O_3 面上的吸附 | 第37-43页 |
| ·干燥 γ-Al_2O_3 面的羟基化过程 | 第43-46页 |
| ·CO_2 在羟基化的 γ-Al_2O_3 面上的吸附 | 第46-51页 |
| ·吸附的 CO_2 的质子化过程 | 第51-53页 |
| ·讨论 | 第53-55页 |
| ·本章小节 | 第55-56页 |
| 第五章 CO_2 在 M2/γ-Al_2O_3 (M = Sc ~ Cu)上的吸附和活化:密度泛函研究 | 第56-73页 |
| ·引言 | 第56-57页 |
| ·计算方法和模型 | 第57页 |
| ·结果与讨论 | 第57-72页 |
| ·干燥 γ-Al_2O_3(110)面负载的 M2 | 第57-59页 |
| ·CO_2 在 D(M_2)上的吸附和活化 | 第59-64页 |
| ·羟基化 γ-Al_2O_3(110)面担载的 M2 | 第64-66页 |
| ·CO_2 在 H(M_2)上的吸附和活化 | 第66-69页 |
| ·讨论 | 第69-72页 |
| ·本章小结 | 第72-73页 |
| 第六章 具有高抗积碳性能的甲烷 CO_2重整 Ni/SiO_2催化剂的制备与表征 | 第73-89页 |
| ·引言 | 第73-74页 |
| ·实验方法 | 第74-78页 |
| ·催化剂制备 | 第74页 |
| ·催化剂活性评价 | 第74-76页 |
| ·催化剂表征 | 第76-78页 |
| ·程序升温还原 | 第76页 |
| ·程序升温氧化 | 第76页 |
| ·CO 化学吸附 | 第76页 |
| ·X-ray Powder Diffraction (XRD) | 第76-77页 |
| ·Transmission Electron Microscopy (TEM) | 第77页 |
| ·实验所用试剂、气体和仪器设备 | 第77-78页 |
| ·结果和讨论 | 第78-88页 |
| ·H_2-TPR 和 XRD | 第78-79页 |
| ·TEM 和 CO 化学吸附 | 第79-83页 |
| ·催化剂评价 | 第83-85页 |
| ·积碳形成 | 第85-88页 |
| ·本章小节 | 第88-89页 |
| 第七章 具有高抗积碳性能的甲烷 CO_2重整 Ni 基催化剂的程序升温研究 | 第89-97页 |
| ·引言 | 第89页 |
| ·实验方法 | 第89-90页 |
| ·结果与讨论 | 第90-96页 |
| ·本章小节 | 第96-97页 |
| 第八章 结论与创新点 | 第97-100页 |
| ·本论文主要结论 | 第97-99页 |
| ·本论文创新点 | 第99-100页 |
| 参考文献 | 第100-115页 |
| 参加科研及发表论文情况 | 第115-119页 |
| 致谢 | 第119页 |
